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태양전지에서 광흡수층으로 사용되고, (Zn+Sn)/(In+Zn+Sn)이 O 초과 0
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청구항 1에 있어서,
상기 태양전지용 Cu-In-Zn-Sn-(Se,S)계 박막은 CuInZnSnS4 박막, CuInZnSnSe2 박막 또는 CuInZnSnS4Se2 박막인 것을 특징으로 하는 태양전지용 Cu-In-Zn-Sn-(Se,S)계 박막
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(Zn+Sn)/(In+Zn+Sn)이 O 초과 0
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기판 상에 Cu2ZnSnS4 박막을 형성하는 단계(단계 1); 및
상기 단계 1에서 형성된 Cu2ZnSnS4 박막 상에 In 및 Se을 증착시키는 단계(단계 2)를 포함하고,
(Zn+Sn)/(In+Zn+Sn)이 0 초과 0
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7
청구항 6에 있어서,
상기 단계 2에서 Cu2ZnSnS4 박막 상에 In 및 Se을 증착시키는 단계 2는 동시진공증발법, MOCVD 방법 또는 전착 방법을 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 태양전지용 Cu-In-Zn-Sn-(Se,S)계 박막의 제조방법
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8
청구항 6에 있어서,
상기 단계 2에서 Cu2ZnSnS4 박막 상에 In 및 Se을 증착시키는 단계는 동시진공증발법을 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 태양전지용 Cu-In-Zn-Sn-(Se,S)계 박막의 제조방법
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9
청구항 6에 있어서,
상기 단계 2에서 Cu2ZnSnS4 박막 상에 In 및 Se을 증착시키는 과정에서 기판 온도는 400~600℃인 것을 특징으로 하는 태양전지용 Cu-In-Zn-Sn-(Se,S)계 박막의 제조방법
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10
청구항 6에 있어서,
상기 기판은 몰리브덴이 후면전극으로 형성된 소다라임 유리기판인 것을 특징으로 하는 태양전지용 Cu-In-Zn-Sn-(Se,S)계 박막의 제조방법
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기판 상에 CuInSe2 박막을 형성하는 단계(단계 A); 및
상기 CuInSe2 박막 상에 Zn, Sn 및 Se를 증착하여 CuInZnSnSe2 박막을 형성하는 단계(단계 B)를 포함하고,
(Zn+Sn)/(In+Zn+Sn)이 O 초과 0
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13
청구항 12에 있어서,
상기 CuInSe2 박막 상에 Zn, Sn 및 Se를 증착시키는 과정에서 기판 온도는 300~400 ℃인 것을 특징으로 하는 태양전지용 Cu-In-Zn-Sn-(Se,S)계 박막의 제조방법
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14
청구항 12에 있어서,
상기 CuInSe2 박막 상에 Zn, Sn 및 Se를 증착시키는 단계는 동시진공증발법, MOCVD 방법 또는 전착 방법을 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 태양전지용 Cu-In-Zn-Sn-(Se,S)계 박막의 제조방법
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15
청구항 12에 있어서,
상기 CuInSe2 박막 상에 Zn, Sn 및 Se를 증착시키는 단계 B는 동시진공증발법을 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 태양전지용 Cu-In-Zn-Sn-(Se,S)계 박막의 제조방법
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16
청구항 12에 있어서,
상기 기판은 몰리브덴이 후면전극으로 형성된 소다라임 유리기판인 것을 특징으로 하는 태양전지용 Cu-In-Zn-Sn-(Se,S)계 박막의 제조방법
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