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하기 화학식 8a의 화합물을 테트라부틸암모늄 플루오라이드와 반응시킨 다음, 산 촉매의 존재 하에서 보호기를 제거하는 단계를 포함하는 하기 화학식 1a의 화합물의 제조방법:[화학식 1a] 상기 화학식 1a에서, n은 1 또는 2의 정수이다;[화학식 8a] 상기 화학식 8a에서, n은 상기 화학식 1a에서 정의한 바와 같고;R1은 메틸메틸에테르, 메틸티오메틸 에테르, 2-메톡시에톡시메틸에테르, 테트라하이드로피라닐 에테르, 4-메톡시테트라하이드로피라닐 에테르, 테트라하이드로퓨라닐 에테르, 벤질 에테르, o-니트로벤질 에테르, 트리페닐메틸 에테르, 아세테이트 에스테르, 페녹시아세테이트 에스테르, 벤조에이트 에스테르, 또는 p-니트로페닐 카보네이트이고;R2는 메틸, 에틸, 또는 t-부틸이고;R3는 t-부톡시카르보닐, 메틸 카바메이트, 에틸 카바메이트, 9-플루오레닐메틸 카바메이트, 9-(2-술포)플루오레닐메틸 카바메이트, 1-(3,5-디-t-부틸페닐)-1-메틸에틸 카바메이트, 디페닐메틸 카바메이트, p-니트로벤질 카바메이트, 3,4-디메톡시-6-니트로벤질 카바메이트, 아세틸, 또는 벤조일이고;R4는 토실, 메실, 또는 노실이다
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하기 화학식 8b의 화합물을 테트라부틸암모늄 플루오라이드와 반응시킨 다음, 산 촉매의 존재 하에서 보호기를 제거하는 단계를 포함하는 하기 화학식 1b의 화합물의 제조방법:[화학식 1b] 상기 화학식 1b에서, n은 1 또는 2의 정수이다;[화학식 8b] 상기 화학식 8b에서, n은 상기 화학식 1b에서 정의한 바와 같고;R2는 메틸, 에틸, 또는 t-부틸이고;R3는 t-부톡시카르보닐, 메틸 카바메이트, 에틸 카바메이트, 9-플루오레닐메틸 카바메이트, 9-(2-술포)플루오레닐메틸 카바메이트, 1-(3,5-디-t-부틸페닐)-1-메틸에틸 카바메이트, 디페닐메틸 카바메이트, p-니트로벤질 카바메이트, 3,4-디메톡시-6-니트로벤질 카바메이트, 아세틸, 또는 벤조일이고;R4는 토실, 메실, 또는 노실이다
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하기 화학식 8a의 화합물을 [18F]불소를 함유한 물, 크립토픽스[2
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하기 화학식 8b의 화합물을 [18F]불소를 함유한 물, 크립토픽스[2
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제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 화학식 8a의 화합물은 트리에틸아민, 피리딘, N,N-디이소프로필에틸아민, 및 N,N-디메틸아미노피리딘으로 구성된 그룹에서 선택된 염기 촉매의 존재 하에서 하기 화학식 7a의 화합물을 p-톨루엔술포닐 클로라이드, p-니트로술포닐 클로라이드, 또는 p-메탄술포닐클로라이드와 반응시키는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 방법:[화학식 7a] 상기 화학식 7a에서, R1, R2, R3, 및 n은 상기 화학식 8a에서 정의된 바와 같다
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제2항 또는 제4항에 있어서, 상기 화학식 8b의 화합물은 트리에틸아민, 피리딘, N,N-디이소프로필에틸아민, 및 N,N-디메틸아미노피리딘으로 구성된 그룹에서 선택된 염기 촉매의 존재 하에서 하기 화학식 7b의 화합물을 p-톨루엔술포닐 클로라이드, p-니트로술포닐 클로라이드, 또는 p-메탄술포닐클로라이드와 반응시키는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 방법:[화학식 7b] 상기 화학식 7b에서, R2, R3, 및 n은 상기 화학식 8b에서 정의된 바와 같다
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제5항에 있어서, 상기 화학식 7a의 화합물은 하기 화학식 6a의 화합물을 BH3-THF 복합체와 반응시킨 다음 수산화나트륨 및 과산화수소와 반응시켜 산화시키는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 방법:[화학식 6a] 상기 화학식 6a에서, R1, R2, R3, 및 n은 상기 화학식 7a에서 정의된 바와 같다
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제6항에 있어서, 상기 화학식 7b의 화합물은 하기 화학식 6b의 화합물을 BH3-THF 복합체와 반응시킨 다음 수산화나트륨 및 과산화수소와 반응시켜 산화시키는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 방법:[화학식 6b] 상기 화학식 6b에서, R2, R3, 및 n은 상기 화학식 7b에서 정의된 바와 같다
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