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도광판의 마이크로렌즈 제조방법에 있어서,빛이 통과되는 제1 영역과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역으로 이루어진 마스크를 포토레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시키는 제1 단계;상기 제2 영역 상측에서 하측으로 조사되는 빛이 1~4방향에서 비대칭 경사각을 갖도록 하기위해서 1~4회의 경사 노광을 실시하는 제2 단계;상기 경사 노광된 기판을 현상하여 비대칭 피라미드 형태를 가진 다수의 포토레지스트를 얻는 제3 단계;상기 비대칭 피라미드 형상을 가진 포토레지스트가 음각되도록 하는 음각 스탬퍼를 제작하는 제4 단계; 및상기 음각 스탬퍼를 금형으로 하여 상기 비대칭 피라미드 형상의 포토레지스트가 양각된 도광판을 성형하는 제5 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 도광판의 비대칭 피라미드 마이크로렌즈 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 마스크는 필름 마스크 또는 크롬 마스크인 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 다수의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 마스크 상의 일방향 연장선상으로 복수 개의 제2 영역들이 배열되되, 이러한 배열이 연속 반복하여 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 도광판의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 마스크의 제2 영역은 사각형으로 제작되는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제4 단계는 연속마이크로렌즈가 패턴으로 형성된 기판 상에 금속 박막을 코팅하는 단계와, 상기 금속 박막 상에 니켈 전기 도금을 수행하고 상기 니켈 전기 도금한 영역만을 분리시켜 스탬퍼를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 도광판의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 금속 박막 코팅은 크롬 코팅인 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 금속 박막 코팅은 상기 크롬을 코팅한 후 금을 추가로 코팅하는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 음각 스탬퍼를 마스터로 하여, 상기 음각 스탬퍼의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈의 형상이 양각되도록 한 양각 스탬퍼를 제작하는 단계 및 상기 양각 스탬퍼를 금형으로 하여 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈의 형상이 음각된 도광판을 성형하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법
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제8항에 있어서,상기 양각 스탬퍼는 음각 스탬퍼의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 어레이 패턴 위에 니켈 도금을 실시한 후, 이를 분리시켜 제작하는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법
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복수개의 마이크로렌즈가 형성되는 도광판에 있어서,상기 도광판 상의 일 방향 연장선상으로 비대칭 피라미드 형상을 갖는 복수 개의 마이크로렌즈가 배열되되, 이러한 배열이 연속 반복하여 형성되는 것을 특징으로 하는 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 갖는 도광판
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제 10항에 있어서,상기 도광판 상에 정렬되는 복수 개의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈들 중 일부의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈의 방향이 불규칙한 방향으로 배열되는 것을 특징으로 하는 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 갖는 도광판
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