광대역 공정분압에서 사용되는 증착조 장치에 있어서,

상부에 음극체 냉각용 냉각수 유입구(11)와 음극체에 전원 공급용 전선(12)이 절연 애자(13)를 관통하여 설치되고, 전원 공급용 전선(12)과 연결되는 자석체(14)이 포함된 음극체(15) 하부에는 표적(16)이 표적 걸개(17)에 의해 고정되고, 이를 다시 외부에서 전기적으로 고립되어 있고, 열응력에 강한 재질로 된 표적 보호구(18)가 감싸 구성되는 음극부(1)를 장치하고,

음극부 하단부에 부착되어 탈착되고, 표적(16)과 거리 조절되며, 가운데 원추대 모양의 구멍(21)이 뚫려 있고, 다수개의 나사구멍(22)이 형성되어 있는 환형양극체(2)를 결합하고,

진공조 상단 벽면 일측에 작업기체 유입구(31)가 있으며, 증착조 외관을 이루는 벽은 진공조 냉각을 위한 냉각수 유통용 2중벽(32)으로 구성되어 있으며,

진공조 내부로는 시동기 구동장치(33)가 벽 일측에 장치되어 있어서 진공조 중심부 벽쪽에 연장된 전리체 시동기(34)를 구동시키며,

증착조의 하단부 벽 외부에 장착된 가리개 구동용 손잡이(37)와 연결되어 조정되고, 가리개(35)를 지지함과 동시에 움직이는 가리개 끌개(36)가 진공조의 기판홀더 상부에서 일정 간격 떨어져 설치되어 있으며,

상기 가리개 하단부에는 기판을 지지하는 기판 지지대(38)가 진공조 하단 벽쪽에 기판높이 조절장치(39)에 의해 고정 지지되어 있고, 이 조절장치(39)는 기판 부하용 음극부(40)의 상부에 설치되어 있으며, 기판 부전압에 의해 표적(16) 표면에서 떨어져 나온 전리자 입자가 가속되어 박막과 기판과의 부착력을 높일 수 있게 구성되고 휘광방전에 의한 전리체와 전광호 방전에 의한 전리체가 혼합되어 광대역 공정분압에서 증착하도록 구성된 것을 특징으로 하는 광대역 공정분압용 고성능 전광호/전리체 증착조

제 1항에 있어서, 상기 표적 보호구(18)는 자석체가 포함된 음극체(15)와 진공조 뚜껑 사이의 절연 애자(13) 하단부부터 표적걸개(17) 밑면까지를 감싸며, 전기적으로 고립되어 있어 작업기체의 양전리자들로부터 효과적으로 음극부를 보호하도록 한 것을 특징으로 하는 광대역 공정분압용 고성능 전광호/전리체 증착조

제 1항에 있어서, 상기 열응력에 강한 재질로 된 표적 보호구(18)의 재질은 스테인레스 강인 것을 특징으로 하는 광대역 공정분압용 고성능 전광호/전리체 증착조

제 1항에 있어서, 상기 표적보호구(18)는 표적(16)과 마주보는 면에 표적(16) 직경 보다 약 6 mm 작은 95 mm의 직경을 가진 구멍을 뚫어 전리체를 표적(16) 표면에서만 발생하도록 한 것을 특징으로 하는 광대역 공정분압용 고성능 전광호/전리체 증착조

제 1항에 있어서, 상기 환형양극체(2)와 표적(16) 표면과의 거리는 증착 목적에 따라 11 mm에서 19 mm 까지 1 mm 씩 간격으로 조절이 가능하도록 한 것을 특징으로 하는 광대역 공정분압용 고성능 전광호/전리체 증착조

제 1항에 있어서, 상기 환형양극체(2)는 일부분을 절단하여 진공조 내부에 있는 시동기와의 접촉을 방지한 것을 특징으로 하는 광대역 공정분압용 고성능 전광호/전리체 증착조

제 1항에 있어서, 상기 환형양극체(2) 중심의 원추대 모양의 구멍(21)은 진공조 내부를 향하는 면의 하부 직경보다 표적표면을 향하는 면의 상부 직경을 점차 작게 하여 전자의 포집을 좋게 한 것을 특징으로 하는 광대역 공정분압용 고성능 전광호/전리체 증착조