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용융염법을 이용한 저전압 리튬이온전지용 리튬 도핑된니켈산화물 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015152382
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 용융염법을 이용한 저전압 리튬이온전지용 리튬 도핑된 니켈산화물 및 그 제조방법에 관한 것으로, 그 목적은 리튬니켈산화물보다 상대적으로 작동전압이 낮으며, 우수한 충방전 용량을 가지는 새로운 구조의 리튬 도핑된 니켈 산화물 및 낮은 제조 단가 및 간단한 공정에 의해서 낮은 전압에서 우수한 방전용량을 제공할 수 있는 리튬이차전지용 양극물질인 리튬 도핑된 니켈 산화물의 제조방법을 제공하는 데 있다. 본 발명의 구성은 리튬염분말 LiNO3과 LiOH를 400 ~ 600℃로 가열하고 산소기체를 주입하여 산소분위기하에서 리튬용융염을 형성하는 단계; 형성된 리튬용융염에 니켈염을 첨가하는 단계; 이후 산소분위기하에서 12시간 이상 열처리하는 단계; 이후 상온으로 온도를 낮춘 후 리튬도핑된 니켈산화물을 추출하는 단계; 및 이후 남아있는 리튬염의 제거를 위한 세척 및 건조단계;를 포함하는 리튬 도핑된 니켈산화물의 제조방법과 그 리튬 도핑된 니켈산화물을 특징으로 한다.리튬이차전지, 양극물질, 리튬니켈산화물, 충방전 전압, 충방전 용량, 용융염법, 공융점, 0.59질산리튬-0.41수산화리튬(0.59LiNO3-0.41LiOH)
Int. CL C01G 53/00 (2006.01.01) H01M 4/525 (2010.01.01) H01M 10/0525 (2010.01.01)
CPC C01G 53/42(2013.01) C01G 53/42(2013.01) C01G 53/42(2013.01) C01G 53/42(2013.01) C01G 53/42(2013.01)
출원번호/일자 1020050106232 (2005.11.08)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-0710003-0000 (2007.04.16)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20070420) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.11.08)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 한치환 대한민국 경기 성남시 분당구
2 한상도 대한민국 대전 유성구
3 김건 대한민국 서울 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 최영규 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, B동 ***호 새천년 국제특허법률사무소 (가산동, 우림 라이온스밸리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.11.08 수리 (Accepted) 1-1-2005-0640753-60
2 선행기술조사의뢰서(내부)
Request for Prior Art Search (Inside)
2006.06.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2006-0040312-92
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.11.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0671467-14
5 의견서
Written Opinion
2007.01.10 수리 (Accepted) 1-1-2007-0024696-42
6 등록결정서
Decision to grant
2007.04.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0197258-16
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.01.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5001923-88
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
리튬이차전지 양극물질의 제조방법에 있어서,(1) 리튬염분말 LiNO3과 LiOH를 400 ~ 600℃로 가열하고 산소기체를 주입하여 산소분위기하에서 리튬용융염을 형성하는 단계; (2) 형성된 리튬용융염에 니켈염을 첨가하는 단계; (3) 이후 산소분위기하에서 12시간 이상 열처리하는 단계; (4) 이후 상온으로 온도를 낮춘 후 리튬도핑된 니켈산화물을 추출하는 단계; 및 (5) 이후 남아있는 리튬염의 제거를 위한 세척 및 건조단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 용융염법을 이용한 저전압 리튬이온전지용 리튬 도핑된 니켈산화물의 제조방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 리튬공융염은 녹는점이 183℃이고 0
3 3
제 1항에 있어서,상기 리튬공융염의 혼합 몰비는 0
4 4
제 1항에 있어서,상기 니켈염은 니켈클로라이드 헥사하이드레이트(NiCl2·6H2O)를 사용하는 것을 특징으로 하는 용융염법을 이용한 저전압 리튬이온전지용 리튬 도핑된 니켈산화물의 제조방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 니켈염은 Ni(NO3)2염 또는 Ni(OH)2염 중에서 선택된 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 용융염법을 이용한 저전압 리튬이온전지용 리튬 도핑된 니켈산화물의 제조방법
6 6
제 1항에 있어서,상기 니켈염은 리튬용융염 60중량부 기준 1~5중량부를 투입하는 것을 특징으로 하는 용융염법을 이용한 저전압 리튬이온전지용 리튬 도핑된 니켈산화물의 제조방법
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리튬이차전지 양극 물질용 조성물에 있어서,상기 1 내지 6항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조되어 리튬이 적은 결정구조를 가져 충전 없이 방전되고, 충방전 전압이 낮은 저전압용 리튬 도핑된 니켈산화물인 것을 특징으로 하는 용융염법을 이용한 저전압 리튬이온전지용 리튬 도핑된 니켈산화물
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.