| 1 |
1
(a) 초기 보론 카바이드 분말(Boron Carbide: B4C)을 APS(atmospheric plasma spray) 장비 내부에 공급하는 단계;(b) 상기 APS 장비 내부에 플라즈마를 도입하여, 상기 초기 보론 카바이드 분말을 플라즈마 용사 처리하는 단계; (c) 상기 플라즈마 용사 처리된 보론 카바이드 분말을 퀀칭(quenching)하는 단계; 및(d) 상기 플라즈마 용사 처리 및 퀀칭된 보론 카바이드 분말을 볼 밀(ball mill)하여 구상화하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 보론 카바이드 분말의 구상화 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 초기 보론 카바이드 분말은 1~10㎛의 평균입도를 갖는 것을 특징으로 하는 보론 카바이드 분말의 구상화 방법
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 초기 보론 카바이드 분말은 앵귤러(angular) 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 보론 카바이드 분말의 구상화 방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서 상기 APS 장비 내부로 도입되는 플라즈마는 아르곤 플라즈마 및 수소 플라즈마를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 용사 처리법을 이용한 보론 카바이드 분말의 구상화 방법
|
| 5 |
5
제4항에 있어서, 상기 수소 플라즈마의 유량은 상기 아르곤 플라즈마의 5~15%인 것을 특징으로 하는 보론 카바이드 분말의 구상화 방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 플라즈마는 공급 노즐을 통하여 상기 APS 장비 내부로 도입되고, 상기 공급 노즐의 끝단과 상기 초기 보론 카바이드 분말과의 간격은 80~120mm인 것을 특징으로 하는 보론 카바이드 분말의 구상화 방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 퀀칭은 증류수(distilled water)를 이용하여 진행되는 것을 특징으로 하는 보론 카바이드 분말의 구상화 방법
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 (d) 단계의 볼 밀은 100~300RPM의 밀링 속도(milling speed)에서 1~3시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 보론 카바이드 분말의 구상화 방법
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 (d) 단계의 볼 밀은 구형의 지르코늄 옥사이드 볼을 밀링 미디어(milling media)로 이용하는 것을 특징으로 하는 보론 카바이드 분말의 구상화 방법
|
| 10 |
10
삭제
|
