| 1 |
1
일 방향으로 나열되고, 적어도 일 영역이 중첩되도록 배치되는 복수의 박막; 및상기 일 방향을 따라 진행하여 상기 복수의 박막을 관통하는 전자빔을 발생시키는 가속기를 포함하고, 상기 복수의 박막이 중첩되는 적어도 일 영역 사이에 이격공간이 형성되며,상기 전자빔이 상기 복수의 박막 및 상기 이격공간을 관통하면 상기 이격공간 사이에서 극초단 테라헤르츠파가 발생되는 것을 특징으로 하는 극초단 테라헤르츠 발생장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 박막은 원판형으로 형성되고,상기 일방향으로 향할수록 상기 박막의 직경이 작아지는 것을 특징으로 하는 극초단 테라헤르츠 발생장치
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,각 박막의 중심을 일직선상에 배열되도록 상기 박막이 배치되고,상기 전자빔은 상기 중심들을 관통하도록 발생되는 것을 특징으로 하는 극초단 테라헤르츠 발생장치
|
| 4 |
4
제3항에 있어서, 상기 박막의 직경은 선형적으로 작아지며, 상기 박막의 가장자리를 이으면 원뿔형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 극초단 테라헤르츠 발생장치
|
| 5 |
5
제4항에 있어서, 상기 박막은 금속재질로 형성되고, 상기 이격공간에서 상기 전자빔이 도파되어 상기 일방향과 수직하는 방향으로 극초단 테라헤르츠파가 도파되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 극초단 테라헤르츠 발생장치
|
| 6 |
6
제5항에 있어서, 상기 이격공간의 가장자리에서 각각 방출되는 극초단 테라헤르츠파의 파면은 원뿔형태를 이루면서 합쳐져서, 상기 극초단 테라헤르츠파는 상기 원뿔형태의 파면을 유지하면서 방사되는 것을 특징으로 하는 극초단 테라헤르츠 발생장치
|
| 7 |
7
제5항에 있어서, 상기 이격공간 사이가 일정하도록 상기 박막들이 서로 평행하게 배치되는 것을 특징으로 하는 극초단 테라헤르츠 발생장치
|
| 8 |
8
제7항에 있어서, 상기 전자빔은 상기 박막에 수직하는 방향으로 진행하는 것을 특징으로 하는 극초단 테라헤르츠 발생장치
|
| 9 |
9
제1항에 있어서, 상기 이격공간은 진공이거나, 상기 이격공간에 유전체 물질이 충진되는 것을 특징으로 하는 극초단 테라헤르츠 발생장치
|
