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황산화물과 붕소산화물 중 하나 이상을 함유한 연소 배가스(1)가 하부로 유입된 연소 배가스(1)와 유동하는 층물질을 지지하여 충전시키는 층물질지지체(10)와, 압축공기에 의해 분말 흡수제(3)를 공급하도록 관통설치된 분말 흡수제 공급장치(13)로 구성되어 유동화에 의해 황산화물 또는 붕소화합물을 제거하는 하부 원추형 유동화부(92)와, 원추형 유동화부(92) 상부에 형성되어, 물(4)을 분사하는 물 분사 노즐(14)이 관통설치되고, 상단부 일측으로 분말 흡수제 재순환 싸이크론(11)과 연결되는 유입구(18)가 형성되어 물 및 분말흡수제가 순환유동하면서 황산화물 또는 붕소화합물을 제거하는 유동화부(91)를 포함하여 구성된 분말 흡수제 순환장치 본체(9)와;상기 유입구(18)를 통해 연결되어 배출되는 분말 흡수제를 포집하여 하부에 위치한 재순환관(81)을 통해 분말 흡수제 순환장치 본체(9)의 하부 원추형 유동화부(92)로 재순환시키는 분말 흡수제 재순환 싸이크론(11);을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 황산화물과 붕소화합물을 함유한 고온 배가스용 분말 흡수제 내외부 순환형 산성가스 제거장치
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청구항 1에 있어서,상기 원추형 유동화부(92)는 하부 원추형 유동화부 입구 직경(DI)을 유동화부 직경(DT)의 최저 1/2
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청구항 1에 있어서,상기 원추형 유동화부(92)의 하부에 설치된 층물질 지지체(10)는 단위 격자의 가로와 세로 직경이 최저 0
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청구항 1에 있어서,상기 층물질은 직경이 최저 2
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청구항 1에 있어서,상기 분말 흡수제 공급장치는 원추형 유동화부의 높이(HC)의 최저 60%에서 최고 70% 범위에서 분말 흡수제(3)와 압축공기(5)를 공급하도록 설치된 것을 특징으로 하는 황산화물과 붕소화합물을 함유한 고온 배가스용 분말 흡수제 내외부 순환형 산성가스 제거장치
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청구항 1에 있어서,상기 하부 원추형 유동화부(92)와 유동화부(91)가 이루는 분말 흡수제 순환장치 본체(9)의 높이(HT)는 유동화부 직경(DT)의 최저 5
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청구항 1에 있어서,상기 물 분사 노즐(14)의 위치는 원추형 유동화부 상단에서 물분사 노즐까지의 높이(HW)가 유동화부 직경(DT)의 2
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8
청구항 1에 있어서,상기 물 분사 노즐(14)을 통해 공급되는 물 분사 유량(ℓ/min)은 분말 흡수제(3) 공급량(g/min)의 최저 0
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청구항 1에 있어서,상기 유입구(18)는 가로와 세로 비가 1:2의 직사각형 형상으로 이루어지고, 이를 통해 반응 흡수제 함유 배출가스가 최저 19
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10
청구항 1에 있어서,상기 분말 흡수제 재순환 싸이크론(11)의 하부에는 에어록 로타리 밸브(15)가 설치되어 포집된 재순환 분말 흡수제(8)를 배출하고, 배출된 재순환 분말 흡수제(8)는 60o 로 형성된 재순환관(81)을 통해 압축공기(5)와 함께 원추형 유동화 부(92)로 재순환하도록 구성하되, 배출량은 재순환관(81) 하부에 위치한 포집 분말 흡수제 배출 로타리 밸브(16)의 배출량으로 조절하도록 구성한 것을 특징으로 하는 황산화물과 붕소화합물을 함유한 고온 배가스용 분말 흡수제 내외부 순환형 산성가스 제거장치
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청구항 1에 있어서,상기 분말 흡수제는 알칼리성 분말 흡수제로 Ca(OH), NaOH, KOH, Na2CO3 중에서 선택된 어느 하나를 시용하는 것을 특징으로 하는 황산화물과 붕소화합물을 함유한 고온 배가스용 분말 흡수제 내외부 순환형 산성가스 제거장치
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12
상기 청구항 1 내지 11항 중 어느 한항에 따른 산성가스 제거장치를 구비하여 황산화물과 붕소화합물을 함유한 고온 배가스 유입부분에 층물질 지지체를 설치하여 충전된 층물질에 분말 흡수제를 공급하여 유입된 배가스의 상승력으로 서로 혼합하면서 유동화되어 분말 흡수제와 배가스 중에 함유된 황산화물 또는 붕소화합물 산성가스와 접촉 반응율을 증가시켜 산성가스를 1차 제거하는 단계와;상승하는 배가스중에 물을 분사하여 물액적에 의해 상승하는 배가스 중에 제거되지 않은 황산화물 또는 붕소화합물 산성가스를 2차 제거하는 단계와;배가스 온도를 조절하고 하부의 층물질과 분말 흡수제와의 유동화 반응으로 인해 상승하는 배가스와 흡수제가 내외부 순환형 산성가스 제거장치 내부에서 순환하면서 제거되지 않은 황산화물 또는 붕소화합물 산성가스를 3차 제거하는 단계와;내외부 순환형 산성가스 제거장치의 상부에서 배출되는 배가스와 분말 흡수제를 흡수제 재순환 싸이크론에서 포집하여 다시 내외부 순환형 산성가스 제거장치의 하부 원추형유동화부로 재순환시켜 황산화물 또는 붕소화합물 산성가스를 4차 제거토록 하는 단계로 구성된 것을 특징으로 하는 황산화물과 붕소화합물을 함유한 고온 배가스용 분말 흡수제 내외부 순환형 산성가스 제거장치를 이용한 산성가스 제거방법
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청구항 12에 있어서,상기 3차 제거하는 단계에서는 배가스온도를 300℃에서 400℃ 범위로 조절하는 것을 특징으로 하는 황산화물과 붕소화합물을 함유한 고온 배가스용 분말 흡수제 내외부 순환형 산성가스 제거장치를 이용한 산성가스 제거방법
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