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(A) 원료 석탄과 용매를 일정비율로 혼합하여 슬러리화하는 단계와;
(B) 이후 슬러리를 추출반응기에 넣고 초음파를 이용하여 반응을 촉진시켜 석탄에 포함되어 있던 유기질성분을 용매에 의해 용해 후, 용해된 유기질 성분과 용해되지 않은 입자상 물질을 분리하는 단계와;
(C) 이후 용해된 유기질 성분에 포함된 황화합물을 제거하는 탈황공정단계와;
(D) 탈황된 유기질 성분을 건조하는 단계;를 포함하여 고체상의 청정석탄을 제조하는 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,
상기 (B)단계는 추출반응기에서의 반응이 완료된 후에 용매에 용해된 성분과 용매에 용해되지 않은 입자상물질을 분리함에 있어서 중력침강법을 사용하되, 이때 용해된 유기질성분 내에 일부 포함되어 있을 미립자를 제거하기 위하여 필터를 사용하는 것을 특징으로 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,
상기 (C)단계는 용해된 성분과 용해되지 않은 입자상물질을 분리한 후 용해된 성분에 포함된 황화합물을 흡착제를 이용하여 제거하는 탈황공정을 포함하는 것을 특징으로 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,
상기 (C)단계는 황화합물을 제거하기 위한 흡착제로는 Ca(OH)2, CaO, MgO, Mg(OH)2나 상용 개질 촉매로 사용되는 Ni/Al2O3, CuCl/Al2O3 흡착제, 활성탄 중에서 선택적 어느 하나의 촉매 흡착제를 사용하는 것을 특징으로 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,
상기 (C)단계의 탈황공정단계는 300 ~ 400℃, 적용압력 5 ~ 15 bar하에서 탈황시키는 것을 특징으로 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,
상기 (A)단계에서 석탄은 수분함량이 많고 가격이 저렴한 저등급석탄인 갈탄 및 아역청탄을 포함한 석탄인 것을 특징으로 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,
상기 (A) 단계에서 석탄은 200 mesh(003c#75㎛)의 표준체로 체질(sieving)되어 그 이하의 크기만을 사용한 것을 특징으로 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,
상기 (A) 단계에서 대상 원료 석탄 중 저등급석탄을 사용할 경우에는 수분함유량이 30-50% 정도이므로, 전처리단계를 통하여 수분을 제거한 후 용매와 혼합하여 슬러리를 제조한 후 추출반응기에 넣는 것을 특징으로 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,
상기 (A)단계에서 석탄과 용매의 슬러리 제조 함량은 1:10에서 1:4까지인 것을 사용하는 것을 특징으로 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,
상기 (A)단계에서 용매는 비점 범위가 200-300℃인 N메틸2피로리돈(NMP), 1메틸나프탈렌(1-MN), 접촉분해경유(LCO) 중에서 선택된 하나를 사용하는 것을 특징으로 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,
상기 (B)단계에서 추출반응기의 반응 온도 범위는 300 - 400℃로 운전하여 반응시키는 것을 특징으로 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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상기 (B)단계에서 추출반응기에서의 반응시간은 30-60분 동안 유지하는 것을 특징으로 것을 특징으로 하는 탈황공정을 포함한 청정석탄의 제조 방법
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