맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

타격증발 착막처리용 원통형 자석체

  • 기술번호 : KST2015149483
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 원통형 지지물의 내측 양 끝에는 동심원상으로 고정 홈을 등간격으로 다수 개 형성하고 상기 고정 홈에는 자장이 결맞도록 자석이 설치되어 형성된 제1 및 제2 자석군을 형성하는 자석들과 외면이 접하도록 지지원통과 그 내측으로 타격체를 설치하며 타격체의 중심부는 작업재가 통과할 수 있도록 공간이 형성되어 이루어진 것을 특징으로 하는 타격증발 착막처리용 원통형 자석체에 관한 것으로서, 원기둥형 작업재의 표면에 대한 금속 증착에 있어서 원기둥형 및 기타 곡면을 가진 작업재의 표면전체에 대한 균일증착 및 증착두께의 균일화를 이룰 수 있게 된다.
Int. CL C23C 14/35 (2006.01)
CPC H01J 37/32669(2013.01)H01J 37/32669(2013.01)H01J 37/32669(2013.01)H01J 37/32669(2013.01)
출원번호/일자 1020020049228 (2002.08.20)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2004-0017106 (2004.02.26) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.08.20)
심사청구항수 7

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 리의재 대한민국 서울특별시서초구
2 김재홍 대한민국 경기도의정부시

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 노완구 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로**길 **-*, *층 (서초동, 썬라이즈빌딩)(미로텍특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2002.08.20 수리 (Accepted) 1-1-2002-0267983-45
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document		 2002.08.22 수리 (Accepted) 1-1-2002-5207722-90
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2004.02.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2004.02.12 수리 (Accepted) 9-1-2004-0006106-65
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.07.03 수리 (Accepted) 4-1-2004-5053909-24
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2004.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0357820-72
7 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2004.10.30 무효 (Invalidation) 1-1-2004-0501657-79
8 보정요구서
Request for Amendment		 2004.11.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2004-0076125-36
9 무효처분통지서
Notice for Disposition of Invalidation		 2004.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2004-0086636-34
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2005.03.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0149799-66
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2007.02.09 수리 (Accepted) 4-1-2007-5022520-66
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.10.20 수리 (Accepted) 4-1-2008-5164358-96
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.11.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5178457-80
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.01.20 수리 (Accepted) 4-1-2009-5013686-94
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

원통형 지지물의 내측 양 끝에는 동심원상으로 고정 홈을 등간격으로 다수 개 형성하고 상기 고정 홈에는 자장이 결맞도록 자석이 설치되어 형성된 제1 및 제2 자석군을 형성하는 자석들과 외면이 접하도록 지지원통과 그 내측으로 타격체를 설치하며 타격체의 중심부는 작업재가 통과할 수 있도록 공간이 형성되어 이루어진 것을 특징으로 하는 타격증발 착막처리용 원통형 자석체

2 2

제1 항에 있어서, 상기 제1 자석군을 형성하는 자석의 N극이 중심을 향하도록 설치되며 제2 자석군을 형성하는 자석의 극성은 S극이 중심을 향하도록 설치된 것을 특징으로 하는 타격증발 착막처리용 원통형 자석체

3 3

제1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 자석군을 형성하는 자석의 극성배열이 동일하며 양 끝의 동심원상에 형성된 제1 및 제2 자석군 사이에는 적어도 자성체 돌기물이 설치된 것을 특징으로 하는 타격증발 착막처리용 원통형 자석체

4 4

제4항에 있어서, 1군 이상의 분격자석군을 더 설치하고 그 자석크기가 제1 및 제2 자석군보다 크게 형성된 것을 특징으로 하는 타격증발 착막처리용 원통형 자석체

5 5

제1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 자석군을 형성하는 자석의 극성배열이 동일하며 양 끝의 동심원 상에 형성된 제1 및 제2 자석군 사이에는 고정 홈에서 상기 자석군을 형성하는 자석의 돌출된 길이와 동일하게 지지물에 돌기를 돌출 형성한 것을 특징으로 하는 타격증발 착막처리용 원통형 자석체

6 6

제1 항에 있어서, 상기 자석군을 형성하는 자석을 지지물과 중심이 평행하도록 설치한 것을 특징으로 하는 타격증발 착막처리용 원통형 자석체

7 7

제 1 항에 있어서, 상기 자석군을 형성하는 자석이 직류를 사용하는 전자석인 것을 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 타격증발 착막처리용 원통형 자석체

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.