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전자빔 물리기상증착법으로 제조한 고체 전해질 박막 및 그제조방법

  • 기술번호 : KST2015152392
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고체 전해질 박막 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 전자빔 물리기상증착법을 이용하여 빠른 증착 속도로 주상 구조의 치밀한 고체 전해질 박막을 제조한다. 본 발명에 따른 고체 전해질 박막은 미세 구조가 매우 치밀할 뿐만 아니라 주상 구조의 배향성을 가지며, 낮은 온도에서 높은 전도도를 나타내어 고체산화물연료전지의 전해질, 기체 분리 멤브레인, 기체 센서, 기타 수 전기분해용 전해질로 활용될 수 있다.전자빔 물리기상증착법, 고체 전해질, 고체산화물연료전지, 기체 분리 멤브레인, 기체 센서
Int. CL H01M 8/1253 (2016.01.01) C23C 14/08 (2006.01.01) C23C 14/30 (2006.01.01) C23C 14/54 (2018.01.01) H01M 8/124 (2016.01.01)
CPC H01M 8/1253(2013.01) H01M 8/1253(2013.01) H01M 8/1253(2013.01) H01M 8/1253(2013.01) H01M 8/1253(2013.01) H01M 8/1253(2013.01) H01M 8/1253(2013.01) H01M 8/1253(2013.01)
출원번호/일자 1020050130983 (2005.12.27)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-0707118-0000 (2007.04.06)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20070416) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.12.27)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이시우 대한민국 대전 유성구
2 유지행 대한민국 대전 유성구
3 서두원 대한민국 대전 유성구
4 홍기석 대한민국 대전 서구
5 한인섭 대한민국 대전 유성구
6 우상국 대한민국 대전 유성구
7 신태호 대한민국 대전 대덕구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2005.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2005-0769064-56
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.09.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.10.16 수리 (Accepted) 9-1-2006-0064584-83
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0681768-20
5 의견서
Written Opinion
2007.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0065246-15
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2007.01.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0065248-17
7 등록결정서
Decision to grant
2007.04.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0180204-75
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.01.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5001923-88
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전자빔에 의해 용융된 고체 전해질 원료 물질이 기체 상태로 이동하여 기판 위에 증착되어 형성된 박막으로서, 상대밀도가 95% 이상이고 주상 구조의 배향성을 갖는 고체 전해질 박막
2 2
제1항에 있어서, 상기 박막의 구성 물질은 이트리아 안정화 지르코니아인 것을 특징으로 하는 고체 전해질 박막
3 3
제1항에 있어서, 상기 고체 전해질 박막은 900℃에서 0
4 4
삭제
5 5
진공 챔버 내에 고체 전해질 원료 물질로 타겟을 준비하고;상기 타겟을 전자빔으로 용융시켜 기화시키고;기화된 타겟 물질을 상대 밀도가 90% 이상인 알루미나 기판에 증착하는 것을 특징으로 하는 고체 전해질 박막의 제조방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 타겟은 30 - 40%의 기공율을 갖는 것을 특징으로 하는 고체 전해질 박막의 제조방법
7 7
제5항에 있어서, 상기 기판은 발열체로 가열하여 고온으로 유지시키는 것을 특징으로 하는 고체 전해질 박막의 제조방법
8 8
제5항에 있어서, 상기 타겟 물질은 이트리아 안정화 지르코니아 인 것을 특징으로 하는 고체 전해질 박막의 제조방법
9 9
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.