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분사제염 멀티 노즐 제어 장치 및 이를 이용한 시스템

  • 기술번호 : KST2015148126
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 분사제염 멀티 노즐 제어 시스템을 개시한다. 상기 분사제염 멀티 노즐 제어 시스템은 다수의 세관들이 형성된 증기발생기, 상기 다수의 세관들 중 적어도 2개 이상의 세관에 동시에 연마제를 분사시키는 분사제염 멀티 노즐 장치, 사각형태로 형성되며, 시스템 제어부로부터 제어신호를 수신받아 X축, Y축, Z축 방향으로 선택적으로 분사제염 노즐을 상기 다수의 세관들 각각의 위치로 이동시키는 분사제염 노즐 원격 조작부 및 상기 분사제염 노즐 원격 조작부와 체결되며 그에 따라 이동가능하며, 상기 증기발생기에 형성된 다수의 세관들 각각의 위치를 측정하는 카메라부를 포함한다.
Int. CL G21C 17/08 (2006.01) G21F 9/28 (2006.01)
CPC G21F 9/005(2013.01) G21F 9/005(2013.01) G21F 9/005(2013.01) G21F 9/005(2013.01)
출원번호/일자 1020100117999 (2010.11.25)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0056452 (2012.06.04) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.11.25)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김성균 대한민국 대전광역시 유성구
2 이근우 대한민국 대전광역시 유성구
3 최왕규 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.11.25 수리 (Accepted) 1-1-2010-0771531-32
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0044347-01
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.03.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0225139-10
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.03.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0225140-56
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2012-5134067-95
6 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0516459-09
7 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2012.10.02 수리 (Accepted) 7-1-2012-0046153-35
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다수의 세관들이 형성된 증기발생기;상기 다수의 세관들 중 적어도 2개 이상의 세관에 동시에 연마제를 분사시키는 분사제염 멀티 노즐 장치;사각형태로 형성되며, 시스템 제어부로부터 제어신호를 수신받아 X축, Y축, Z축 방향으로 선택적으로 분사제염 노즐을 상기 다수의 세관들 각각의 위치로 이동시키는 분사제염 노즐 원격 조작부; 및상기 분사제염 노즐 원격 조작부와 체결되며 그에 따라 이동가능하며, 상기 증기발생기에 형성된 다수의 세관들 각각의 위치를 측정하는 카메라부를 포함하는 분사제염 멀티 노즐 제어 시스템
2 2
제1항에 있어서,상기 분사제염 멀티 노즐 장치는,n×m 배열(n은 2 이상의 자연수, m은 1 이상의 자연수)로 이루어진 다수의 분사노즐을 구비한 브라켓;상기 분사 노즐들 각각에 주입된 공기압을 통해 분사노즐을 세관에 삽입시키는 에어실린더;외부로부터 공기를 각각 주입받아 상기 에어실린더로 주입되는 공기의 압을 조절하는 다수의 밸브들을 구비하는 제어 밸브; 및상기 제어 밸브를 선택적으로 구동시키는 시스템 제어부를 포함하는 분사제염 멀티 노즐 제어 시스템
3 3
제1항에 있어서,노즐 원격 조작부는,사각 평판의 금속 재질로 형성된 LM 가이드; 및상기 LM 가이드와 기계적으로 접속되며, 상기 LM 가이드 상부 및 하부 표면과 접속되어 좌,우 방향으로 움직이는 이동 레일을 포함하는 분사제염 멀티 노즐 제어 시스템
4 4
제3항에 있어서,상기 LM 가이드는,사각 창문틀 형상으로 형성되며, 사각 테두리는 금속 재질로 이루어져 상기 이동 레일과 기계적으로 접속되며, 내부표면은 유리 또는 투명 재질로 형성되고, 오염 감지부와 기계적으로 체결되는 것을 특징으로 하는 분사제염 멀티 노즐 제어 시스템
5 5
제1항에 있어서,상기 증기발생기는,상기 분사제염 멀티 노즐 장치와 일체형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 분사제염 노즐 원격 제어 시스템
6 6
제2항에 있어서,상기 브라켓은,상기 다수의 분사노즐들이 삼각형 또는 사각형 형태로 배열되는 것을 특징으로 하는 분사제염 노즐 원격 제어 시스템
7 7
일정한 간격으로 형성된 적어도 2개 이상의 분사 노즐들을 구비하는 브라켓;상기 분사 노즐들 각각에 공기압을 주입시키는 에어실린더;상기 에어실린더로 주입되는 공기압을 제어하는 제어 밸브; 및상기 제어 밸브를 선택적으로 구동시키는 시스템 제어부를 포함하는 분사제염 멀티 노즐 제어 장치
8 8
제7항에 있어서,상기 브라켓은,상기 다수의 분사노즐들이 삼각형 또는 사각형 형태로 배열되는 것을 특징으로 하는 분사제염 노즐 원격 제어 장치
9 9
일정한 간격으로 형성되며, 왕복 운동이 가능한 적어도 2개 이상의 에어로 노즐들을 구비하는 브라켓;상기 적어도 2개 이상의 에어로 노즐들의 간격을 고정 및 조절하는 지지대;상기 적어도 2개 이상의 에어로 노즐들 각각에 공기압을 통해 외부로부터 주입되는 연마재를 공급하는 에어실린더;상기 에어실린더로 공급된 공기압을 제어하는 제어 밸브; 및상기 제어 밸브 및 상기 적어도 2개 이상의 에어로 노즐들 각각을 선택적으로 구동시키는 시스템 제어부를 포함하는 분사제염 멀티 노즐 제어 장치
10 10
제9항에 있어서,상기 브라켓은,상기 다수의 분사노즐들이 삼각형 또는 사각형 형태로 배열되는 것을 특징으로 하는 분사제염 멀티 노즐 제어 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국원자력연구원 전력산업연구개발 SG 등 원전발생 대형 금속성 폐기물의 감용 및 자체처분 기술개발