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입사되는 피코초(picosecond) 이하의 레이저 광 펄스를 두 개의 펄스로 분산시키는 빔 스플리터;상기 두 개의 펄스가 표면에 입사되어, 상기 표면에 대하여 수직 방향으로 회절되는 그레이팅; 및상기 회절된 두 개의 펄스가 시간적 및 공간적으로 오버랩되는 크리스탈을 포함하는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 그레이팅과 상기 크리스탈 사이에는 원통 렌즈 및 구면 렌즈가 순차적으로 구비되어 상기 회절된 두 개의 펄스를 집속하는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 시스템
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제2항에 있어서,상기 구면 렌즈는 프러넬 겹프리즘(Fresnel biprism)을 이용할 수 있는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 그레이팅의 양 측부에는 상기 두 개의 펄스가 상기 그레이팅의 표면으로 입사되도록 상기 두 개의 펄스를 각각 굴절하는 제1 미러 및 제2 미러가 설치되는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 시스템
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제4항에 있어서,상기 제1 미러 및 제2 미러로부터 굴절되는 두 개의 펄스는 서로 반대 측으로부터 상기 그레이팅의 표면으로 입사되는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 두 개의 펄스는 상기 그레이팅의 표면에 대하여 80도 내지 90도 범위로 입사되는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 크리스탈은 LiIO3로 이루어지는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 크리스탈에 의하여 오버랩된 제2조파(Second Harmonic Generation)를 파장(Wavelength)과 딜레이(Delay)로 분해하도록 구면 렌즈 및 원통 렌즈가 순차적으로 구비되는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 시스템
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제8항에 있어서,상기 구면 렌즈 및 원통 렌즈로부터 분해된 제2조파를 이용하여 펄스 강도(Pulse Intensity)와 펄스 위상(Pulse Phase)을 측정하는 분광계(Spectrometer)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 시스템
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제1항에 있어서,상기 크리스탈의 폭은 5mm 내지 30mm인 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 시스템
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피코초 이하의 레이저 광 펄스를 발생시키는 제1 단계;상기 발생된 광 펄스를 빔 스플리터를 통하여 두 개의 펄스로 분산시키는 제2 단계;상기 두 개의 펄스를 그레이팅의 표면에 입사받아, 상기 그레이팅의 표면에 대하여 수직 방향으로 회절시키는 제3 단계;상기 회절된 두 개의 펄스를 크리스탈을 통하여 시간적 및 공간적으로 오버랩시켜 제2조파를 출력하는 제4 단계; 및분광계를 통하여 상기 출력된 제2조파의 펄스 강도와 펄스 위상을 측정하는 제5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 방법
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제11항에 있어서,상기 제2 단계와 제3 단계 사이에는 상기 그레이팅과 상기 크리스탈 사이에 순차적으로 구비된 원통 렌즈 및 구면 렌즈를 통하여 상기 회절된 두 개의 펄스를 집속하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 방법
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제11항에 있어서,상기 제4 단계와 상기 제5 단계 사이에는 상기 크리스탈과 상기 분광계 사이에 순차적으로 구비된 구면 렌즈 및 원통 렌즈를 통하여 상기 크리스탈에 의하여 오버랩된 제2조파를 파장과 딜레이로 분해하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 FROG 기법을 이용한 펄스 측정 방법
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