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비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법 및 이의 방법에 의해 제조된 도광판

  • 기술번호 : KST2015148696
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 도광판의 마이크로렌즈 제조방법에 있어서, 빛이 통과되는 제1 영역과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역으로 이루어진 마스크를 포토레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시키는 제1 단계; 상기 제2 영역 상측에서 하측으로 조사되는 빛이 적어도 1방향 이상에서 비대칭 경사각을 갖도록 하기위해서 적어도 1회 이상의 경사 노광을 실시하는 제2 단계; 상기 경사 노광된 기판을 현상하여 비대칭 경사기둥 형태를 가진 다수의 포토레지스트를 얻는 제3 단계; 상기 비대칭 경사기둥 형태의 포토레지스트를 리플로우 공정을 통해 만곡시켜 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 형상을 얻는 제4 단계; 상기 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 형상의 포토레지스트가 음각되도록 하는 음각 스탬퍼를 제작하는 제5 단계; 및 상기 음각 스탬퍼를 금형으로 하여 상기 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈가 양각된 도광판을 성형하는 제6 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.본 발명의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈는 빛의 굴절과 난반사를 조절하는 기능이 강화되어 원하는 광학적 성능을 가지게 할 수 있고, 이와 같은 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 어레이를 통하여 도광판 등에 응용할 수 있는 효과가 있다.리플로우, 도광판, 마이크로 렌즈
Int. CL G02F 1/13357 (2000.01)
CPC G03F 7/0005(2013.01) G03F 7/0005(2013.01) G03F 7/0005(2013.01) G03F 7/0005(2013.01) G03F 7/0005(2013.01)
출원번호/일자 1020050031596 (2005.04.15)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-0698636-0000 (2007.03.15)
공개번호/일자 10-2006-0109369 (2006.10.20) 문서열기
공고번호/일자 (20070322) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 발송
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.04.15)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 황철진 대한민국 경기도 부천시 원미구
2 김종선 대한민국 경기 고양시 덕양구
3 고영배 대한민국 서울 관악구
4 허영무 대한민국 서울특별시 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유)화우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로***길 **, *층 (대치동, 삼호빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충남 천안시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.04.15 수리 (Accepted) 1-1-2005-0198030-77
2 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2005.08.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0470773-85
3 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2005.08.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0478761-13
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.06.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2006.07.12 수리 (Accepted) 9-1-2006-0046133-94
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.07.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0441914-38
7 대리인변경신고서
Agent change Notification		 2006.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2006-0709889-45
8 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2006.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2006-0709897-11
9 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2006.10.27 수리 (Accepted) 1-1-2006-0781097-79
10 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2006.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2006-0878751-73
11 의견서
Written Opinion		 2006.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2006-0975605-13
12 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2006.12.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0975604-78
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.02.09 수리 (Accepted) 4-1-2007-5022520-66
14 등록결정서
Decision to grant		 2007.03.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0132422-52
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.10.20 수리 (Accepted) 4-1-2008-5164358-96
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.11.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5178457-80
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.01.20 수리 (Accepted) 4-1-2009-5013686-94
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
도광판의 마이크로렌즈 제조방법에 있어서,빛이 통과되는 제1 영역과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역으로 이루어진 마스크를 포토레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시키는 제1 단계;상기 제2 영역 상측에서 하측으로 조사되는 빛이 적어도 1방향 이상에서 비대칭 경사각을 갖도록 하기위해서 적어도 1회 이상의 경사 노광을 실시하는 제2 단계;상기 경사 노광된 기판을 현상하여 비대칭 경사기둥 형태를 가진 다수의 포토레지스트를 얻는 제3 단계;상기 비대칭 경사기둥 형태의 포토레지스트를 리플로우 공정을 통해 만곡시켜 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 형상을 얻는 제4 단계;상기 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 형상의 포토레지스트가 음각되도록 하는 음각 스탬퍼를 제작하는 제5 단계; 및상기 음각 스탬퍼를 금형으로 하여 상기 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈가 양각된 도광판을 성형하는 제6 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정를 이용한 도광판의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 마스크는 필름 마스크 또는 크롬 마스크인 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정를 이용한 도광판의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법
3 3
제1항에 있어서,상기 마스크의 제2 영역들은 마스크 상의 일 방향 연장선상에 연속 또는 불연속 정렬되는 배열 형태를 이루되, 이웃하는 각 배열 간에는 적정거리가 유지되도록 하고, 상기 배열을 이루는 각각의 제2 영역들 중 일부는 크기를 달리하여 제작하는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 마스크의 제2 영역은 타원형으로 제작되는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 제5 단계는 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈가 패턴으로 형성된 기판 상에 금속 박막을 코팅하는 단계와, 상기 금속 박막 상에 니켈 전기 도금을 수행하고 상기 니켈 전기 도금한 영역만을 분리시켜 스탬퍼를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법
6 6
제5항에 있어서,상기 금속 박막 코팅은 크롬 코팅인 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법
7 7
제6항에 있어서,상기 금속 박막 코팅은 크롬을 코팅한 후, 금을 추가로 코팅하는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법
8 8
제1항에 있어서,상기 음각 스탬퍼를 마스터로 하여, 상기 음각 스탬퍼의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈의 형상이 양각되도록 한 양각 스탬퍼를 제작하는 단계 및 상기 양각 스탬퍼를 금형으로 하여 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈의 형상이 음각된 도광판을 성형하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법
9 9
제8항에 있어서,상기 양각 스탬퍼는 음각 스탬퍼의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 어레이 패턴 위에 니켈 도금을 실시한 후, 이를 분리시켜 제작하는 것을 특징으로 하는 반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법
10 10
제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항의 방법을 이용해 제조되는 것을 특징으로 하는 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈를 갖는 도광판
11 11
삭제
12 12
삭제
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1 WO2006109920 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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