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미세유로 반응기의 내열성 향상을 위한 보호층 및 이의 코팅방법

  • 기술번호 : KST2015152654
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 박판 금속 표면에 산화물계 산화 억제층 구성방법을 제공한다. 따라서, 본 발명에 따른 금속플레이트의 코팅방법은 미세유로가 형성된 금속플레이트의 표면에 금속성분을 코팅하여 금속 코팅층을 형성하는 단계; 상기 금속 코팅층이 형성된 금속 플레이트를 수소 분위기에서 열처리하여 상기 금속 코팅층을 신터링을 통해 치밀화하여 치밀질 코팅층을 형성하는 단계; 및 산소 분위기에서 열처리하여 상기 치밀질 코팅층의 표면을 산화물로 전환하여 치밀질 보호층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명을 통해, 금속플레이트의 내열성을 향상하여 고온에서 사용될 수 있는 미세유로 반응기를 제공할 수 있다.
Int. CL C25D 5/50 (2006.01) C21D 1/74 (2006.01) C23C 14/58 (2006.01) C23C 16/56 (2006.01)
CPC C23C 14/14(2013.01) C23C 14/14(2013.01) C23C 14/14(2013.01) C23C 14/14(2013.01) C23C 14/14(2013.01) C23C 14/14(2013.01)
출원번호/일자 1020100017868 (2010.02.26)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1191881-0000 (2012.10.10)
공개번호/일자 10-2011-0098310 (2011.09.01) 문서열기
공고번호/일자 (20121016) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.02.26)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박종수 대한민국 대전광역시 서구
2 황경란 대한민국 대전광역시 서구
3 김동국 대한민국 대전광역시 유성구
4 정순관 대한민국 대전광역시 서구
5 이춘부 대한민국 대전광역시 유성구
6 이성욱 대한민국 전라남도 나주시 봉

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.02.26 수리 (Accepted) 1-1-2010-0128343-40
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.02.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.03.14 수리 (Accepted) 9-1-2011-0021184-44
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.01.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5001923-88
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.02.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0071166-66
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.04.05 수리 (Accepted) 1-1-2012-0272095-80
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.05.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-0360813-53
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2012-0448372-50
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.06.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0448373-06
10 등록결정서
Decision to grant
2012.09.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0563216-13
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반응기에 사용되는 금속플레이트의 코팅방법에 있어서,상기 금속플레이트의 표면에 금속성분을 코팅하여 금속 코팅층을 형성하는 단계; 및상기 금속 코팅층이 형성된 금속플레이트를 열처리에 의한 신터링을 통해 산소 또는 수분이 상기 금속플레이트까지 침투할 수 없도록 상기 금속 코팅층의 기공을 제거하여 치밀화하여 치밀질 코팅층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 치밀질 코팅층의 표면은 산소와의 접촉에 의해 표면이 산화되어서 치밀질 보호층이 형성되는 것을 특징으로 하는 반응기에 사용되는 금속플레이트의 코팅방법
2 2
반응기에 사용되는 금속플레이트의 코팅방법에 있어서,상기 금속플레이트의 표면에 금속성분을 코팅하여 금속 코팅층을 형성하는 단계;상기 금속 코팅층이 형성된 금속플레이트를 열처리에 의한 신터링을 통해 산소 또는 수분이 상기 금속플레이트까지 침투할 수 없도록 상기 금속 코팅층의 기공을 제거하여 치밀화하여 치밀질 코팅층을 형성하는 단계; 및산소 분위기에서 열처리하여 상기 치밀질 코팅층의 표면을 산화물로 전환하여 치밀질 보호층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반응기에 사용되는 금속플레이트의 코팅방법
3 3
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 금속성분은 Al, Ti, Zr, Cr, Si, Zn, Y 중에 한 가지 이상인 것을 특징으로 하는 반응기에 사용되는 금속플레이트의 코팅방법
4 4
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 금속코팅층은 스퍼터, CVD, 전해도금, 무전해도금 중에서 선택된 어느 하나의 방법으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반응기에 사용되는 금속플레이트의 코팅방법
5 5
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 금속 코팅층의 두께는 50㎚~100㎛인 것을 특징으로 하는 반응기에 사용되는 금속플레이트의 코팅방법
6 6
제2항에 있어서, 상기 치밀질 보호층 위에 촉매를 코팅하는 것을 특징으로 하는 반응기에 사용되는 금속플레이트의 코팅방법
7 7
제1항 또는 제2항의 금속플레이트의 코팅방법에 의해 제조되어서, 상기 금속플레이트의 표면에 산소 또는 수분이 침투할 수 없는 치밀질 코팅층이 형성되고, 상기 치밀질 코팅층 위로 치밀질 보호층이 형성되는 것을 특징으로 하는 반응기용 금속플레이트
8 8
제6항의 금속플레이트의 코팅방법에 의해 제조되어서,상기 금속플레이트의 표면에 산소 또는 수분이 침투할 수 없는 치밀질 코팅층이 형성되고,상기 치밀질 코팅층 위로 치밀질 보호층이 형성되며,상기 치밀질 보호층의 상측으로 촉매층이 형성되는 것을 특징으로 하는 반응기용 금속플레이트
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