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자성나노입자 기반으로 하는 방사성 세슘 제거용 흡착제의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015147669
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 자성나노입자 기반으로 하는 방사성 세슘(radioactive cesium) 제거용 흡착제의 제조방법에 관한 것으로서 보다 상세하게는 (1)상온의 반응기 내부에 철화합물 및 제1용매를 첨가하고 고온으로 상승시킨 후 열분해법에 의하여 자성나노입자를 제조한 후 반응기 내의 온도를 상온으로 낮추고 미반응물 및 제1용매를 제거하여 자성나노입자를 얻는 단계; (2)상기의 (1)단계에서 얻은 자성나노입자에 제2용매 및 실란 커플링제를 첨가하고 고온으로 상승시킨 후 반응시켜 반응물을 얻은 후 미반응물과 제2용매를 제거하고 건조하여 분말 형태의 반응물을 얻는 단계; (3)상기의 (2)단계에서 얻은 반응물을 증류수에 첨가하고 금속이온(metal ion)을 넣어 상온에서 반응시킨 다음 과량의 물을 첨가하고 세척한 다음 자기장(magnetic field)을 이용하여 자성나노입자를 회수하는 단계; (4)상기 (3)단계에서 회수한 자성나노입자를 증류수에 첨가한 후 페로시아나이드(ferrocyanide)를 넣어 반응시키는 단계를 포함하도록 하여 자성나노입자 표면에 페로시아나이드가 결합된 방사성 세슘 제거용 흡착제의 제조방법 및 동 방법에 의해 제조한 방사성 세슘 제거용 흡착제에 관한 것이다.
Int. CL G21F 9/12 (2006.01)
CPC G21F 9/12(2013.01) G21F 9/12(2013.01) G21F 9/12(2013.01)
출원번호/일자 1020130003314 (2013.01.11)
출원인 한국원자력연구원, 한국수력원자력 주식회사
등록번호/일자 10-1429560-0000 (2014.08.06)
공개번호/일자 10-2014-0091264 (2014.07.21) 문서열기
공고번호/일자 (20140812) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.01.11)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 한국수력원자력 주식회사 대한민국 경상북도 경주시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 양희만 대한민국 대전광역시 유성구
2 이근우 대한민국 대전광역시 유성구
3 서범경 대한민국 대전광역시 유성구
4 문제권 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대전광역시 유성구
2 한국수력원자력 주식회사 경상북도 경주시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.01.11 수리 (Accepted) 1-1-2013-0029569-10
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.08.27 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.10.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0083655-58
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.01.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0036050-83
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.03.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0244068-25
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.03.13 수리 (Accepted) 1-1-2014-0244078-82
7 등록결정서
Decision to grant		 2014.07.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0483202-99
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.03.18 수리 (Accepted) 4-1-2016-5034922-43
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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(1)상온의 반응기 내부에 철화합물 및 제1용매를 첨가하고 고온으로 상승시킨 후 열분해법에 의하여 자성나노입자를 제조한 후 반응기 내의 온도를 상온으로 낮추고 미반응물 및 제1용매를 제거하여 자성나노입자를 얻는 단계;(2)상기의 (1)단계에서 얻은 자성나노입자에 제2용매 및 실란 커플링제를 첨가하고 고온으로 상승시킨 후 반응시켜 반응물을 얻은 후 미반응물과 제2용매를 제거하고 건조하여 분말 형태의 반응물을 얻는 단계;(3)상기의 (2)단계에서 얻은 반응물을 증류수에 첨가하고 금속이온(metal ion)을 넣어 상온에서 반응시킨 다음 과량의 물을 첨가하고 세척한 다음 자기장(magnetic field)을 이용하여 자성나노입자를 회수하는 단계; (4)상기 (3)단계에서 회수한 자성나노입자를 증류수에 첨가한 후 페로시아나이드(ferrocyanide)를 넣어 반응시키는 단계를 포함하도록 하여 자성나노입자 표면에 페로시아나이드가 결합된 자성나노입자 기반으로 하는 방사성 세슘(radioactive cesium) 제거용 흡착제의 제조방법에 있어서,상기 제1단계는 20∼30℃의 상온인 반응기 내부에 철 아세틸아세톤(iron acetylacetonate), 철 펜타카보닐(Iron pentacarbonyl, Fe(CO)5), 철 쿠페론(iron cupferron) 중에서 선택된 어느 하나 이상의의 철 화합물 및 벤질알코올(benzyl alcohol), 트리에틸렌글라이콜(triethylene glycol), 글리세롤(glycerol) 중에서 선택된 어느 하나 이상의 제1용매를 첨가하고 반응기 내부를 질소(N), 헬륨(He), 네온(Ne), 아르곤(Ar) 중에서 선택된 어느 하나 이상의 비활성기체 분위기하에서 200∼800rpm으로 교반시켜주면서 1∼10℃/min의 속도로 200∼350℃의 고온으로 상승시킨 후 200∼350℃의 온도에서 3∼24시간 동안 유지하여 철화합물의 열분해에 의하여 자성나노입자를 제조한 후 반응기 내의 온도를 1∼10℃/min의 속도로 20∼30℃의 상온으로 낮추고 아세톤(aceton), 메탄올(methanol), 디클로로메탄(dichloro methane), 에틸아세테이드(ethyl acetate) 중에서 선택된 어느 하나 이상의 성분을 첨가하여 미반응물 및 제1용매를 제거하고 자성나노입자를 얻는 것을 특징으로 하는 자성나노입자 기반으로 하는 방사성 세슘(radioactive cesium) 제거용 흡착제의 제조방법
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삭제
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제1항에 있어서,상기 (2)단계는 (1)단계에서 얻은 자성나노입자에 톨루엔(toluene), 다이옥센인(dioxane), 헥세인(hexane), 에탄올(ethanol), 메탄올(methanol) 중에서 선택된 어느 하나 이상의 제2용매 및 아미노프로필트리메톡시실란(Aminopropyltrimethoxysilane), 아미노프로필트리에톡시실란(Aminopropyltriethoxysilane), 아미노프로필메틸디에톡시실란(Aminopropylmethyldiethoxysilane), 아미노에틸아미노프로필트리메톡시실란(Aminoethylaminopropyltrimethoxysilane), 아미노에틸아미노프로필트리에톡시실란(Aminoethylaminopropyltriethoxysilane), 아미노에틸아미노프로필메틸디메톡시실란(Aminoethylaminopropylmethyldimethoxysilane), 아미노에틸아미노이소부틸메틸디메톡시실란(Aminoethylaminoisobutylmethyldimethoxysilane), 트리메톡시실릴프로필디에틸렌트리아민(Trimethoxysilylpropyldiethylenetriamine) 중에서 선택된 어느 하나 이상 중에서 선택된 어느 하나 이상의 실란 커플링제(silane coupling agent)를 첨가하고 1∼10℃/min의 속도로 100∼150℃의 고온으로 상승시킨 후 200∼800rpm으로 교반시켜주면서 24∼48시간 동안 반응시켜 반응물을 얻은 후 에탄올(ethanol), 메탄올(methanol), 물(water) 중에서 선택된 어느 하나 이상을 이용하여 미반응물과 제2용매를 제거하고 250∼350℃에서 24∼48시간 동안 고온건조하여 분말 형태의 반응물을 얻는 것을 특징으로 하는 자성나노입자 기반으로 하는 방사성 세슘(radioactive cesium) 제거용 흡착제의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (3)단계는 (2)단계에서 얻은 반응물을 증류수에 용해시킨 후 금속이온(metal ion)의 공급원으로 염화구리(CuCl2), 염화코발트(CoCl2), 염화니켈(NiCl2) 중에서 선택된 어느 하나 이상을 첨가하고 20∼30℃에서 200∼800rpm으로 6∼12시간 동안 반응시킨 다음 과량의 물을 첨가하고 세척한 다음 자기장(magnetic field)을 이용하여 자성나노입자를 회수하는 것을 특징으로 하는 자성나노입자 기반으로 하는 방사성 세슘(radioactive cesium) 제거용 흡착제의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (4)단계는 (3)단계에서 회수한 자성나노입자를 증류수에 첨가한 후 Na4Fe(CN)6, K4Fe(CN)6 중에서 선택된 어느 하나의 페로시아나이드(ferrocyanide)를 넣고 20∼30℃의 상온에서 200∼800rpm으로 교반시키면서 3∼6시간 동안 반응시켜 자성나노입자 표면에 페로시아나이드가 결합된 방사성 세슘 제거용 흡착제를 얻는 것을 특징으로 하는 자성나노입자 기반으로 하는 방사성 세슘(radioactive cesium) 제거용 흡착제의 제조방법
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제1항 및 제3항 내지 제5항 중에서 선택된 어느 한 항의 방법에 의해 제조하여 자성나노입자 표면에 페로시아나이드가 결합된 방사성 세슘 제거용 흡착제
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