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희토류를 함유하는 영구자석 분말 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015149442
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 희토류 영구자석 분말 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면 Nd계 희토류 영구자석 분말을 제조하는데 있어 급속응고법의 일환인 가스분무공정(Gas atomization process)을 이용하여 조직이 미세하고 화학적으로 균질한 급속응고 자석 분말을 제조함으로써 조성이 균일한 Nd2Fe14B 상과 Nd-rich 상으로 이루어진 구형의 분말을 제조할 수 있었다. 본 발명의 방법에 따라 제조된 분말은 1 ~ 90 μm 입도 범위를 나타내는 구형의 분말 형태로 입도별 분급을 통해 분말의 크기에 따른 자석의 제조 및 기존 공정 보다 짧은 분쇄과정을 거쳐 강자성 소결 자석 및 본딩 자석의 제조가 가능할 것이다.
Int. CL H01F 41/02 (2006.01) H01F 1/06 (2006.01)
CPC H01F 41/0253(2013.01)H01F 41/0253(2013.01)H01F 41/0253(2013.01)
출원번호/일자 1020140010703 (2014.01.28)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1683439-0000 (2016.12.01)
공개번호/일자 10-2015-0090377 (2015.08.06) 문서열기
공고번호/일자 (20161208) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.01.28)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김택수 대한민국 인천 연수구
2 박경태 대한민국 경북 포항시 북구
3 김범성 대한민국 경기 안양시 동안구
4 최현진 대한민국 충남 천안시 서북구
5 남선우 대한민국 충청남도 천안시 서북구
6 문철동 대한민국 충남 서산시 안견로 *

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 정안 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로 *** ***층(논현동,썬라이더빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-0093586-66
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2014.02.03 수리 (Accepted) 1-1-2014-0101193-60
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2015.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2015-0092305-10
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.11.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0810903-03
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.01.25 수리 (Accepted) 1-1-2016-0080354-56
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.02.23 수리 (Accepted) 1-1-2016-0177386-58
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.02.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0177410-67
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.06.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0404369-98
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.08.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0747731-77
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.08.01 수리 (Accepted) 1-1-2016-0747730-21
12 등록결정서
Decision to grant
2016.11.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0850702-94
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
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번호 청구항
1 1
1) Fe 및 B를 장입 장치부에 첨가하는 단계;2) 상기 1) 단계의 장입 장치부를 1400℃ 내지 1500℃ 온도로 가온하여 Fe 및 B를 용해하는 단계; 3) 상기 2) 단계의 장입 장치부에 재료 추가 장입장치를 통해 Nd를 장입하고 용해하여 합금물 용탕을 제조하는 단계; 및 4) 상기 3) 단계의 합금물 용탕에 가스 분사하는 단계를 포함하며,상기 합금물 원소의 조성비는 Nd 20~35 중량%, Fe 66~72 중량% 및 B 0
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1항에 있어서,가스 분사 단계는 1 내지 3 MPa 압력으로 분사하는 희토류 영구자석 분말의 제조 방법
5 5
제 1항에 있어서,분말은 0
6 6
제 1항에 있어서,분말은 Nd2Fe14B상 및 Nd-rich 상으로 생성된 희토류 영구자석 분말의 제조 방법
7 7
제 1항에 있어서, 가온 단계는 고주파 유도 용해, 전기로 용해, 전자빔 용해, 아크 용해, 레이져 용해 및 플라즈마 용해로 구성된 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 수행되는 희토류 영구자석 분말의 제조 방법
8 8
제 1항에 있어서, 분말 내부에 존재하는 결정립의 크기는 1~8 μm의 크기인 희토류 영구자석 분말의 제조 방법
9 9
제 1항에 있어서,가스 분사 단계에서 가스 노즐이 18-홀 이상의 홀 유형 또는 환형의 링 유형인 희토류 영구자석 분말의 제조 방법
10 10
제 1항에 있어서,가스 분사 단계에서 내경이 2~6 mm 크기의 BNC (Boron Nitride and Carbon) 및 세라믹 재질을 가지는 오리피스로 분사되는희토류 영구자석 분말의 제조 방법
11 11
Fe 및 B 원소를 포함하는 합금물을 1400 내지 1500에서 가온하고, 이후 재료추가 장입 장치를 통해 Nd를 장입하여 용해한 합금물 용탕에 가스 분사하여 제조하며,상기 합금물의 조성비는 Nd 20~35 중량%, Fe 66~72 중량% 및 B 0
12 12
삭제
13 13
제 11항에 있어서,분말은 0
14 14
제 11항에 있어서, 분말 내부에 존재하는 결정립의 크기는 1~8 μm의 크기인 희토류 영구자석 분말
15 15
가스 분무 장치에 있어서,희토류 원소를 장입시키는 장입장치부; 재료 추가 장입장치부;가온부; 및 가스 분사부를 포함하는 가스 분무 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국생산기술연구원 부품소재 국제기술협력사업 Mg을 이용한 희토자석의 고기능 순환 소재화 기술 개발