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전도성 고분자 조성물, 이를 포함하는 전도성 필름 및 전도성 필름의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015149224
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 전도성 고분자 조성물, 전도성 고분자 필름 및 전도성 고분자 필름의 제조방법에 관한 것으로, 폴리티오펜계 전도성 고분자 및 하기 화학식 1의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 한다.[화학식 1](여기서, R1, R2 또는 R3은 수소 또는 C1 내지 C10의 알킬기 중 하나이고, R'는 수소 또는 C1 내지 C6의 알킬기 중 적어도 하나임)상기 전도성 고분자 조성물은 투과도가 우수하면서도 전도도가 현저히 향상되어 우수한 물성을 가지는 투명전극을 구현할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL C08L 65/00 (2006.01) C08K 5/41 (2006.01) H01B 3/30 (2006.01) C08J 5/18 (2006.01)
CPC C08L 65/00(2013.01) C08L 65/00(2013.01) C08L 65/00(2013.01) C08L 65/00(2013.01)
출원번호/일자 1020130089502 (2013.07.29)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1642265-0000 (2016.07.19)
공개번호/일자 10-2015-0014170 (2015.02.06) 문서열기
공고번호/일자 (20160726) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.07.29)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최경호 대한민국 충남 천안시 서북구
2 신교직 대한민국 경기 화성
3 이상국 대한민국 경기 용인시 수지구
4 안미임 대한민국 경기 안양시 동안구
5 류주민 대한민국 경기 하남시 덕산로 **, **

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나승택 대한민국 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소)
2 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-0685183-10
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2014.04.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2014.05.13 수리 (Accepted) 9-1-2014-0038991-74
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.08.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0586762-72
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.10.27 수리 (Accepted) 1-1-2014-1028767-44
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.11.27 수리 (Accepted) 1-1-2014-1153098-17
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2014-1263251-09
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2015.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2015-0088902-18
10 지정기간연장 관련 안내서
Notification for Extension of Designated Period		 2015.01.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0023767-87
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.02.26 수리 (Accepted) 1-1-2015-0189913-12
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.02.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0189924-14
13 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2015.07.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0503244-00
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.09.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0923882-02
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.09.22 수리 (Accepted) 1-1-2015-0923854-23
16 심사처리보류(연기)보고서
Report of Deferment (Postponement) of Processing of Examination		 2016.02.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2016-0020350-04
17 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2016.04.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0314709-85
18 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2016.05.30 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0520429-81
19 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2016-0520413-51
20 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2016.07.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0494069-38
21 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)		 2016.08.05 수리 (Accepted) 1-1-2016-0761145-50
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜 및 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜:폴리스티렌설포네이트 중 적어도 하나인 폴리티오펜계 전도성 고분자 100중량부에 대하여 4-설포프탈산 1 내지 10중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 조성물
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
투명기재; 및상기 투명기재 상에 형성된 전도성 고분자층;을 포함하고,상기 전도성 고분자층은, 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜 및 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜:폴리스티렌설포네이트 중 적어도 하나인 폴리티오펜계 전도성 고분자 100중량부에 대하여 4-설포프탈산 1 내지 10중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름
5 5
삭제
6 6
제 4항에 있어서,상기 전도성 필름은 면저항값이 200Ω/sq 이하인 것을 특징으로 하는 전도성 필름
7 7
전도성 필름을 제조하는 방법에 있어서,투명기재를 준비하는 투명기재 준비단계; 상기 투명기재 상에, 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜 및 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜:폴리스티렌설포네이트 중 적어도 하나인 폴리티오펜계 전도성 고분자 100중량부에 대하여 4-설포프탈산 1 내지 10중량부를 사용하여, 상기 폴리티오펜계 전도성 고분자를 4-설포프탈산으로 산 처리하여 전도성 고분자층을 형성하는 단계;를 포함하는 전도성 필름의 제조방법
8 8
삭제
9 9
제 7항에 있어서,상기 전도성 고분자층 형성단계는,상기 폴리티오펜계 전도성 고분자 용액, 상기 4-설포프탈산 및 극성용매를 혼합하고 교반하여 전도성 고분자 혼합물을 형성하는 전도성 고분자 혼합물 형성단계; 및상기 투명기재 상에 상기 전도성 고분자 혼합물을 코팅하는 전도성 고분자 혼합물 코팅단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법
10 10
제 9항에 있어서,상기 극성용매는 N-메틸피롤리돈, 디메틸포름아마이드, 에틸렌글리콜 또는 디메틸설폭시드 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법
11 11
제 7항에 있어서,상기 전도성 고분자층 형성단계는,상기 투명기재 상에 상기 폴리티오펜계 전도성 고분자 용액을 코팅하여 제 1전도성 필름을 형성하는 제 1전도성 필름 형성단계;상기 제 1전도성 필름을 건조하는 건조단계; 및상기 제 1전도성 필름 상에 상기 4-설포프탈산을 코팅하여 제 2전도성 필름을 형성하는 제 2전도성 필름 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법
12 12
제 7항에 있어서,상기 전도성 필름을 110 내지 200℃의 분위기 하에서 1 내지 30분간 건조하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국생산기술연구원 부품소재 국제공동기술개발사업 고감도 플렉서블 터치패널용 비시인성 유기 투명전도성 필름 기술개발