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알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물과 경화물 및 이의 용도

  • 기술번호 : KST2015149513
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 복합체에서, 우수한 내열특성, 구체적으로, 낮은 열팽창계수(CTE, Coefficient of Thermal Expansion)와 높은 유리전이 상승효과 및/또는 경화물에서 우수한 난연성을 나타내며 별도의 실란커플링제를 필요로 하지 않는 알콕시실릴계 에폭시 화합물, 이의 제조방법, 이를 포함하는 조성물 및 경화물에 관한 것이다. 본 발명에 의하면 코어에 에폭시기 및 하기 화학식 S11 내지 S 15로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 S1 치환기 또는 하기 화학식 S21 내지 S25로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 S2 치환기인 적어도 하나의 알콕시실릴기를 가지는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물; 출발물의 에폭시 개환반응, 및 알콕시실릴화로 제조되는 상기 알콕시실릴계 에폭시 화합물의 제조방법; 상기 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 조성물; 및 이의 경화물 및 용도가 제공된다. 본 발명에 의한 새로운 알콕시실릴계 에폭시 화합물을 포함하는 조성물의 복합체인 경화물은 에폭시 화합물 중 알콕시실릴기와 충전제의 화학적 결합뿐만 아니라 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 알콕시실릴기간의 화합결합에 의해 복합체 형성시, 화합결합 효율이 향상된다. 따라서, 복합체에서 낮은 CTE 및 높은 유리전이온도의 우수한 내열특성 및/또는 경화물에서 우수한 난연성을 나타낸다.
Int. CL C07F 7/08 (2006.01) C08G 59/20 (2006.01) C07F 7/18 (2006.01) H01L 51/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020140021884 (2014.02.25)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1655857-0000 (2016.09.02)
공개번호/일자 10-2014-0106441 (2014.09.03) 문서열기
공고번호/일자 (20160909) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020130020134   |   2013.02.25
법적상태 등록
심사진행상태 보정승인간주
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.02.25)
심사청구항수 44

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전현애 대한민국 경기 성남시 분당구
2 박성환 대한민국 경기 군포시 수리산로 **, *
3 김윤주 대한민국 서울 강남구
4 박수진 대한민국 경기 안산시 상록구
5 박숙연 대한민국 경기 군포시 오금로 **, *
6 탁상용 대한민국 부산 중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2014-0183491-61
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.06.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0406977-49
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2015-0797689-17
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.08.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0797690-64
6 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.12.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0900466-85
7 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.01.26 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0084610-33
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.01.26 수리 (Accepted) 1-1-2016-0084590-18
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.02.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0140031-57
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.04.21 수리 (Accepted) 1-1-2016-0384636-78
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.04.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0384666-37
12 등록결정서
Decision to Grant Registration
2016.08.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0602840-81
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 AF 내지 NF으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 화합물로 표현되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
제 1항에 있어서, 상기 화학식 AF 내지 IF로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 화합물로 표현되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물은 M으로 나타낸 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG1 내지 LG21로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 [화학식 5(2)] 연결기로 연결되며, 상기 화학식 JF인 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물은 M으로 나타낸 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG2, LG9 또는 LG16로 연결되는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물
6 6
삭제
7 7
출발물인 에폭시기를 3이상 갖는 에폭시 화합물과 알코올(R4OH), 아민(R4R5NH) 및 싸이올(R4SH) 중 어느 하나를 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시키거나, 또는 상기 에폭시 화합물과 물을 산 또는 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시켜서 중간생성물(1)을 형성하는 제 1 단계; 및상기 중간생성물(1)과 하기 화학식 (B1)을 염기촉매 및 임의의 용매 존재하에서 반응시키는 제 2-1 단계를 포함하는, 하기 화학식 AF 내지 NF로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 화합물로 표현되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법
8 8
출발물인 에폭시기를 3이상 갖는 에폭시 화합물과 알코올(R4OH), 아민(R4R5NH) 및 싸이올(R4SH) 중 어느 하나를 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시키거나, 또는 상기 에폭시 화합물과 물을 산 또는 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시켜서 중간생성물(1)을 형성하는 제 1 단계; 상기 중간생성물(1)을 하기 화학식 (B3)의 알케닐화합물과 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시켜서 중간생성물(2)를 형성하는 제 2-2 단계; 및상기 중간생성물(2)를 하기 화학식 (B2)와 금속촉매 및 임의의 용매 존재하에서 반응시키는 제 2-3 단계를 포함하는, 하기 화학식 AF 내지 NF로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 화합물로 표현되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법
9 9
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 출발물인 에폭시기를 3이상 갖는 에폭시 화합물은 하기 화학식 AS 내지 NS로 구성되는 그룹으로부터 선택되며, 하기 화학식 AS 내지 IS의 에폭시 화합물은 K 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG1 내지 LG7로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 [화학식 5(1)] 연결기로 그리고 화학식 JS의 에폭시 화합물은 K 위치 중 하나에서 LG2 연결기로 부가적으로 연결되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법
10 10
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 제 1단계에서 얻어지는 중간생성물(1)은 하기 화학식 A1 내지 N1으로 구성되는 그룹으로부터 선택되며, 상기 화학식 A1 내지 I1의 중간생성물(1)은 L 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG1 내지 LG7로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 [화학식 5(1)] 연결기로 그리고 화학식 J1의 중간생성물(1)은 L 위치 중 하나에서 LG2연결기로 부가적으로 연결되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법
11 11
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 제2-1단계 또는 제2-3단계에서 얻어지는 화학식 AF 내지 IF로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 화합물로 표현되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물은 M 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG1 내지 LG21로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 연결기로 그리고 화학식 JF의 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물은 M 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG2, LG9 또는 LG16 연결기로 부가적으로 연결되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법
12 12
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 제 1단계는 상기 출발물의 에폭시기 1 당량에 대하여 상기 알코올(R4OH) 및 물은 0
13 13
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 제 1단계는 상온 내지 200℃로 10분 내지 120시간 동안 행하여지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법
14 14
제7항에 있어서, 상기 제 2-1단계는 상기 중간생성물(1)의 히드록시기 1당량에 대하여 상기 화학식 B1의 알콕시실란이 0
15 15
제8항에 있어서, 상기 제2-2단계는 상기 중간생성물(1)의 히드록시기 1당량에 대하여 하기 화학식 B3의 알케닐 화합물의 알케닐기가 0
16 16
제8항에 있어서, 상기 제2-3단계는 상기 중간생성물(2)의 알케닐기 1당량에 대하여 상기 화학식 B2의 알콕시실란이 0
17 17
제7항에 있어서, 상기 제2-1단계는 상온 내지 150℃에서 10분 내지 120시간 동안 행하여지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법
18 18
제8항에 있어서, 상기 제2-2단계는 상온 내지 100℃에서 10분 내지 120시간 동안 행하여지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법
19 19
제8항에 있어서, 상기 제2-3단계는 상온 내지 120℃에서 10분 내지 120시간 동안 행하여지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법
20 20
제1항, 또는 제5항의 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물 및 경화제를 포함하는 에폭시 조성물
21 21
제20항에 있어서, 글리시딜에테르계, 글리시딜계, 글리시딜아민계 및 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 에폭시 화합물을 추가로 포함하는 에폭시 조성물
22 22
제21항에 있어서, 상기 추가로 포함되는 에폭시 화합물은 비스페놀계, 비페닐계, 나프탈렌계, 벤젠계, 티오디페놀계, 플루오렌계, 안트라센계, 이소시아누레이트계, 트리페닐메탄계, 1,1,2,2-테트라페닐에탄계, 테트라페닐메탄계, 4,4′-디아미노디페닐메탄계, 아미노페놀계, 지환족계, 지방족계, 및 노볼락계 에폭시 화합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종인 에폭시 조성물
23 23
제20항에 있어서, 경화촉진제를 추가로 포함하는 에폭시 조성물
24 24
제20항에 있어서, 섬유 및/또는 무기입자로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 충진제를 추가로 포함하는 에폭시 조성물
25 25
제24항에 있어서, 상기 무기입자는 실리카, 지르코니아, 티타니아, 알루미나, 질화규소 및 질화알루미늄으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 금속산화물, 및 실세스퀴옥산으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종인 에폭시 조성물
26 26
제24항에 있어서, 상기 무기입자는 에폭시 조성물의 고형분의 총 중량을 기준으로 5wt% 내지 95wt%인 에폭시 조성물
27 27
제24항에 있어서, 상기 섬유는 E 유리섬유, T 유리섬유, S 유리섬유, NE 유리섬유, H 유리섬유, 및 석영으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 유리섬유 및 액정 폴리에스테르 섬유, 폴리에틸렌테레프탈레이트 섬유, 전방향족 섬유, 폴리벤조옥사졸 섬유, 나일론 섬유, 폴리에틸렌 나프탈레이트 섬유, 폴리프로필렌 섬유, 폴리에테르 술폰 섬유, 폴리비닐리덴플로라이드 섬유, 폴리에틸렌 술파이드 섬유, 및 폴리에테르에테르케톤 섬유로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 유기 섬유로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종인 에폭시 조성물
28 28
제24항에 있어서, 상기 섬유는 상기 에폭시 조성물의 고형분의 총 중량에 대하여 10 wt% 내지 90wt%로 포함되는 에폭시 조성물
29 29
제24항에 있어서, 섬유를 포함하는 경우에, 무기입자를 추가로 포함하는 에폭시 조성물
30 30
제20항에 있어서, 질산, 황산, 염산, 아세트산 및 인산으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 무기산, 암모니아, KOH, NH4OH, 아민 및 전이 금속 알콕사이드, 주석(tin) 화합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종인 알콕시실릴기 반응촉매를 추가로 포함하는 에폭시 조성물
31 31
제30항에 있어서, 상기 반응촉매는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 수지에 대하여 0
32 32
제30항에 있어서, 물을 추가로 포함하는 에폭시 조성물
33 33
제32항에 있어서, 알콕시실릴기 1당량에 대하여 물 0
34 34
제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 전자재료
35 35
제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 기판
36 36
제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 필름
37 37
제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 프리프레그
38 38
제37항의 프리프레그에 금속층이 배치된 적층판
39 39
제37항의 프리프레그를 포함하는 인쇄 배선판
40 40
제39항의 인쇄 배선판에 반도체소자가 탑재된 반도체 장치
41 41
제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 반도체 패키징 재료
42 42
제41항의 반도체 패키징 재료를 포함하는 반도체 장치
43 43
제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 접착제
44 44
제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 도료
45 45
제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 복합재료
46 46
제20항의 에폭시 조성물의 경화물
47 47
제46항에 있어서, 열팽창계수가 60ppm/℃이하인 에폭시 조성물의 경화물
48 48
제46항에 있어서, 유리전이온도가 100℃ 보다 높거나 유리전이온도를 나타내지 않는 에폭시 조성물의 경화물
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3 EP02960245 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
4 JP06153631 JP 일본 FAMILY
5 JP28511250 JP 일본 FAMILY
6 US09732182 US 미국 FAMILY
7 US20150361211 US 미국 FAMILY
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1 CN105073760 CN 중국 DOCDBFAMILY
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5 EP2960245 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
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7 JP6153631 JP 일본 DOCDBFAMILY
8 US2015361211 US 미국 DOCDBFAMILY
9 US9732182 US 미국 DOCDBFAMILY
10 WO2014129877 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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