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모재인 연속식 하역기 부품 표면에 탄질층 및 윤활층을 형성시키는 연속식 하역기 부품의 표면 처리 방법으로서,a) 모재를 챔버에 장입하는 단계;b) 상기 챔버에 스퍼터링용 가스를 주입하며 상기 챔버를 400℃~650℃, 1~8mbar의 진공에서 1000W~35000W의 전원을 인가하여 0
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제1항에 있어서,상기 c) 표면처리단계는,c-1) 상기 챔버에 상기 제1반응가스를 주입하며 상기 챔버를 400℃~650℃, 1~8mbar의 진공에서 1000W~35000W의 전원을 인가하여 2~10시간 유지하는 전처리단계;c-2) 상기 챔버에 상기 제2반응가스를 주입하며 상기 챔버를 400℃~650℃, 1~8mbar의 진공에서 1000W~35000W의 전원을 인가하여 1~10시간 유지하는 침탄단계; 및 c-3) 상기 상기 챔버에 상기 제2반응가스를 주입하며 상기 챔버를 400℃~650℃, 1~8mbar의 진공에서 1000W~35000W의 전원을 인가하여 1~10시간 유지하는 침류단계로 이루어지는 연속식 하역기 부품의 표면 처리 방법
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제2항에 있어서,상기 c-2) 및 c-3) 단계는 상기 제2반응가스 및 제3반응가스를 동시에 주입하여 상기 챔버를 400℃~650℃, 1~8mbar의 진공에서 1000W~35000W의 전원을 인가하여 1~20시간 유지하는 연속식 하역기 부품의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 황화수소 및 탄화수소계 가스는 황화수소:탄화수소계 가스의 부피비로 6~8:1인 연속식 하역기 부품의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 반응가스는 질소는 10~50부피%, 수소는 20~80부피% 이하, 아르곤은 0부피% 초과 10부피% 이내로 포함하는 연속식 하역기 부품의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 제2 반응가스는 CH4, C2H8, C2H4, C2H2 중 하나 이상을 포함하는 연속식 하역기 부품의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 스퍼터링용 가스는 수소(H2) 및 아르곤(Ar)을 포함하는 연속식 하역기 부품의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 b) 및 c) 단계의 전원 인가는 비대칭 양극성 미소펄스 전원(Micro pulse asymmetric bipolar plasma power)에 의하는 연속식 하역기 부품의 표면 처리 방법
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제8항에 있어서,상기 비대칭 양극성 미소펄스 전원은 사용율(duty cycle) 10~90%, 펄스 주파수 50~83kHz 로 인가하는 연속식 하역기 부품의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 a) 장입하는 단계와 b) 스퍼터링 단계 사이에상기 챔버를 진공 분위기에서 150℃~200℃에서 1~2시간으로 유지하는 탈지 처리 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 연속식 하역기 부품의 표면 처리 방법
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제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 방법에 의해 표면처리된 연속식 하역기 부품
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제11항에 있어서,상기 부품의 최외곽층인 윤활층 및 윤활층의 하부층인 질화층 또는 탄질층을 포함하는 표면처리층을 포함하며,상기 윤활층은 Fex(C, N)상 및 FeS상을 포함하고, 상기 탄질층은 Fex(C, N)상을 포함하는 연속식 하역기 부품
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