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방사성동위원소 Ni-63을 준비하는 제1단계;방사성동위원소 Ni-63을 황산수용액에 용해하여 황산염 상태의 방사성동위원소 Ni-63을 생성하는 제2단계;황산염 상태의 방사성동위원소 Ni-63이 용해된 황산수용액을 무전해도금용액에 주입하는 제3단계;무전해도금용액을 이용하여 pn접합 반도체(200)의 일면에 방사성동위원소층(300)을 무전해도금하는 제4단계; 및상기 방사성동위원소층(300)과 pn접합 반도체(200)를 건조 및 열처리하는 제5단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 베타전지의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1단계는고체의 Ni을 기화하여 기체 상태의 Ni을 생성하는 제1-1단계와,기체 상태의 Ni을 원심분리하여 Ni-62를 추출하는 제1-2단계와,Ni-62를 냉각하여 고체 분말 상태의 Ni-62를 생성하는 제1-3단계와,고체 분말 상태의 Ni-62에 중성자를 조사하여 방사성동위원소 Ni-63을 생성하는 제1-4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 베타전지의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제2단계는황산수용액의 황산농도가 5% 내지 15% 인 것을 특징으로 하는 베타전지의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제5단계는 상기 방사성동위원소층(300)과 pn접합 반도체(200)를 80 내지 100도에서 소정시간동안 건조하는 단계와,상기 방사성동위원소층(300)과 pn접합 반도체(200)를 500 내지 700도에서 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 베타전지의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 pn접합 반도체(200)는상기 방사성동위원소층(300)이 무전해도금되는 일면에 단차(210)가 형성되는 것을 특징으로 하는 베타전지의 제조 방법
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