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1
가연성 물질을 공급하는 공급부;상기 공급부로부터 이송되는 상기 가연성 물질을 건조, 예열 또는 열분해하여 제1 기상 성분 및 열분해 잔류물을 생성하는 제1 반응부; 및상기 제1 반응부로부터 이송되는 상기 열분해 잔류물을 부분산화 및 연소시켜 제2 기상 성분 및 부분산화 및 연소 잔류물을 생성하거나, 상기 열분해 잔류물을 건조, 예열 또는 열분해하여 제2기상 성분 및 제2 열분해 잔류물을 생성할 수 있는 제2 반응부;를 포함하고, 상기 제1 반응부 및 상기 제2 반응부에서 생성되는 물질들의 이동 수단은 로터리 킬른식 및 스토커식 중 어느 하나 이상으로 이루어지며, 상기 제1 반응부 및 상기 제2 반응부의 출구 및 입구 중 어느 하나 이상, 또는 상부 및 하부 중 어느 하나 이상에는 복수의 직접가열장치가 제공되고, 상기 제1 반응부 및 상기 제2 반응부 중 어느 하나 이상에는 산화제 공급장치가 제공되어 공기, 산소 및 스팀 중 어느 하나 이상을 공급하는 것을 특징으로 하는, 2단 열분해 가스화 장치
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2
제1항에 있어서,상기 제2 반응부에서 생성되는 제2 기상 성분이 상기 제1 반응부 내부로 공급되어 상기 제1 반응부를 추가적으로 가열하는 것을 특징으로 하는, 2단 열분해 가스화 장치
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3
제1항에 있어서, 상기 제2 반응부에서 생성되는 제2 기상 성분이 상기 제2 반응부의 출구 및 입구 중 어느 하나 이상, 또는 상부 및 하부 중 어느 하나 이상에서 배출되어 상기 제1 반응부에서 배출되는 제1 기상 성분을 가열 개질하여 합성 가스로 전환시키는 것을 특징으로 하는, 2단 열분해 가스화 장치
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4
제1항에 있어서, 상기 2단 열분해 가스화 장치는 제1 반응부를 간접 가열하는 간접가열부를 더 포함하고, 그리고 상기 제2 반응부에서 생성되는 제2 기상 성분이 상기 간접가열부로 공급되어 상기 제1 반응부를 간접 가열하거나 또는 상기 간접가열부를 가열하는 복수의 직접가열장치를 이용하여 상기 간접가열부를 추가로 가열하는 것을 특징으로 하는, 2단 열분해 가스화 장치
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5
제3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 2단 열분해 가스화 장치는, 상기 제1 반응부로부터 상기 제2 반응부로 이송되는 상기 열분해 잔류물 중 기체 성분의 이동을 방지할 수 있는 차폐 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 2단 열분해 가스화 장치
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6
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 직접가열장치는 공기, 산소, 스팀, 및 가스 연료를 이용하는 버너 또는 플라즈마 발생장치인 것을 특징으로 하는, 2단 열분해 가스화 장치
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7
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 반응부는 300℃ 내지 800℃의 온도에서 상기 가연성 물질을 열분해하며, 상기 제2 반응부는 700℃ 이상의 온도에서 상기 열분해 잔류물을 부분산화 및 연소시키는 것을 특징으로 하는,2단 열분해 가스화 장치
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8
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 반응부는 300℃ 내지 600℃의 온도에서 상기 가연성 물질을 저온 열분해하며, 상기 제2 반응부는 600℃ 이상의 온도에서 상기 열분해 잔류물을 부분산화 및 연소시키는 것을 특징으로 하는,2단 열분해 가스화 장치
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9
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 반응부는 300℃ 내지 600℃의 온도에서 상기 가연성 물질을 저온 열분해하며, 상기 제2 반응부는 600℃ 이상의 온도에서 상기 열분해 잔류물을 고온 열분해하는 것을 특징으로 하는,2단 열분해 가스화 장치
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10
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화제 공급장치는 외부에서 상기 제1 반응부 또는 상기 제2 반응부 내부로 삽입되는 렌스(lance)로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 2단 열분해 가스화 장치
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11
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 반응부 또는 상기 제2 반응부에는 그 내벽의 둘레에 복수의 홀이 형성되고, 그리고상기 산화제 공급장치는 상기 홀을 통해 상기 제1 반응부 또는 상기 제2 반응부 내부에 산화제를 공급하는 것을 특징으로 하는, 2단 열분해 가스화 장치
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12
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 반응부 또는 상기 제2 반응부에는 그 내벽의 둘레에 복수의 홀이 형성되고, 상기 복수의 홀이 형성된 상기 제1 반응부 또는 상기 제2 반응부의 외벽을 둘러싸도록 제공되는 원통형의 부재를 포함하고, 그리고상기 산화제 공급장치는 상기 홀을 통해 상기 제1 반응부 또는 상기 제2 반응부 내부에 산화제를 공급하는 것을 특징으로 하는, 2단 열분해 가스화 장치
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13
(a) 가연성 물질을 공급하는 단계;(b) 상기 가연성 물질을 제1 반응부로 도입하고 건조, 예열 또는 열분해하여 제1 기상 성분 및 열분해 잔류물을 생성하는 단계; 및(c) 상기 열분해 잔류물을 제2 반응부로 도입하고 부분산화 및 연소시켜 제2 기상 성분 및 부분산화 및 연소 잔류물을 생성하거나, 상기 열분해 잔류물을 건조, 예열 또는 열분해하여 제2기상 성분 및 제2 열분해 잔류물을 생성하는 단계;를 포함하고,상기 (b) 단계 및 상기 (c) 단계에서 생성되는 물질들의 이동 수단은 로터리 킬른식 및 스토커식 중 어느 하나 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 2단계 열분해 가스화 방법
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14
제13항에 있어서, 상기 제2 기상 성분이 상기 제1 반응부 내부로 공급되어 상기 제1 반응부를 추가적으로 가열하는 것을 특징으로 하는, 2단계 열분해 가스화 방법
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15
제13항에 있어서, 상기 제2 기상 성분이 상기 제2 반응부의 입구 또는 출구에서 배출되어 상기 제1 반응부에 공급되면서 상기 제1 기상 성분을 가열 개질하여 합성 가스로 전환시키는 것을 특징으로 하는, 2단계 열분해 가스화 방법
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16
제13항에 있어서, 상기 제1 반응부에는 상기 제1 반응부를 간접 가열하는 간접가열부가 제공되며, 그리고 상기 제2 기상 성분이 상기 간접가열부로 공급되어 상기 제1 반응부를 간접 가열하거나 또는 상기 간접가열부를 가열하는 복수의 직접가열장치를 이용하여 상기 간접가열부를 추가로 가열하는 것을 특징으로 하는, 2단계 열분해 가스화 방법
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제13 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (b) 단계 및 상기 (c) 단계 중 어느 하나 이상에 스팀, 산소, 공기 중 어느 하나 이상을 공급하는 것을 특징으로 하는,2단계 열분해 가스화 방법
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18
제13 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 상기 제1 반응부는 300℃ 내지 800℃의 온도에서 상기 가연성 물질을 열분해하며, 그리고 상기 (c) 단계에서, 상기 제2 반응부는 700℃ 이상의 온도에서 상기 열분해 잔류물을 부분산화 및 연소시키는 것을 특징으로 하는,2단계 열분해 가스화 방법
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제13 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 상기 제1 반응부는 300℃ 내지 600℃의 온도에서 상기 가연성 물질을 저온 열분해하며, 그리고 상기 (c) 단계에서, 상기 제2 반응부는 600℃ 이상의 온도에서 상기 열분해 잔류물을 부분산화 및 연소시키는 것을 특징으로 하는,2단계 열분해 가스화 방법
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20
제13 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 상기 제1 반응부는 300℃ 내지 600℃의 온도에서 상기 가연성 물질을 저온 열분해하며, 그리고 상기 (c) 단계에서, 상기 제2 반응부는 600℃ 이상의 온도에서 상기 열분해 잔류물을 고온 열분해하는 것을 특징으로 하는,2단계 열분해 가스화 방법
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