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부품의 표면처리방법으로,(a) 상기 부품에 대해 전처리를 수행하는 단계;(b) 상기 전처리된 부품에 대해 플라즈마 연질화처리를 하는 단계; 및(c) 상기 플라즈마 연질화처리된 부품에 대해 플라즈마 산화처리를 하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 부품의 표면처리방법
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제 1 항에 있어서,상기 부품은 저탄소강으로 이루어진 것을 특징으로 하는 부품의 표면처리방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계는 상기 부품을 예열하는 단계와, 예열된 부품을 플라즈마 이온세정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부품의 표면처리방법
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제 3 항에 있어서,상기 예열처리는 450 ~ 500℃까지 가열되는 것을 특징으로 하는 부품의 표면처리방법
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제 3 항에 있어서,상기 플라즈마 이온세정처리는 450 ~ 500℃에서 20 ~ 40분 동안 Ar과 H2 가스를 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 부품의 표면처리방법
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제 1 항에 있어서,상기 (b) 단계에서 상기 플라즈마 연질화처리는, 질소, 수소 및 탄산가스(CO2)의 양은 중량비로 질소와 수소는 3:1 ~ 1:3이고 탄산가스의 양은 전체 가스 양의 0%초과 ~ 10% 이하이며,가스압 1 ~ 3 Torr, 공정시간 2 ~ 6 시간의 조건으로 수행하는 것을 특징으로 하는 부품의 표면처리방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계는 산화성 분위기에서 350 ~ 400℃의 온도에서 1 ~ 4 시간 동안 열처리하는 것을 특징으로 하는 부품의 표면처리방법
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제 7 항에 있어서,상기 산화성 분위기는 수소와 산소 가스비가 1:2 ~ 1:3의 비율로 혼합된 혼합가스 분위기인 것을 특징으로 하는 부품의 표면처리방법
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제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 부품은 IT 제품의 구동계 부품인 것을 특징으로 하는 부품의 표면처리방법
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제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,표면처리된 상기 부품의 표면은 산화물에 질화물 입자가 아일랜드 형상으로 분포하는 조직으로 이루어진 것을 특징으로 하는 부품의 표면처리방법
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표면처리된 저탄소강 부품으로, 상기 부품의 표면은 산화물에 질화물 입자가 아일랜드 형상으로 분포하는 조직으로 이루어진 것을 특징으로 하는 부품
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제 11 항에 있어서,상기 표면처리는 (a) 상기 부품에 대해 전처리를 수행하는 단계; (b) 상기 전처리된 부품에 대해 플라즈마 연질화처리를 하는 단계; 및 (c) 상기 플라즈마 연질화처리된 부품에 대해 플라즈마 산화처리를 하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 부품
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제 11 항에 있어서,상기 부품은 IT 제품의 구동계 부품인 것을 특징으로 하는 부품
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제 11 항에 있어서,상기 산화물은 마그네타이트(Fe3O4)를 포함하는 것을 특징으로 하는 부품
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