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과불화 화합물 처리 시스템

  • 기술번호 : KST2015147680
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 과불화 화합물(perfluorinated compounds, PFCs)이 유입 후 유출되도록 형성되는 챔버와, 상기 챔버 내부에 전자빔을 조사하여 상기 과불화 화합물을 분해하도록 형성되는 전자빔 조사장치와, 상기 챔버의 내부에 설치되어 배면 상의 공간에 상기 전자빔이 직접적으로 조사되는 것을 방지하도록 이루어지는 차단막, 및 상기 차단막의 배면 상의 공간에 배치되어 상기 전자빔에 의하여 분해되지 않은 상기 과불화 화합물을 분해하도록 형성되며 상기 전자빔에서 발생되는 열에 의해 가열되어 활성이 향상되도록 이루어지는 촉매층을 포함하는 과불화 화합물 처리 시스템을 제공한다.
Int. CL B01J 19/08 (2015.01) B01J 19/24 (2006.01)
CPC B01J 19/0053(2013.01) B01J 19/0053(2013.01) B01J 19/0053(2013.01)
출원번호/일자 1020120141439 (2012.12.06)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자 10-1494781-0000 (2015.02.12)
공개번호/일자 10-2014-0073316 (2014.06.16) 문서열기
공고번호/일자 (20150223) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.12.06)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 류재용 대한민국 경기도 고양시 일산서구
2 최창용 대한민국 경상북도 경주시
3 윤영민 대한민국 부산광역시 사상구
4 곽희성 대한민국 전라남도 담양군
5 김종범 대한민국 부산광역시 사하구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.12.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-1015450-14
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.11.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.12.11 수리 (Accepted) 9-1-2013-0100646-92
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.02.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0078878-32
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.04.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0318320-06
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.04.02 수리 (Accepted) 1-1-2014-0318314-21
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0568683-41
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.10.07 수리 (Accepted) 1-1-2014-0957267-38
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.10.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0957274-58
11 등록결정서
Decision to grant		 2015.02.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0083631-25
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
과불화 화합물(perfluorinated compounds, PFCs)이 유입 후 유출되도록 형성되는 챔버;상기 챔버 내부에 전자빔을 조사하여 상기 과불화 화합물을 분해하도록 형성되는 전자빔 조사장치;상기 챔버의 내부에 설치되어, 배면 상의 공간에 상기 전자빔이 직접적으로 조사되는 것을 방지하도록 이루어지는 차단막; 및상기 차단막의 배면 상의 공간에 배치되어 상기 전자빔에 의하여 분해되지 않은 상기 과불화 화합물을 분해하도록 형성되며, 상기 전자빔에서 발생되는 열에 의해 가열되어 활성이 향상되도록 이루어지는 촉매층을 포함하고,상기 차단막은, 상기 전자빔 조사장치와 마주보도록 일방향으로 연장되게 배치되어, 상기 과불화 화합물이 상기 차단막의 일면 상의 공간을 흐른 뒤 방향이 전환되어 배면 상의 상기 촉매층을 지나 유출될 수 있도록 상기 챔버 내에서 유로를 형성하며,상기 차단막은, 상기 전자빔에 의한 상기 과불화 화합물의 분해 효율이 향상될 수 있도록, 상기 전자빔을 반사시켜 상기 차단막의 일면 상의 공간 내의 상기 전자빔의 농도를 높이도록 형성되는 것을 특징으로 하는 과불화 화합물 처리 시스템
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,상기 차단막은 이리듐막, 비스무스막, 이리듐산화막 또는 산화비스무스막으로 형성되는 것을 특징으로 하는 과불화 화합물 처리 시스템
5 5
제1항에 있어서,상기 촉매층은 상기 차단막의 배면에 장착되는 것을 특징으로 하는 과불화 화합물 처리 시스템
6 6
제1항에 있어서,상기 챔버로부터 유출되는 가스를 분석하여, 상기 과불화 화합물의 농도가 기설정된 농도 이상인 경우 제1밸브를 열어 상기 가스가 상기 챔버로 유입되도록 하고, 상기 과불화 화합물의 농도가 기설정된 농도 이하인 경우 제2밸브를 열어 상기 가스를 방출시키도록 형성되는 가스분석기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 과불화 화합물 처리 시스템
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제1항에 있어서,상기 과불화 화합물은 반도체 공정에서 발생하는 난분해성 온실가스인 것을 특징으로 하는 과불화 화합물 처리 시스템
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제7항에 있어서,상기 과불화 화합물과 상기 반도체 공정에 이용되는 질소 가스를 혼합하여 상기 챔버로 유입시키도록 형성되는 가스혼합기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 과불화 화합물 처리 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 환경부 한국원자력연구원 EI(Eco-Innovation) 사업 전자빔 기술을 이용한 반도체 공정의 독성 가스 처리기술개발
2 환경부 한국원자력연구원 EI(Eco-Innovation) 사업 고 이온화 에너지를 이용한 에칭공정 SF6 제어기술 개발