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단일중합체 또는 85 중량 % 이상의 폴리아크릴로니트릴을 포함하는 공중합체인 폴리아크릴로니트릴 중합체 용액을 기판 위에 도포하여 박막을 형성하는 단계;상기 단계에서 제조된 박막 위에 패턴을 가진 마스크를 덮고 방사선을 조사하여, 상기 중합체를 가교시키는 단계;상기 단계에서 가교 후, 가교되지 않은 박막 부분을 제거하여 폴리아크릴로니트릴 패턴을 형성하는 단계; 및상기 단계에서 형성된 폴리아크릴로니트릴 패턴을 탄화시켜 폴리아크릴로니트릴 전도성 패턴을 형성하는 단계; 를 포함하는 폴리아크릴로니트릴 전도성 패턴 형성 방법
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제 1항에 있어서, 상기 폴리아크릴로니트릴을 포함하는 공중합체는 폴리(아크릴로니트릴-메틸메타크릴레이트) 공중합체, 폴리(아크릴로니트릴-메틸아크릴레이트) 공중합체 및 폴리(아크릴로니트릴-비닐아세테이트) 공중합체를 포함하는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 폴리아크릴로니트릴 전도성 패턴 형성 방법
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제 1항에 있어서, 상기 기판은 실리콘 기판, 유리 기판 및 석영 기판을 포함하는 비전도성 기판으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 폴리아크릴로니트릴 전도성 패턴 형성 방법
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제 1항에 있어서, 상기 방사선은 이온빔, 전자빔, 감마선, 알파선 및 베타선을 포함하는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 폴리아크릴로니트릴 전도성 패턴 형성 방법
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제 5항에 있어서, 상기 방사선은 이온빔이고, 이온빔 조사 에너지는 1 ~ 300 keV이고 총이온 조사량은 1 × 1010 ~ 1 × 1019 ions/㎠로 조절되는 것을 특징으로 하는 폴리아크릴로니트릴 전도성 패턴 형성 방법
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제 5항에 있어서, 상기 방사선은 전자빔이고, 전자빔 조사 에너지는 1 keV ~ 1 MeV이고 총 전자빔 조사량은 1 × 1014 ~ 1 × 1020 electrons/㎠로 조절되는 것을 특징으로 하는 폴리아크릴로니트릴 전도성 패턴 형성 방법
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제 1항의 방법에 따라 형성되는 폴리아크릴로니트릴 전도성 패턴이 구비된 기판
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제 8항의 폴리아크릴로니트릴 전도성 패턴이 구비된 기판을 포함하는 발광다이오드
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