요약 | 본 발명은 복합체에서, 우수한 내열특성, 구체적으로, 낮은 열팽창계수(CTE, Coefficient of Thermal Expansion)와 높은 유리전이 상승효과 및/또는 경화물에서 우수한 난연성을 나타내며 별도의 실란커플링제를 필요로 하지 않는 알콕시실릴계 에폭시 화합물, 이의 제조방법, 이를 포함하는 조성물 및 경화물에 관한 것이다. 본 발명에 의하면 코어에 에폭시기 및 하기 화학식 S11 내지 S 15로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 S1 치환기 또는 하기 화학식 S21 내지 S25로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되는 S2 치환기인 적어도 하나의 알콕시실릴기를 가지는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물; 출발물의 에폭시 개환반응, 및 알콕시실릴화로 제조되는 상기 알콕시실릴계 에폭시 화합물의 제조방법; 상기 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 조성물; 및 이의 경화물 및 용도가 제공된다. 본 발명에 의한 새로운 알콕시실릴계 에폭시 화합물을 포함하는 조성물의 복합체인 경화물은 에폭시 화합물 중 알콕시실릴기와 충전제의 화학적 결합뿐만 아니라 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 알콕시실릴기간의 화합결합에 의해 복합체 형성시, 화합결합 효율이 향상된다. 따라서, 복합체에서 낮은 CTE 및 높은 유리전이온도의 우수한 내열특성 및/또는 경화물에서 우수한 난연성을 나타낸다. |
---|---|
Int. CL | C07F 7/08 (2006.01) C08G 59/20 (2006.01) C07F 7/18 (2006.01) H01L 51/00 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020140021884 (2014.02.25) |
출원인 | 한국생산기술연구원 |
등록번호/일자 | 10-1655857-0000 (2016.09.02) |
공개번호/일자 | 10-2014-0106441 (2014.09.03) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20160909) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 |
대한민국 | 1020130020134 | 2013.02.25
|
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 보정승인간주 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2014.02.25) |
심사청구항수 | 44 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국생산기술연구원 | 대한민국 | 충청남도 천안시 서북구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 전현애 | 대한민국 | 경기 성남시 분당구 |
2 | 박성환 | 대한민국 | 경기 군포시 수리산로 **, * |
3 | 김윤주 | 대한민국 | 서울 강남구 |
4 | 박수진 | 대한민국 | 경기 안산시 상록구 |
5 | 박숙연 | 대한민국 | 경기 군포시 오금로 **, * |
6 | 탁상용 | 대한민국 | 부산 중구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 특허법인씨엔에스 | 대한민국 | 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국생산기술연구원 | 대한민국 | 충청남도 천안시 서북구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2014.02.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0183491-61 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.01.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5006834-98 |
3 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2015.06.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0406977-49 |
4 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2015.08.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-0797689-17 |
5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2015.08.18 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2015-0797690-64 |
6 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2015.12.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0900466-85 |
7 | [명세서등 보정]보정서(재심사) Amendment to Description, etc(Reexamination) |
2016.01.26 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2016-0084610-33 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2016.01.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0084590-18 |
9 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2016.02.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0140031-57 |
10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2016.04.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0384636-78 |
11 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2016.04.21 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2016-0384666-37 |
12 | 등록결정서 Decision to Grant Registration |
2016.08.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0602840-81 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.07.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5123030-77 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 하기 화학식 AF 내지 NF으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 화합물로 표현되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물 |
2 |
2 삭제 |
3 |
3 삭제 |
4 |
4 삭제 |
5 |
5 제 1항에 있어서, 상기 화학식 AF 내지 IF로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 화합물로 표현되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물은 M으로 나타낸 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG1 내지 LG21로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 [화학식 5(2)] 연결기로 연결되며, 상기 화학식 JF인 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물은 M으로 나타낸 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG2, LG9 또는 LG16로 연결되는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물 |
6 |
6 삭제 |
7 |
7 출발물인 에폭시기를 3이상 갖는 에폭시 화합물과 알코올(R4OH), 아민(R4R5NH) 및 싸이올(R4SH) 중 어느 하나를 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시키거나, 또는 상기 에폭시 화합물과 물을 산 또는 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시켜서 중간생성물(1)을 형성하는 제 1 단계; 및상기 중간생성물(1)과 하기 화학식 (B1)을 염기촉매 및 임의의 용매 존재하에서 반응시키는 제 2-1 단계를 포함하는, 하기 화학식 AF 내지 NF로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 화합물로 표현되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
8 |
8 출발물인 에폭시기를 3이상 갖는 에폭시 화합물과 알코올(R4OH), 아민(R4R5NH) 및 싸이올(R4SH) 중 어느 하나를 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시키거나, 또는 상기 에폭시 화합물과 물을 산 또는 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시켜서 중간생성물(1)을 형성하는 제 1 단계; 상기 중간생성물(1)을 하기 화학식 (B3)의 알케닐화합물과 염기 및 임의의 용매존재하에서 반응시켜서 중간생성물(2)를 형성하는 제 2-2 단계; 및상기 중간생성물(2)를 하기 화학식 (B2)와 금속촉매 및 임의의 용매 존재하에서 반응시키는 제 2-3 단계를 포함하는, 하기 화학식 AF 내지 NF로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 화합물로 표현되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
9 |
9 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 출발물인 에폭시기를 3이상 갖는 에폭시 화합물은 하기 화학식 AS 내지 NS로 구성되는 그룹으로부터 선택되며, 하기 화학식 AS 내지 IS의 에폭시 화합물은 K 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG1 내지 LG7로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 [화학식 5(1)] 연결기로 그리고 화학식 JS의 에폭시 화합물은 K 위치 중 하나에서 LG2 연결기로 부가적으로 연결되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
10 |
10 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 제 1단계에서 얻어지는 중간생성물(1)은 하기 화학식 A1 내지 N1으로 구성되는 그룹으로부터 선택되며, 상기 화학식 A1 내지 I1의 중간생성물(1)은 L 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG1 내지 LG7로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 [화학식 5(1)] 연결기로 그리고 화학식 J1의 중간생성물(1)은 L 위치 중 하나에서 LG2연결기로 부가적으로 연결되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
11 |
11 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 제2-1단계 또는 제2-3단계에서 얻어지는 화학식 AF 내지 IF로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 화합물로 표현되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물은 M 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG1 내지 LG21로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 일종의 연결기로 그리고 화학식 JF의 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물은 M 위치 중 하나에서 하기 화학식 LG2, LG9 또는 LG16 연결기로 부가적으로 연결되는, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
12 |
12 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 제 1단계는 상기 출발물의 에폭시기 1 당량에 대하여 상기 알코올(R4OH) 및 물은 0 |
13 |
13 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 제 1단계는 상온 내지 200℃로 10분 내지 120시간 동안 행하여지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
14 |
14 제7항에 있어서, 상기 제 2-1단계는 상기 중간생성물(1)의 히드록시기 1당량에 대하여 상기 화학식 B1의 알콕시실란이 0 |
15 |
15 제8항에 있어서, 상기 제2-2단계는 상기 중간생성물(1)의 히드록시기 1당량에 대하여 하기 화학식 B3의 알케닐 화합물의 알케닐기가 0 |
16 |
16 제8항에 있어서, 상기 제2-3단계는 상기 중간생성물(2)의 알케닐기 1당량에 대하여 상기 화학식 B2의 알콕시실란이 0 |
17 |
17 제7항에 있어서, 상기 제2-1단계는 상온 내지 150℃에서 10분 내지 120시간 동안 행하여지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
18 |
18 제8항에 있어서, 상기 제2-2단계는 상온 내지 100℃에서 10분 내지 120시간 동안 행하여지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
19 |
19 제8항에 있어서, 상기 제2-3단계는 상온 내지 120℃에서 10분 내지 120시간 동안 행하여지는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
20 |
20 제1항, 또는 제5항의 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물 및 경화제를 포함하는 에폭시 조성물 |
21 |
21 제20항에 있어서, 글리시딜에테르계, 글리시딜계, 글리시딜아민계 및 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 에폭시 화합물을 추가로 포함하는 에폭시 조성물 |
22 |
22 제21항에 있어서, 상기 추가로 포함되는 에폭시 화합물은 비스페놀계, 비페닐계, 나프탈렌계, 벤젠계, 티오디페놀계, 플루오렌계, 안트라센계, 이소시아누레이트계, 트리페닐메탄계, 1,1,2,2-테트라페닐에탄계, 테트라페닐메탄계, 4,4′-디아미노디페닐메탄계, 아미노페놀계, 지환족계, 지방족계, 및 노볼락계 에폭시 화합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종인 에폭시 조성물 |
23 |
23 제20항에 있어서, 경화촉진제를 추가로 포함하는 에폭시 조성물 |
24 |
24 제20항에 있어서, 섬유 및/또는 무기입자로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 충진제를 추가로 포함하는 에폭시 조성물 |
25 |
25 제24항에 있어서, 상기 무기입자는 실리카, 지르코니아, 티타니아, 알루미나, 질화규소 및 질화알루미늄으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 금속산화물, 및 실세스퀴옥산으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종인 에폭시 조성물 |
26 |
26 제24항에 있어서, 상기 무기입자는 에폭시 조성물의 고형분의 총 중량을 기준으로 5wt% 내지 95wt%인 에폭시 조성물 |
27 |
27 제24항에 있어서, 상기 섬유는 E 유리섬유, T 유리섬유, S 유리섬유, NE 유리섬유, H 유리섬유, 및 석영으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 유리섬유 및 액정 폴리에스테르 섬유, 폴리에틸렌테레프탈레이트 섬유, 전방향족 섬유, 폴리벤조옥사졸 섬유, 나일론 섬유, 폴리에틸렌 나프탈레이트 섬유, 폴리프로필렌 섬유, 폴리에테르 술폰 섬유, 폴리비닐리덴플로라이드 섬유, 폴리에틸렌 술파이드 섬유, 및 폴리에테르에테르케톤 섬유로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 유기 섬유로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종인 에폭시 조성물 |
28 |
28 제24항에 있어서, 상기 섬유는 상기 에폭시 조성물의 고형분의 총 중량에 대하여 10 wt% 내지 90wt%로 포함되는 에폭시 조성물 |
29 |
29 제24항에 있어서, 섬유를 포함하는 경우에, 무기입자를 추가로 포함하는 에폭시 조성물 |
30 |
30 제20항에 있어서, 질산, 황산, 염산, 아세트산 및 인산으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 무기산, 암모니아, KOH, NH4OH, 아민 및 전이 금속 알콕사이드, 주석(tin) 화합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종인 알콕시실릴기 반응촉매를 추가로 포함하는 에폭시 조성물 |
31 |
31 제30항에 있어서, 상기 반응촉매는 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 수지에 대하여 0 |
32 |
32 제30항에 있어서, 물을 추가로 포함하는 에폭시 조성물 |
33 |
33 제32항에 있어서, 알콕시실릴기 1당량에 대하여 물 0 |
34 |
34 제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 전자재료 |
35 |
35 제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 기판 |
36 |
36 제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 필름 |
37 |
37 제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 프리프레그 |
38 |
38 제37항의 프리프레그에 금속층이 배치된 적층판 |
39 |
39 제37항의 프리프레그를 포함하는 인쇄 배선판 |
40 |
40 제39항의 인쇄 배선판에 반도체소자가 탑재된 반도체 장치 |
41 |
41 제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 반도체 패키징 재료 |
42 |
42 제41항의 반도체 패키징 재료를 포함하는 반도체 장치 |
43 |
43 제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 접착제 |
44 |
44 제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 도료 |
45 |
45 제20항의 에폭시 조성물을 포함하는 복합재료 |
46 |
46 제20항의 에폭시 조성물의 경화물 |
47 |
47 제46항에 있어서, 열팽창계수가 60ppm/℃이하인 에폭시 조성물의 경화물 |
48 |
48 제46항에 있어서, 유리전이온도가 100℃ 보다 높거나 유리전이온도를 나타내지 않는 에폭시 조성물의 경화물 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | CN105073760 | CN | 중국 | FAMILY |
2 | EP02960245 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
3 | EP02960245 | EP | 유럽특허청(EPO) | FAMILY |
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8 | WO2014129877 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
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1 | CN105073760 | CN | 중국 | DOCDBFAMILY |
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3 | EP2960245 | EP | 유럽특허청(EPO) | DOCDBFAMILY |
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국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-1655857-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20140225 출원 번호 : 1020140021884 공고 연월일 : 20160909 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20160823 청구범위의 항수 : 44 유별 : C07F 7/08 발명의 명칭 : 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물과 경화물 및 이의 용도 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 880,500 원 | 2016년 09월 05일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 504,000 원 | 2019년 06월 25일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 504,000 원 | 2020년 06월 25일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2014.02.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0183491-61 |
2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.01.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5006834-98 |
3 | 의견제출통지서 | 2015.06.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0406977-49 |
4 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2015.08.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-0797689-17 |
5 | [명세서등 보정]보정서 | 2015.08.18 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2015-0797690-64 |
6 | 거절결정서 | 2015.12.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0900466-85 |
7 | [명세서등 보정]보정서(재심사) | 2016.01.26 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2016-0084610-33 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2016.01.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0084590-18 |
9 | 의견제출통지서 | 2016.02.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0140031-57 |
10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2016.04.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2016-0384636-78 |
11 | [명세서등 보정]보정서 | 2016.04.21 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2016-0384666-37 |
12 | 등록결정서 | 2016.08.23 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0602840-81 |
13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.07.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5123030-77 |
기술정보가 없습니다 |
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과제정보가 없습니다 |
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[KST2019022649][한국생산기술연구원] | 광열 변환층과 소수성 박막 패턴을 구비한 도너 기판, 광열 변환 패턴과 소수성 박막 패턴을 구비한 도너 기판, 도너 기판을 이용한 발광 패턴 형성방법, 발광 패턴, 및 발광 다이오드 | 새창보기 |
[KST2016008824][한국생산기술연구원] | 이온성 액체를 이용한 방착방법 및 액체방착설비를 구비한 진공증착장치(Anti-deposition method using ionic liquids and vacuum deposition apparatus with anti-deposition facilities using ionic liquids) | 새창보기 |
[KST2017007559][한국생산기술연구원] | 열안정성이 향상된 유기소자용 화합물 및 이의 제조방법 및 이를 포함하는 유기발광소자(Organic compound having highly thermal stability for organic device, and method for manufacturing thereof and organic electroluminescent device comprising thereof) | 새창보기 |
[KST2015149356][한국생산기술연구원] | 둘 이상의 알콕시실릴기를 갖는 알콕시 실릴 화합물, 이를 포함하는 조성물, 경화물, 이의 용도 및 알콕시실릴 화합물의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2019022695][한국생산기술연구원] | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 수지의 제조방법, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 수지, 이를 포함하는 조성물 및 이의 용도 | 새창보기 |
[KST2021005073][한국생산기술연구원] | 포름알데히드 감지 가능한 기능성 면 섬유 | 새창보기 |
[KST2018001601][한국생산기술연구원] | 유기발광 디스플레이 소자 및 그 제조방법(ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR THE DEVICE) | 새창보기 |
[KST2019022466][한국생산기술연구원] | 유기물 패턴의 형성 방법 및 이를 포함한 유기발광 디스플레이의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2017013195][한국생산기술연구원] | 알콕시실릴기 및 활성 에스테르기를 갖는 화합물, 이의 제조방법, 이를 포함하는 조성물 및 용도(COMPOUND HAVING ALKOXYSILYL GROUP AND ACTIVE ESTER GROUP, PREPARING METHOD THEREOF, COMPOSITION COMPRISING THE SAME, AND USE THEREOF) | 새창보기 |
[KST2020004568][한국생산기술연구원] | 섬유 기재를 이용하는 태양전지 및 그의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2021013363][한국생산기술연구원] | 가교결합성 벤조시클로부텐기를 갖는 유기전기소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 | 새창보기 |
[KST2021013112][한국생산기술연구원] | XFL 리프트 오프 장치 | 새창보기 |
[KST2015149077][한국생산기술연구원] | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이를 포함하는 조성물, 경화물, 이의 용도 및 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2022007341][한국생산기술연구원] | 알콕시실릴기를 갖는 다관능성 에폭시 화합물과 이의 제조방법, 조성물 및 용도 | 새창보기 |
[KST2018012365][한국생산기술연구원] | 유기발광 디스플레이 소자 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[KST2020006486][한국생산기술연구원] | 저온 용액 공정 산화물 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2019022641][한국생산기술연구원] | 가스-보조 발광잉크 패터닝 방법, 이를 통한 전사방법, 및 전사 장치 | 새창보기 |
[KST2022003582][한국생산기술연구원] | 고해상도 OLED 패턴 형성을 위한 도너기판의 제조방법, 도너기판 및 고해상도 OLED 패턴 형성방법 | 새창보기 |
[KST2014052857][한국생산기술연구원] | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물과 경화물 및 이의 용도 | 새창보기 |
[KST2014064877][한국생산기술연구원] | 하드마스크용 덴드리머 화합물 및 이를 포함하는 하드마스크 조성물 | 새창보기 |
[KST2019022645][한국생산기술연구원] | 모세관-유도 전사를 위한 하이브리드 마이크로채널 형성방법, 모세관-유도 전사 기판, 모세관-유도 전사 기판을 이용한 전사방법, 및 유기물 패턴 | 새창보기 |
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