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고융점 활성금속의 용해 시 외부 공기와의 접촉을 막고, 플라즈마 아크 생성을 원활히 하기 위한 분위기 제어를 할 수 있는 진공 챔버와, 상기 고융점 활성금속의 재료를 공급받도록 상기 챔버의 내부에 설치된 도가니와, 상기 도가니에 근접하게 설치되며, 상기 도가니에 투입된 고융점 활성금속의 재료를 용융시키는 플라즈마 아크를 생성하는 플라즈마 토치 건을 구비하는 플라즈마 아크 용해장치를 이용하여 고융점 활성금속을 용해하는 방법에 있어서,(a) 상기 진공 챔버 내부의 진공도를 2
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제1항에 있어서, 상기 도가니를 냉각시키기 위한 순환식 수냉장치가 상기 도가니 부근에 설치되며, 상기 플라즈마 아크 용해과정이 진행되는 동안 상기 도가니용 수냉장치의 냉각수의 압력을 5㎏/㎤ 부근으로 유지하며, 그 온도는 45℃가 넘지 않도록 순환시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 아크 용해법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계를 수행하여 형성된 상기 고융점 활성금속의 용탕을 20∼200초 유지하는 단계를 더 거치는 것을 특징으로 하는 플라즈마 아크 용해법
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제3항에 있어서, 상기 고융점 활성금속이 지르코늄 합금인 경우, 상기 고융점 활성금속의 용탕의 유지시간이 50∼110초인 것을 특징으로 하는 플라즈마 아크 용해법
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제3항에 있어서, 상기 고융점 활성금속이 티타늄 합금인 경우, 상기 고융점 활성금속의 용탕의 유지시간이 30∼50초인 것을 특징으로 하는 플라즈마 아크 용해법
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제3항에 있어서, 상기 고융점 활성금속이 이리듐 합금인 경우, 상기 고융점 활성금속의 용탕의 유지시간이 110∼150초인 것을 특징으로 하는 플라즈마 아크 용해법
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고융점 활성금속의 용해 시 외부 공기와의 접촉을 막고, 플라즈마 아크 생성을 원활히 하기 위한 분위기 제어를 할 수 있는 진공 챔버와, 상기 고융점 활성금속의 재료를 공급받도록 상기 챔버의 내부에 설치된 도가니와, 상기 도가니에 근접하게 설치되며, 상기 도가니에 투입된 고융점 활성금속의 재료를 용융시키는 플라즈마 아크를 생성하는 플라즈마 토치 건과, 상기 도가니로부터 용융된 고융점 활성금속을 주입받으며, 작은 직경의 용탕 주입구를 갖는 몰드부와, 상기 몰드부의 용탕 주입구 부근에 설치되어, 상기 용탕 주입구를 통과한 상기 용융된 고융점 활성금속을 급하게 응고시키는 수냉장치와, 상기 응고된 고융점 활성금속을 상기 용탕 주입구 아래로 이송시킴으로써 상기 고융점 활성금속의 소경봉의 길이를 길게 하는 이송장치를 구비하는 고융점 활성금속의 소경봉 제조장치를 이용하여 고융점 활성금속의 소경봉을 제조하는 방법에 있어서,(a) 상기 진공 챔버 내부의 진공도를 2
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제7항에 있어서, 상기 도가니를 냉각시키기 위한 순환식 수냉장치가 상기 도가니 부근에 설치되며, 상기 플라즈마 아크 용해과정이 진행되는 동안 상기 도가니용 수냉장치의 냉각수 및 상기 용탕 주입구 부근의 수냉장치의 냉각수의 압력을 5㎏/㎤ 부근으로 유지하며, 그 온도는 각각 45℃가 넘지 않도록 유지시키는 것을 특징으로 하는 고융점 활성금속의 소경봉 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 고융점 활성금속이 지르코늄 합금인 경우, 상기 고융점 활성금속의 용탕의 유지시간이 50∼110초인 것을 특징으로 하는 고융점 활성금속의 소경봉 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 고융점 활성금속이 티타늄 합금인 경우, 상기 고융점 활성금속의 용탕의 유지시간이 30∼50초인 것을 특징으로 하는 고융점 활성금속의 소경봉 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 고융점 활성금속이 이리듐 합금인 경우, 상기 고융점 활성금속의 용탕의 유지시간이 110∼150초인 것을 특징으로 하는 고융점 활성금속의 소경봉 제조방법
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