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기계가공성이 우수한 금속의 표층에 광학패턴을 가공하여 마스터(110)를 제작하는 1단계(S10);상기 광학패턴이 형성된 마스터(110) 상면에 소정두께의 전주 도금층(130)을 형성하는 2단계(S20);상기 전주 도금층(130)이 소정두께 이상 실시된 후의 도금패턴(131)을 마스터(110)로부터 분리하는 3단계(S30); 및상기 마스터(110)로부터 분리된 도금패턴(131)을 지그와 결합시켜 스탬퍼(150)를 제작하는 4단계(S40); 를 포함하는 마이크로패턴 금형제조방법
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제 1항에 있어서,상기 1단계의 마스터 금속은 구리(Cu)인 것을 특징으로 하는 마이크로패턴 금형제조방법
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제 1항에 있어서,상기 1단계의 마스터 금속은 단결정 니켈(Single Crystal Ni)인 것을 특징으로 하는 마이크로패턴 금형제조방법
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제 1항에 있어서,상기 1단계의 마스터 금속은 구리 또는 단결정 니켈과 동등한 기계가공성을 갖는 금속재질 중 어느 하나가 선택되어 사용되는 것을 특징으로 하는 마이크로패턴 금형제조방법
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제 1항에 있어서,상기 1단계의 광학패턴은 미세 프리즘의 요철면인 것을 특징으로 하는 마이크로패턴 금형제조방법
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제 1항에 있어서,상기 1단계의 절삭공구로 다이아몬드 바이트가 사용되는 것을 특징으로 하는 마이크로패턴 금형제조방법
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제 1항에 있어서,상기 광학패턴의 가공 깊이를 20~50㎛로 형성하는 것을 특징으로 하는 마이크로패턴 금형제조방법
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제 1항에 있어서,상기 2단계의 전주도금은 니켈(Ni)을 이용하는 것을 특징으로 하는 마이크로패턴 금형제조방법
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제 1항에 있어서,상기 스탬퍼(150)는 양각 스템퍼인 것을 특징으로 하는 마이크로패턴 금형제조방법
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제 1항에 있어서,상기 스탬퍼(150)는 음각 스템퍼인 것을 특징으로 하는 마이크로패턴 금형제조방법
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제 1항에 있어서,상기 스탬퍼(150)는 금형에 결합되어 도광판 제조에 사용되는 것을 특징으로 하는 마이크로패턴 금형제조방법
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제 1항 내지 제 11항의 금형제조방법으로 제조된 스탬퍼
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제 1항 내지 제 11항의 금형제조방법으로 제조된 도광판
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제 1항 내지 제 11항의 금형제조방법으로 제조된 반사판지용 시트
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제 1항 내지 제 11항의 금형제조방법으로 제조된 프리즘 시트
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