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고온의 반응물을 수용하는 용기의 외부로 열이 방사되는 것을 차단하도록 상기 용기를 덮는 플랜지에 있어서, 상기 플랜지는,일측이 개방된 상기 용기의 상부를 덮도록 형성되는 바디;상기 바디의 일면에서 상기 용기방향으로 연장되는 로드;상기 로드를 따라 왕복 가능하게 형성되며, 하중에 의해 하강하여 상기 용기를 밀폐하도록 형성되는 제1 플레이트; 및상기 바디가 상기 용기로부터 해체될 때, 상기 제1 플레이트가 상기 로드로부터 이탈되는 것을 방지하도록, 상기 제1 플레이트가 결합된 상기 로드의 하부에 형성되는 이탈방지부를 포함하는 플랜지
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제1항에 있어서,상기 용기는, 상기 제1 플레이트로 밀폐되는 외부반응기; 및상기 외부반응기의 내부에 형성되는 내부반응기를 포함하고, 상기 이탈방지부는 제2 플레이트를 구비하며, 상기 제2 플레이트는 상기 용기의 열손실을 감소시키기 위하여, 상기 내부반응기를 덮도록 형성되는 것을 특징으로 하는 플랜지
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고온의 반응물을 수용하는 반응기의 외부로 열이 방사되는 것을 차단하도록 상기 반응기를 덮는 플랜지를 구비하는 조업장치에 있어서, 상기 조업장치는,일측이 개방되게 형성되는 상기 반응기의 상부를 덮도록 형성되는 바디;상기 바디의 일면에서 상기 반응기 방향으로 연장되는 로드;상기 로드를 따라 왕복 가능하게 형성되는 제1 플레이트; 및상기 바디가 상기 반응기로부터 해체될 때, 상기 제1 플레이트가 상기 로드로부터 이탈되는 것을 방지하도록, 상기 제1 플레이트가 결합된 상기 로드의 하부에 형성되는 이탈방지부를 포함하고,상기 반응기는 내측으로 돌출되는 걸림부를 구비하고, 상기 제1 플레이트는 하중에 의해 하강하여 상기 걸림부에 걸릴 수 있도록 하부가 단차지게 형성되는 것을 특징으로 하는 조업장치
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제4항에 있어서,상기 반응기는, 상기 제1 플레이트로 밀폐되는 외부반응기; 및상기 외부반응기의 내부에 형성되는 내부반응기를 포함하고, 상기 이탈방지부는 제2 플레이트를 구비하며, 상기 제2 플레이트는 상기 반응기의 열손실을 감소시키기 위하여, 상기 내부반응기를 덮도록 형성되는 것을 특징으로 하는 조업장치
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제6항에 있어서, 상기 제1 플레이트 또는 제2 플레이트는 상기 반응기로부터의 열 전달을 감소시키도록, 일정 이하의 열전도도를 갖는 열전도체를 포함하는 것을 특징으로 하는 조업장치
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