맞춤기술찾기

이전대상기술

임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치

  • 기술번호 : KST2015147915
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치에 관한 것으로서, 스와이프(swipe) 시료로부터 입자를 회수하기 위해 사용되는 임팩트 구조를 변경하여 입자 도입구로 유입된 입자의 흐름을 조절하여 배기구를 통해 배출되는 입자의 수를 최대한 줄임으로써, 이차이온질량분석법(SIMS)에 의한 국제원자력기구(IAEA)의 사찰시료 입자 분석 시 원자력 관련 시설에서 채취한 스와이프(swipe) 시료로부터 입자 회수율을 향상시킬 수 있어, 보다 많은 입자의 분석이 가능하여 분석 결과의 신뢰도를 높일 수 있는 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치에 관한 것이다.
Int. CL G21C 17/06 (2006.01)
CPC G21C 17/06(2013.01) G21C 17/06(2013.01)
출원번호/일자 1020140064086 (2014.05.28)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자 10-1540969-0000 (2015.07.27)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150803) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.05.28)
심사청구항수 8

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이치규 대한민국 대전광역시 유성구
2 임상호 대한민국 대전광역시 유성구
3 박종호 대한민국 대전광역시 유성구
4 송규석 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.05.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-0503248-01
2 보정요구서
Request for Amendment
2014.06.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0090634-38
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2014.06.10 수리 (Accepted) 1-1-2014-0539149-66
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.01.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2015-5004385-05
7 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.02.03 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2015-5005215-20
8 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2015.02.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0040379-18
9 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2015.02.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0042110-02
10 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.03.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2015-0015704-11
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.03.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0181286-42
12 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.03.25 수리 (Accepted) 1-1-2015-5010229-87
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2015-0406703-11
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.04.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0406690-05
15 등록결정서
Decision to grant
2015.07.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0489317-15
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
내부가 중공 형성되며, 입자가 유입되는 입자 도입구 및 배출구가 형성되는 챔버;상기 챔버의 내부에 구비되며, 상기 입자 도입구 및 배출구 사이에 배치되어 입자 도입구로 유입된 입자가 부착되어 회수되는 시료대;상기 챔버의 내측에 돌출 형성되어 상기 시료대가 고정되며, 상기 입자 도입구와 배출구가 연통되도록 하는 다수개의 통로가 형성되는 지지대; 및상기 입자 도입구에 연결되어 상기 시료대로 입자의 흐름을 유도하는 입자 유도로; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치
2 2
제1항에 있어서,상기 입자 유도로는 입자 도입구와 연결되도록 일측이 상기 챔버에 결합되며, 상기 입자 유도로의 타측은 상기 시료대와 일정거리 이격되도록 형성되되, 상기 입자 유도로는 일측의 직경보다 타측의 직경이 큰 나팔 형태로 형성되며, 상기 입자 유도로의 내측면의 연장선과 시료대가 만나는 지점의 직경(D1)이 상기 시료대의 직경(D2)보다 작게 형성되는 것을 특징으로 하는 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,상기 시료대는 지지대의 입자 유입측 방향 또는 배출측 방향의 면에 결합되는 것을 특징으로 하는 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치
5 5
제1항에 있어서,상기 지지대는 챔버의 내측으로 다수개가 돌출 형성되며, 원주방향을 따라 일정간격 이격되어 배치되는 것을 특징으로 하는 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치
6 6
제5항에 있어서,상기 지지대는 입자의 유입 및 배출방향과 나란한 평판으로 형성되는 것을 특징으로 하는 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치
7 7
제1항에 있어서,상기 시료대는 입자의 유입 및 배출방향에 수직인 평판으로 형성되는 것을 특징으로 하는 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치
8 8
제1항에 있어서,상기 입자 도입구 및 배출구는 상기 챔버의 중심선 상에 나란하게 배치되며, 상기 시료대의 중심은 상기 챔버의 중심선 상에 배치되는 것을 특징으로 하는 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치
9 9
제1항에 있어서,상기 지지대에는 단차지게 안치홈이 형성되며, 상기 시료대는 상기 안치홈에 삽입되어 고정되는 것을 특징으로 하는 임팩트 구조 개선에 의한 입자회수율 제고장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 원자력안전위원회 한국원자력연구원 방사선안전기술개발사업 (핵활동 탐지및방호방재기술개발) 극미량 핵물질 분석체계 구축