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KMnO4, NaMnO4, H2CrO4 및 HMnO4로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 산화제, 농도가 2×10-5 내지 2×10-3 M인 Cu2+, 농도가 2×10-5 내지 2×10-3 M인 Zn2+ 및 농도가 2×10-6 내지 2×10-5 M인 Cr3+으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종의 금속 이온 및 HBr, HF, HI, HNO3, H3PO4 및 H2SO4으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 무기산을 포함하는 인코넬강 표면 고착성 방사능 오염 산화막 제거를 위한 산화 제염제
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제1항에 있어서,상기 인코넬강 표면 고착성 방사능 오염 산화막은 원자력발전소의 계통 내부에서 발생하는 것을 특징으로 하는 산화 제염제
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제1항에 있어서,상기 산화제의 농도는 1×10-5 내지 1×10-2 M인 것을 특징으로 하는 산화 제염제
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제1항에 있어서,상기 무기산의 농도는 2×10-5 내지 3×10-2 M인 것을 특징으로 하는 산화 제염제
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제1항에 있어서,상기 산화 제염제의 pH는 1
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KMnO4, NaMnO4, H2CrO4 및 HMnO4로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 산화제를 증류수에 용해시킨 용액을 제조하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 제조된 용액에 HBr, HF, HI, HNO3, H3PO4 및 H2SO4으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 무기산을 첨가하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2의 무기산이 첨가된 용액에 Cu2+, Zn2+ 및 Cr3+으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종의 금속 이온을 첨가하되, 상기 금속 이온이 Cu2+ 및 Zn2+일 경우에는 2×10-5 내지 2×10-3 M의 농도가 되도록, 상기 금속 이온이 Cr3+일 경우에는 2×10-6 내지 2×10-5 M의 농도가 되도록 금속 이온을 첨가하는 단계(단계 3);를 포함하는 인코넬강 표면 고착성 방사능 오염 산화막 제거를 위한 산화 제염제의 제조방법
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제11항에 있어서,상기 단계 2의 무기산은 산화 제염제의 pH를 1
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제1항의 산화 제염제를 포함하는 용액으로 표면에 방사능 오염 산화막이 고착된 인코넬강 부품을 침지시키는 단계; 및 상기 인코넬강 부품에 환원제를 사용하여 환원제염하는 단계;를 포함하는 원자력발전소 1차 계통 부품의 제염방법
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제13항에 있어서,상기 제염방법은 제1항의 산화 제염제 내에 표면에 방사능 오염 산화막이 고착된 인코넬강 부품을 침지시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 원자력발전소 1차 계통 부품의 제염방법
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제13항에 있어서,상기 제염방법은 70 내지 110 ℃의 온도 범위에서 2 내지 10 시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 원자력발전소 1차 계통 부품의 제염방법
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