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챔버 벽체와 상기 챔버 벽체가 이루는 공정 공간에서 기판이 놓이는 스테이지와 상기 기판에 공정 기체를 공급하기 위한 하나 이상의 반응 기체 샤워헤드 모듈(410,510)과 퍼지 기체 샤워헤드 모듈(610) 및 냉각 자켓(710)이 적층 배치되어 구성된 샤워헤드를 가지는 반도체 소자 제조 장비에 있어서,상기 반응 기체 샤워헤드 모듈(410,510)은 윗판(541) 및 바닥판(549)을 가지며, 그 바닥판(549)으로부터 하향 연장되는 복수의 반응 기체 분사 튜브(451,551)를 구비하며,상기 퍼지 기체 샤워헤드 모듈(610)은 측벽을 구비하며, 상기 반응 기체 샤워헤드 모듈(410,510)의 아래에 배치되며, 상기 반응 기체 분사 튜브(551)가 기밀을 유지하여 통과되며, 상기 냉각자켓(710)은 상판, 하판 및 측벽을 가지며, 상기 퍼지기체 샤워헤드 모듈(610)의 아래에 배치되며, 상기 상판과 하판 사이에서 냉각자켓의 기밀을 유지하도록 설치되며 상기 반응 기체 분사 튜브(451,551)를 통과시키는 반응 기체 분사 튜브 안내관(781)을 구비하고, 냉각재가 상기 공정 공간 외부로부터 밀폐된 유로를 따라 상기 냉각 자켓 내부로 유입되게 하기 위한 유입구(723)와 유입된 냉각재가 밀폐된 유로를 따라 상기 공정 공간 외부로 빠져나가게 하기 위한 유출구(725)를 구비하며,상기 반응 기체 분사 튜브 안내관(781)은 상기 반응 기체 분사 튜브(551) 보다 큰 직경을 가짐으로써 그 내벽과 상기 반응 기체 분사 튜브(551) 외벽 사이의 틈새(g4)로 상기 퍼지 기체 샤워헤드 모듈(610)로 공급되는 퍼지 기체가 통과하도록 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 장비
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