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기판의 표면에 포토레지스트를 도포하는 단계;상기 포토레지스트의 상부에 확산판을 위치시키는 단계;상기 확산판의 상부에 마이크로 렌즈의 평면형상이 패터닝된 마스크를 위치시키는 단계;상기 마스크 및 상기 확산판에 광을 조사하여 상기 포토레지스트를 노광시키는 단계;노광된 상기 포토레지스트를 현상하여 경사면이 형성된 마이크로 렌즈의 틀을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 형성방법
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제 1항에 있어서,상기 경사면은 상기 확산판의 광 확산각에 따라 그 기울기가 변화되는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 형성방법
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제 1항에 있어서,상기 포토레지스트의 현상은 상온의 현상액에 상기 포토레지스트를 침지시키는 디핑(Dipping) 방식인 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 형성방법
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기판의 표면에 포토레지스트를 도포하는 단계;상기 포토레지스트의 상부에 확산판을 위치시키는 단계;상기 확산판의 상부에 마이크로 렌즈의 평면형상이 패터닝된 마스크를 위치시키는 단계;상기 마스크 및 상기 확산판에 광을 조사하여 상기 포토레지스트를 노광시키는 단계;노광된 상기 포토레지스트를 현상하여 경사면이 형성된 마이크로 렌즈의 원형틀을 형성하는 단계;상기 원형틀이 형성된 상기 기판의 표면에 금속박막을 코팅하는 단계;상기 금속박막의 표면에 코어금형 원재료를 도금하는 단계;상기 코어금형 원재료와 상기 기판을 분리하여 상기 원형틀에 의한 마이크로 렌즈틀이 형성된 코어금형을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판용 코어금형의 제조방법
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제 4항에 있어서,상기 기판은, 일면이 경면 연마된 유리기판인 것을 특징으로 하는 도광판용 코어금형의 제조방법
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제 4항에 있어서,상기 마스크에 패터닝되는 상기 마이크로 렌즈의 평면형상은 사각인 것을 특징으로 하는 도광판용 코어금형의 제조방법
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제 4항에 있어서,상기 마스크에 패터닝되는 상기 마이크로 렌즈의 평면형상은 원형인 것을 특징으로 하는 도광판용 코어금형의 제조방법
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제 4항에 있어서,상기 경사면은 상기 확산판의 광 확산각에 따라 그 기울기가 변화되는 것을 특징으로 하는 도광판용 코어금형의 제조방법
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제 4항에 있어서,상기 포토레지스트의 현상은 상온의 현상액에 상기 포토레지스트를 침지시키는 디핑(Dipping) 방식인 것을 특징으로 하는 도광판용 코어금형의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 금속박막을 코팅하는 단계는, 상기 기판과 상기 원형틀의 상면에 크롬(Cr)을 코팅하는 단계;상기 크롬의 표면에 금(Au)을 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판용 코어금형의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 코어금형의 원재료는 니켈(Ni)이며, 상기 금속박막의 표면에 전기도금되는 것을 특징으로 하는 도광판용 코어금형의 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 코어금형 원재료와 상기 기판을 분리하는 단계; 이후,상기 마이크로 렌즈틀이 형성된 상기 코어금형의 표면에 니켈을 도금하는 단계;상기 코어금형과, 상기 코어금형에 도금된 니켈을 분리하여 상기 코어금형에 대향된 대향코어금형을 형성하는 단계를 더 포함 하는 것을 특징으로 하는 도광판용 코어금형의 제조방법
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표면에 마이크로 렌즈틀이 형성된 코어금형을 하부금형에 안착하는 단계;상기 하부금형에 상기 하부금형과 결합되어 도광판의 금형공간을 형성하는 상부금형을 결합하는 단계;상기 금형공간에 도광판의 원재료를 주입하고 냉각하는 단계;상기 상부금형과 상기 하부금형을 분리하여 냉각된 도광판을 사출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 코어금형을 이용한 도광판 제조방법
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