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금속 표면 고착성 방사능 오염 산화막 제거를 위한 무착화성 화학 제염제 및 이를 이용한 화학 제염방법

  • 기술번호 : KST2015147943
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 화학 제염제는 환원제, 환원성 금속이온 및 무기산을 포함하는 금속 표면 고착성 방사능 오염 산화막 제거를 위한 화학 제염제에 관한 것으로, 본 발명의 화학 제염제는 적정한 온도에서 금속 표면 고착성 방사능 오염 산화막을 효과적으로 용해하여 제거할 수 있으며, 방사성 오염 산화물을 화학 제염제에 접촉시키는 공정에 의해 제염을 수행할 수 있으므로 공정비용 및 공정시간 측면에서 경제적일 뿐만 아니라, 종래 옥살산 등과 같은 유기산 착화제를 사용하지 않고, 환원제를 주 제염제로 사용하기 때문에 제염 후 산화제를 사용하여 잔존하는 환원제를 쉽게 분해시켜 제거할 수 있어, 제염제의 용이한 파괴를 통한 2차 방사성 폐기물 발생을 최소화하고, 제염 용액에 잔존하는 방사성 핵종을 효과적으로 제거할 수 있다.
Int. CL G21F 9/28 (2006.01) G21F 9/06 (2006.01) G21F 9/00 (2006.01)
CPC G21F 9/004(2013.01) G21F 9/004(2013.01) G21F 9/004(2013.01)
출원번호/일자 1020150053131 (2015.04.15)
출원인 한국원자력연구원, 한국수력원자력 주식회사
등록번호/일자 10-1601201-0000 (2016.03.02)
공개번호/일자 10-2015-0048681 (2015.05.07) 문서열기
공고번호/일자 (20160309) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2013-0008013 (2013.01.24)
관련 출원번호 1020130008013
심사청구여부/일자 Y (2015.04.15)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 한국수력원자력 주식회사 대한민국 경상북도 경주시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 원휘준 대한민국 대전광역시 유성구
2 정종헌 대한민국 대전광역시 서구
3 박상윤 대한민국 대전시 유성구
4 최왕규 대한민국 대전광역시 유성구
5 박정순 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
6 문제권 대한민국 대전광역시 유성구
7 윤인호 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
8 최병선 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 한국수력원자력 주식회사 대한민국 경상북도 경주시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2015.04.15 수리 (Accepted) 1-1-2015-0366986-86
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.07.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0451061-98
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.09.07 수리 (Accepted) 1-1-2015-0866801-43
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.09.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0866802-99
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.11.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0824675-59
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2015-1275311-11
7 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2015.12.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-1275346-08
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.01.15 수리 (Accepted) 1-1-2016-0045813-46
9 등록결정서
Decision to Grant Registration
2016.01.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0053072-00
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.03.18 수리 (Accepted) 4-1-2016-5034922-43
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번호 청구항
1 1
0
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 환원성 금속 이온은 Ag+, Ag2+, Mn2+, Mn3+, Co2+, Co3+, Cr2+, Cr3+, Cu+, Cu2+, Mn2+, Mn3+, Sn2+, Sn4+,Ti2+ 및 Ti3+로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 이온인 것을 특징으로 하는 화학 제염제
4 4
제1항에 있어서, 상기 금속은 스테인리스강, 인코넬강 및 지르코늄 합금 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 화학 제염제
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서, 상기 환원성 금속 이온의 농도는 1×10-5 - 0
7 7
삭제
8 8
제1항의 화학 제염제를 70 - 140 ℃의 온도 범위에서, 표면에 방사능 오염 산화막이 고착된 금속에 접촉시키는 단계를 포함하는 화학 제염방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 화학 제염방법은 제1항의 화학 제염제 내에 표면에 방사능 오염 산화막이 고착된 금속을 침지시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 화학 제염방법
10 10
제8항에 있어서, 상기 화학 제염방법은 제1항의 화학 제염제를 원자력발전소의 계통 또는 루프(loop) 내부로 통과시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 화학 제염방법
11 11
제8항에 있어서, 상기 화학 제염방법은 2 - 26 시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 화학 제염방법
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5 US20190027263 US 미국 FAMILY

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2 JP5651754 JP 일본 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국원자력연구원 원자력연구개발사업 원자력시설 고도제염기술 개발