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전자빔 발생장치

  • 기술번호 : KST2015147700
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 전자빔의 에너지를 용이하게 조절할 수 있고 듀얼 에너지 가속기의 전자빔 에너지를 용이하게 조절할 수 있는 전자빔 발생장치를 제공한다. 전자빔 발생장치는, CNT실(yarn)을 전자빔 방출 소스로 사용하여 전자빔을 발생시키는 전자빔 발생부, 상기 전자빔이 입사되어 가속되는 가속관 및 고주파를 발생시키고, 상기 전자빔 발생부와 상기 가속관에 각각 고주파를 인가하되, 상기 전자빔 발생부와 상기 가속관에 서로 다른 파워를 갖는 고주파를 인가하는 고주파 발생부를 포함하여 구성된다.
Int. CL H01J 33/00 (2006.01) H01J 3/02 (2006.01) H01J 3/10 (2006.01)
CPC H01J 3/02(2013.01) H01J 3/02(2013.01) H01J 3/02(2013.01) H01J 3/02(2013.01) H01J 3/02(2013.01) H01J 3/02(2013.01)
출원번호/일자 1020120154786 (2012.12.27)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자 10-1350035-0000 (2014.01.03)
공개번호/일자 10-2013-0129815 (2013.11.29) 문서열기
공고번호/일자 (20140116) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020120054045   |   2012.05.21
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.12.27)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장규하 대한민국 대전 유성구
2 이병철 대한민국 서울 송파구
3 김병남 대한민국 대구 서구
4 송기백 대한민국 경기 남양주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-1084151-63
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.11.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.12.17 수리 (Accepted) 9-1-2013-0106200-83
4 등록결정서
Decision to grant
2014.01.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0000006-07
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
CNT실(yarn)을 전자빔 방출 소스로 사용하여 전자빔을 발생시키는 전자빔 발생부;상기 전자빔이 입사되어 가속되는 가속관; 및고주파를 발생시키고, 상기 전자빔 발생부와 상기 가속관에 각각 고주파를 인가하되, 상기 전자빔 발생부와 상기 가속관에 서로 다른 파워를 갖는 고주파를 인가하는 고주파 발생부;를 포함하는 전자빔 발생장치
2 2
제1항에 있어서,상기 고주파 발생부는,상기 고주파 발생부에 전원을 인가하는 고주파 구동부;상기 고주파 발생부에 고전압을 인가하는 고전압 모듈레이터(high power modulator); 및상기 고주파 발생부에 저전압을 인가하는 저전압 모듈레이터(low power modulator);를 포함하는 전자빔 발생장치
3 3
제2항에 있어서,상기 고주파 구동부는 상기 고전압 모듈레이터와 상기 저전압 모듈레이터를 동조시키는 전자빔 발생장치
4 4
제2항에 있어서,상기 저전압 모듈레이터는 상기 전자빔 발생부와 상기 고주파 발생부 사이에 구비되어 상기 전자빔 발생부에 고주파를 인가하도록 구비되는 전자빔 발생장치
5 5
제2항에 있어서,상기 고전압 모듈레이터는 상기 고주파 발생부에 연결되고,상기 고주파 발생부는 상기 가속관에 듀얼 에너지를 인가하는 전자빔 발생장치
6 6
제1항에 있어서,상기 고주파 발생부는 상기 전자빔의 집속을 위한 자석부를 더 포함하는 전자빔 발생장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.