요약 | 본 발명은 복합체에서, 우수한 내열특성, 구체적으로, 낮은 열팽창계수(CTE, Coefficient of Thermal Expansion)와 높은 유리전이 상승효과 및/또는 경화물에서 우수한 난연성을 나타내며 별도의 실란커플링제를 필요로 하지 않는 알콕시실릴계 에폭시 화합물, 이의 제조방법, 이를 포함하는 조성물 및 경화물에 관한 것이다. 본 발명에 의하면 적어도 하나의 알콕시실릴기 및 적어도 2개의 에폭시기를 갖는 알콕시실릴계 에폭시 화합물; 출발물질의 에폭시 개환반응, 및 알콕시실릴화로 제조되는 상기 알콕시실릴계 에폭시 화합물의 제조방법; 상기 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 조성물; 및 이의 경화물 및 용도가 제공된다. 본 발명에 의한 새로운 알콕시실릴계 에폭시 화합물을 포함하는 조성물의 복합체인 경화물은 에폭시 화합물 중 알콕시실릴기와 충전제의 화학적 결합뿐만 아니라 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 알콕시실릴기간의 화합결합에 의해 복합체 형성시, 화합결합 효율이 향상된다. 따라서, 복합체에서 낮은 CTE 및 높은 유리전이온도의 우수한 내열특성 및/또는 경화물에서 우수한 난연성을 나타낸다. |
---|---|
Int. CL | C09J 163/00 (2006.01) C07F 7/10 (2006.01) |
CPC | C07F 7/10(2013.01) C07F 7/10(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020130111473 (2013.09.17) |
출원인 | 한국생산기술연구원 |
등록번호/일자 | 10-1596880-0000 (2016.02.17) |
공개번호/일자 | 10-2014-0036983 (2014.03.26) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20160223) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 |
대한민국 | 1020120102932 | 2012.09.17
|
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2013.09.17) |
심사청구항수 | 51 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국생산기술연구원 | 대한민국 | 충청남도 천안시 서북구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 전현애 | 대한민국 | 경기 성남시 분당구 |
2 | 김윤주 | 대한민국 | 서울 강남구 |
3 | 박수진 | 대한민국 | 경기 안산시 상록구 |
4 | 탁상용 | 대한민국 | 부산 중구 |
5 | 박성환 | 대한민국 | 경기 군포시 수리산로 **, * |
6 | 강경남 | 대한민국 | 경기 안산시 상록구 |
7 | 박숙연 | 대한민국 | 경기 군포시 오금로 **, * |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 특허법인씨엔에스 | 대한민국 | 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국생산기술연구원 | 대한민국 | 충청남도 천안시 서북구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2013.09.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0848806-80 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.01.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5006834-98 |
3 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2015.03.11 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0167717-01 |
4 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2015.05.11 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2015-0446092-38 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2015.05.11 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-0446090-47 |
6 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2015.09.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0666957-67 |
7 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2015.11.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1144381-57 |
8 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2015.12.28 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2015-1277745-58 |
9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2015.12.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1277670-22 |
10 | 등록결정서 Decision to grant |
2016.01.06 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0012420-91 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.07.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5123030-77 |
번호 | 청구항 |
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1 |
1 하기 화학식 A' 내지 N'로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 코어에;(1) 하기 화학식 S11 내지 S16로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되거나, (2) 하기 화학식 S21 내지 S26로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되거나, (3) 하기 화학식 S11 내지 S16 및 하기 화학식 S31 내지 S38로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되거나, 또는 (4) 하기 화학식 S21 내지 S26 및 하기 화학식 S31 내지 S38로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는, 적어도 하나의 알콕시실릴기; 및 하기 화학식 S51 내지 S58로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 적어도 2개의 에폭시기를 가지는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물 |
2 |
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3 |
3 삭제 |
4 |
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5 |
5 삭제 |
6 |
6 제1항에 있어서, 상기 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물은 하기 화학식 S41 내지 S45로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 화학식 S4 치환기를 추가로 포함하는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물 |
7 |
7 삭제 |
8 |
8 출발물질인 에폭시기를 3이상 갖는 에폭시 화합물과 알릴알코올을 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시켜서 중간생성물을 형성하는 제1단계; 및 상기 중간생성물과 하기 화학식 B1의 화합물을 염기 및 임의의 용매 존재하에서 반응시켜서, 하기 화학식 (A') 내지 (N')로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 코어에 하기 화학식 S11 내지 S16로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 적어도 하나의 알콕시실릴기; 하기 화학식 S51 내지 S55 및 S57로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 2개의 에폭시기; 및 하기 화학식 S41 내지 S45로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 임의의 치환기를 갖는 에폭시 화합물을 형성하는 제2단계를 포함하며,출발물질인 에폭시기를 3 이상 갖는 에폭시 화합물은 하기 화학식 (A') 내지 (N')로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 코어 및 하기 화학식 S51 내지 S54로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 3개의 에폭시기를 가지는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
9 |
9 제8항에 있어서,상기 제2단계에서 형성된 에폭시 화합물과 하기 화학식 B2의 화합물을 금속촉매 및 임의의 용매 존재하에서 반응시켜서, 상기 화학식 (A') 내지 (N')로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 코어에 상기 화학식 S11 내지 S16 및 하기 화학식 S31 내지 S38로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 적어도 하나의 알콕시실릴기; 및 하기 화학식 S51 내지 S58로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 2개의 에폭시기; 및 하기 화학식 S41 내지 S45로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 임의의 치환기를 갖는 에폭시 화합물 형성하는 임의의 제3단계를 추가로 포함하는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
10 |
10 출발물질인 에폭시기를 3이상 갖는 에폭시 화합물과 알릴알코올을 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시켜서 중간생성물을 형성하는 제1단계; 및 상기 중간생성물과 하기 화학식 B2의 화합물을 금속촉매 및 임의의 용매 존재하에서 반응시켜서, 하기 화학식 (A') 내지 (N')로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 코어에 하기 화학식 S21 내지 S26로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 적어도 하나의 알콕시실릴기; 하기 화학식 S51 내지 S56으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 2개의 에폭시기; 및 하기 화학식 S41 내지 S45로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 임의의 치환기를 갖는 에폭시화합물을 형성하는 제2단계를 포함하며,출발물질인 에폭시기를 3이상 갖는 에폭시 화합물은 하기 화학식 (A') 내지 (N')로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 코어 및 하기 화학식 S51 내지 S54로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 3개의 에폭시기를 가지는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
11 |
11 제10항에 있어서,상기 제2단계에서 형성된 에폭시 화합물과 하기 화학식 B1의 화합물을 염기 및 임의의 용매 존재하에서 반응시켜서, 상기 화학식 (A') 내지 (N')로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 코어에 상기 화학식 S21 내지 S26, 및 하기 화학식 S31 내지 S38로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 적어도 하나의 알콕시실릴기; 하기 화학식 S51 내지 S58로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 2개의 에폭시기; 및 하기 화학식 S41 내지 S45로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 임의의 치환기를 가지는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물을 형성하는 임의의 제3단계를 추가로 포함하는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
12 |
12 삭제 |
13 |
13 제8항 또는 제10항에 있어서, 상기 제1단계에서 얻어지는 중간생성물은 상기 화학식 (A') 내지 (N')로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 코어에 하기 화학식 S41 내지 S45로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 1개의 치환기, 및 하기 화학식 S51 내지 S55로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 2개의 에폭시기를 갖는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
14 |
14 삭제 |
15 |
15 삭제 |
16 |
16 삭제 |
17 |
17 삭제 |
18 |
18 제8항 또는 제10항에 있어서, 상기 제1단계는 상기 출발물질의 에폭시기 1 당량에 대하여 상기 알릴알코올이 0 |
19 |
19 제8항 또는 제10항에 있어서, 상기 제1단계는 상온 내지 120℃로 1시간 내지 120시간 동안 행하여지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
20 |
20 제8항에 있어서, 상기 제2단계는 상기 중간생성물의 히드록시기 1당량에 대하여 상기 화학식 B1의 알콕시실란이 0 |
21 |
21 제10항에 있어서, 상기 제2단계는 상기 중간생성물의 알릴기 1당량에 대하여 상기 화학식 B2의 알콕시실란이 0 |
22 |
22 제8항 또는 제10항에 있어서, 상기 제2단계는 상온 내지 120℃에서 1시간 내지 72시간 동안 행하여지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
23 |
23 제9항에 있어서, 상기 임의의 제3단계는 상기 제2단계에서 얻어지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 알릴기 1당량에 대하여 상기 화학식 B2의 알콕시실란이 0 |
24 |
24 제11항에 있어서, 상기 임의의 제3단계는 상기 제2단계에서 얻어지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 히드록시기 1당량에 대하여 상기 화학식 B1의 알콕시실란이 0 |
25 |
25 제9항 또는 제11항에 있어서, 상기 임의의 제3단계는 상온 내지 120℃에서 1시간 내지 72시간 동안 행하여지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
26 |
26 제1항의 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 조성물 |
27 |
27 제26항에 있어서, 글리시딜에테르계 에폭시 화합물, 글리시딜계 에폭시 화합물, 글리시딜아민계 에폭시 화합물, 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물, 고무 개질된 에폭시 화합물, 지방족 폴리 글리시딜계 에폭시 화합물 및 지방족 글리시딜 아민계 에폭시 화합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 에폭시 화합물을 추가로 포함하는 에폭시 조성물 |
28 |
28 제27항에 있어서, 상기 에폭시 화합물은 코어구조로 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 비페닐, 나프탈렌, 벤젠, 티오디페놀, 플루오렌(fluorene), 안트라센, 이소시아누레이트, 트리페닐메탄, 1,1,2,2-테트라페닐에탄, 테트라페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 아미노페놀, 시클로 지방족, 또는 노볼락 유니트를 갖는 에폭시 조성물 |
29 |
29 제27항에 있어서, 에폭시 화합물의 총 중량을 기준으로 상기 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물 10 내지 100wt% 및 글리시딜에테르계 에폭시 화합물, 글리시딜계 에폭시 화합물, 글리시딜아민계 에폭시 화합물, 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물, 고무 개질된 에폭시 화합물, 지방족 폴리 글리시딜계 에폭시 화합물 및 지방족 글리시딜 아민계 에폭시 화합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 최소 일종의 에폭시 화합물 0wt% 내지 90wt%를 포함하는 에폭시 조성물 |
30 |
30 제29항에 있어서, 에폭시 화합물의 총 중량을 기준으로 상기 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물 30 내지 100wt% 및 글리시딜에테르계 에폭시 화합물, 글리시딜계 에폭시 화합물, 글리시딜아민계 에폭시 화합물, 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물, 고무 개질된 에폭시 화합물, 지방족 폴리 글리시딜계 에폭시 화합물 및 지방족 글리시딜 아민계 에폭시 화합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 최소 일종의 에폭시 화합물 0wt% 내지 70wt%를 포함하는 에폭시 조성물 |
31 |
31 제26항에 있어서, 무기입자 또는 섬유로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 충전제를 추가로 포함하는 에폭시 조성물 |
32 |
32 제31항에 있어서, 상기 무기입자는 실리카, 지르코니아, 티타니아, 알루미나, 질화규소 및 질화알루미늄으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 금속산화물, 및 T-10형 실세스퀴녹산, 래더형 실세스퀴녹산, 및 케이지형 실세스퀴녹산으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종인 에폭시 조성물 |
33 |
33 제31항에 있어서, 상기 무기입자는 에폭시 조성물의 고형분의 총 중량을 기준으로 5wt% 내지 95wt%인 에폭시 조성물 |
34 |
34 제33항에 있어서, 상기 무기입자는 에폭시 조성물의 고형분의 총 중량을 기준으로 30wt% 내지 95wt%인 에폭시 조성물 |
35 |
35 제33항에 있어서, 상기 무기입자는 에폭시 조성물의 고형분의 총 중량을 기준으로 5wt% 내지 60wt%인 에폭시 조성물 |
36 |
36 제31항에 있어서, 상기 섬유는 E 유리섬유, T 유리섬유, S 유리섬유, NE 유리섬유, D 유리섬유, H 유리섬유, 및 석영으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 유리섬유 및 액정 폴리에스테르 섬유, 폴리에틸렌테레프탈레이트 섬유, 전방향족 섬유, 폴리옥시벤자졸 섬유, 나일론 섬유, 폴리에틸렌 나프탈레이트 섬유, 폴리프로필렌 섬유, 폴리에테르 술폰 섬유, 폴리비닐리덴플로라이드 섬유, 폴리에틸렌 술파이드 섬유, 및 폴리에테르에테르케톤 섬유로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 유기 섬유로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종인 에폭시 조성물 |
37 |
37 제36항에 있어서, 상기 섬유는 E 유리섬유인 에폭시 조성물 |
38 |
38 제36항에 있어서, 상기 섬유는 T 유리섬유인 에폭시 조성물 |
39 |
39 제31항에 있어서, 상기 섬유는 상기 에폭시 조성물의 고형분의 총 중량에 대하여 10 wt% 내지 90wt%로 포함되는 에폭시 조성물 |
40 |
40 제31항에 있어서, 섬유를 포함하는 경우에, 무기입자를 추가로 포함하는 에폭시 조성물 |
41 |
41 제26항에 있어서, 경화제를 추가로 포함하는 에폭시 조성물 |
42 |
42 제26항에 있어서, 알콕시실릴기 반응촉매를 추가로 포함하는 에폭시 조성물 |
43 |
43 제42항에 있어서, 상기 알콕시실릴기 반응촉매는 질산, 황산, 염산, 아세트산 및 인산으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 무기산, 카르복실기를 갖은 유기산, 암모니아, KOH, NH4OH, 아민, 전이 금속 알콕사이드, 주석(tin) 화합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종인 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 조성물 |
44 |
44 제42항에 있어서, 상기 반응촉매는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물에 대하여 0 |
45 |
45 제42항에 있어서, 물을 추가적으로 포함하는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 조성물 |
46 |
46 제26항 내지 제45항 중 어느 한 항의 에폭시 조성물을 포함하는 전자재료 |
47 |
47 제26항 내지 제45항 중 어느 한 항의 에폭시 조성물을 포함하는 기판 |
48 |
48 제26항 내지 제45항 중 어느 한 항의 에폭시 조성물을 포함하는 필름 |
49 |
49 제26항 내지 제45항 중 어느 한 항의 에폭시 조성물로 이루어진 기재층 상에 금속층을 포함하는 적층판 |
50 |
50 제49항의 적층판을 포함하는 인쇄배선판 |
51 |
51 제50항의 인쇄배선판을 포함하는 반도체 장치 |
52 |
52 제26항 내지 제45항 중 어느 한 항의 에폭시 조성물을 포함하는 반도체 패키징 재료 |
53 |
53 제52항의 반도체 패키징 재료를 포함하는 반도체 장치 |
54 |
54 제26항 내지 제45항 중 어느 한 항의 에폭시 조성물을 포함하는 접착제 |
55 |
55 제26항 내지 제45항 중 어느 한 항의 에폭시 조성물을 포함하는 도료 |
56 |
56 제26항 내지 제45항 중 어느 한 항의 에폭시 조성물을 포함하는 복합재료 |
57 |
57 제26항 내지 제45항 중 어느 한 항의 에폭시 조성물을 포함하는 프리프레그 |
58 |
58 제57항의 프리프레그에 금속층이 배치된 적층판 |
59 |
59 제26항 내지 제45항 중 어느 한 항의 에폭시 조성물의 경화물 |
60 |
60 제59항에 있어서, 열팽창계수가 60ppm/℃이하인 에폭시 조성물의 경화물 |
61 |
61 제59항에 있어서, 유리전이온도가 100℃ 보다 높거나 유리전이온도를 나타내지 않는 에폭시 조성물의 경화물 |
지정국 정보가 없습니다 |
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순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
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1 | CN104903332 | CN | 중국 | FAMILY |
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3 | EP2933257 | EP | 유럽특허청(EPO) | DOCDBFAMILY |
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국가 R&D 정보가 없습니다. |
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특허 등록번호 | 10-1596880-0000 |
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표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20130917 출원 번호 : 1020130111473 공고 연월일 : 20160223 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20160106 청구범위의 항수 : 8 유별 : C07F 7/10 발명의 명칭 : 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물, 경화물 및 이의 용도 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 1,017,000 원 | 2016년 02월 18일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 581,000 원 | 2019년 01월 02일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 108,000 원 | 2020년 01월 06일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
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1 | [특허출원]특허출원서 | 2013.09.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0848806-80 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.01.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5006834-98 |
3 | 의견제출통지서 | 2015.03.11 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0167717-01 |
4 | [명세서등 보정]보정서 | 2015.05.11 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2015-0446092-38 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2015.05.11 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-0446090-47 |
6 | 의견제출통지서 | 2015.09.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0666957-67 |
7 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2015.11.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1144381-57 |
8 | [명세서등 보정]보정서 | 2015.12.28 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2015-1277745-58 |
9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2015.12.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1277670-22 |
10 | 등록결정서 | 2016.01.06 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0012420-91 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.07.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5123030-77 |
기술정보가 없습니다 |
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과제정보가 없습니다 |
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