맞춤기술찾기

이전대상기술

이온빔 스퍼터링 장치

  • 기술번호 : KST2015147857
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 이온빔 스퍼터링 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 발생부에서 형성된 이온을 수십 keV의 고에너지로, 인출전류 50mA이상의 대전류로 인출하여, 일정한 각도로 설치되어 회전하거나 원뿔모양인 타겟(스퍼터 소재, STS, SiO2, Al2O3 등 합금 또는 세라믹)표면으로 가속시켜 스퍼터 되는 박막을 샘플에 증착하는 이온빔 스퍼터링 장치를 제공한다.
Int. CL H01L 21/203 (2006.01) C23C 14/46 (2006.01)
CPC C23C 14/3442(2013.01) C23C 14/3442(2013.01) C23C 14/3442(2013.01)
출원번호/일자 1020130167177 (2013.12.30)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0078087 (2015.07.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.12.30)
심사청구항수 2

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김범석 대한민국 서울 광진구
2 이재상 대한민국 대구광역시 수성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-1205401-78
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.11.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.12.11 수리 (Accepted) 9-1-2014-0098132-77
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2015-5004384-59
6 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.02.03 수리 (Accepted) 1-1-2015-5005216-76
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.06.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0368135-42
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-0740623-02
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.09.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0849280-12
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.09.01 수리 (Accepted) 1-1-2015-0849304-19
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.01.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0018045-12
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
이온빔 스퍼터링 장치에 있어서,플라즈마 발생부에서 형성된 이온을 10~100keV의 고에너지 이며 인출전류 50~1000mA이상의 대전류로 인출하는 이온원(100); 및상기 이온원(100)으로부터 인출된 이온이 충돌하면 표면의 원자가 튀어나가 샘플(10)에 박막을 증착시키는 타겟(200);을 포함하는 이온빔 스퍼터링 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 타겟(200)은스퍼터 소재, STS, SiO2, Cr, TiAl 및 Al2O3 중 선택되는 어느 하나의 합금 또는 세라믹 소재인 것을 특징으로 하는 이온빔 스퍼터링 장치
3 3
제1항에 있어서,상기 타겟(200)은일정한 각도로 설치되어 회전하는 것을 특징으로 하며,상기 일정한 각도는 상기 타겟(200)의 회전에 따라 상기 이온원(100)으로부터 인출된 이온의 입사각이 변화되는 것을 특징으로 하는 이온빔 스퍼터링 장치
4 4
제1항에 있어서,상기 타겟(200)은원뿔 형상인 것을 특징으로 하는 이온빔 스퍼터링 장치
5 5
제1항에 있어서,상기 타겟(200)은구 형상인 것을 특징으로 하는 이온빔 스퍼터링 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국원자력연구원 주요사업 경주 양성자가속기센터 운영 총괄