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(a) 측정대상공간을 제어부가 2차원적으로 분할하되, 2차원적으로 분할된 공간이 n2개의 상호 등면적을 갖도록 분할하는 단계; (b) 상기 분할된 측정대상공간들 중 발광 측 최외곽에 위치된 분할 공간들(A1, A4, A7)의 발광점에서 수광 측 최외곽에 위치된 분할 공간들(A3, A6, A9)의 수광점을 향해 1:n으로 대응되게 레이저광을 발광시켜 수광부에서 흡수신호를 검출하는 단계; (c) 상기 수광부에서 검출된 흡수신호에 기초하여 제어부가 직접 흡수 분광 기법으로 n2개의 흡광도의 넓이를 연산하는 단계; (d) 상기 연산된 흡광도의 넓이에 기초하여 제어부가 분할된 측정대상공간의 구간별로 레이저광의 n2개의 제1 선 강도 변화(ai=S1(Ti)Xi)를,(Asi: 광 투과 경로별 흡광도의 넓이, P: 측정대상공간 내에서의 압력, Xabs: 몰분율)의 함수식으로부터 연산하는 단계; 및 (e) 상기 제1 선 강도 변화(ai=S1(Ti)Xi)와, (a) 단계부터 (d) 단계까지 수행하여 연산 처리된 다른 파장 대역의 제2 선 강도 변화(bi=S2(Ti)Xi)를 가지고 제어부가 상기 분할된 측정대상공간의 구간별 온도를,의 함수식으로부터 산출하여 상기 측정대상공간의 2차원적 온도 분포를 매핑(mapping)하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 2차원적 가스 온도 분포 측정 방법
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(a´) 측정대상공간을 제어부가 3차원적으로 분할하되, 3차원적으로 분할된 공간이 n3개의 상호 등체적을 갖도록 분할하는 단계; (b´) 상기 분할된 측정대상공간들 중 발광 측 최외곽에 위치된 분할 공간들(A1, A2, A3, A10, A11, A12, A19, A20, A21)의 발광점에서 수광 측 최외곽에 위치된 분할 공간들(A7, A8, A9, A16, A17, A18, A25, A26, A27) 중 동일 높이에 있는 n개의 수광점을 향해 1:n으로 대응되게 레이저광을 발광시켜 수광부에서 흡수신호를 검출하는 단계; (c´) 상기 수광부에서 검출된 흡수신호에 기초하여 제어부가 직접 흡수 분광 기법으로 n3개의 흡광도의 넓이를 연산하는 단계; (d´) 상기 연산된 흡광도의 넓이에 기초하여 제어부가 분할된 측정대상공간의 구간별로 레이저광의 n3개의 제1 선 강도 변화(ai=S1(Ti)Xi)를,(Asi: 광 투과 경로별 흡광도의 넓이, P: 측정대상공간 내에서의 압력, Xabs: 몰분율)의 함수식으로부터 연산하는 단계; 및 (e´) 상기 제1 선 강도 변화(ai=S1(Ti)Xi)와, (a´) 단계부터 (d´) 단계까지 수행하여 연산 처리된 다른 파장 대역의 제2 선 강도 변화(bi=S2(Ti)Xi)를 가지고 제어부가 상기 분할된 측정대상공간의 구간별 온도를,의 함수식으로부터 산출하여 상기 측정대상공간의 3차원적 온도 분포를 매핑하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원적 가스 온도 분포 측정 방법
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