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실리콘계 나노입자 박막 증착방법, 실리콘계 나노입자 박막 및 이를 위한 실리콘계 나노입자 박막 증착장치

  • 기술번호 : KST2015152938
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 실리콘계 나노입자 박막 증착방법, 실리콘계 나노입자 박막 및 이를 위한 실리콘계 나노입자 박막 증착장치가 제공된다. 본 발명에 따른 실리콘계 나노입자 박막 증착방법은 실리콘계 나노입자를 합성하는 합성단계; 및 상기 실리콘계 나노입자를 기판에 제 1 증착시키는 증착단계를 포함하는 것을 특징으로 하며, 본 발명에 따른 실리콘계 나노입자 증착 방법 및 장치는, 합성된 실리콘계 나노입자를 또 다른 공정에서 전처리하지 않고, 합성과 동시에 기판에 증착시키므로, 나노입자 오염에 따른 전지효율 저하의 문제를 방지할 수 있다. 또한, 단일 시스템에서 합성과 증착이 진행되므로 경제성이 우수하며, 더 나아가, 나노입자의 속도 및 기판 높이를 조절함으로써 대면적 기판에서 원하는 형태의 나노입자 박막의 증착이 가능하다.
Int. CL H01L 31/0216 (2014.01) H01L 31/0445 (2014.01) H01L 21/20 (2014.01)
CPC
출원번호/일자 1020100090012 (2010.09.14)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1199221-0000 (2012.11.01)
공개번호/일자 10-2012-0028051 (2012.03.22) 문서열기
공고번호/일자 (20121107) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.09.14)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이정철 대한민국 대전광역시 유성구
2 송진수 대한민국 대전광역시 유성구
3 조준식 대한민국 대전광역시 유성구
4 박상현 대한민국 대전광역시 유성구
5 구혜영 대한민국 대전광역시 유성구
6 김성범 대한민국 서울특별시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 다해 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로***, *층(삼성동,고운빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2010-0596822-18
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.09.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.10.20 수리 (Accepted) 9-1-2011-0084940-65
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.12.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0745148-85
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.01.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5001923-88
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2012-0042437-18
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.01.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0042438-64
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2012.07.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0424116-74
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.07.26 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0598218-66
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.07.26 수리 (Accepted) 1-1-2012-0598216-75
11 등록결정서
Decision to grant
2012.09.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0567645-79
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
실리콘계 나노입자 박막 증착방법으로, 상기 방법은실리콘계 나노입자를 합성하는 합성단계; 및상기 합성된 실리콘계 나노입자를 상기 합성단계와 하기 증착단계에서의 공정 압력차를 이용하여 이송시키는 이송 단계;상기 이송된 실리콘계 나노입자를 기판에 제 1 증착시키는 증착단계를 포함하며, 상기 합성 단계, 이송 단계 및 증착단계는 동일 장치 내에서 진행되는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서, 상기 증착단계는 실리콘계 박막을 증착하기 위한 반응가스가 유입되는 단계; 및 상기 유입된 반응가스가 분해되어 상기 기판에 실리콘계 박막이 제 2 증착되는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
4 4
제 3항에 있어서, 상기 제 1 증착과 제 2 증착은 동시에 진행되는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
5 5
제 3항에 있어서, 상기 제 1 증착과 제 2 증착은 순차적으로 진행되는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 합성단계, 이송단계 및 증착단계는 연속적으로 진행되는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
7 7
제 3항에 있어서, 상기 반응가스는 플라즈마 또는 열에 의하여 분해되는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
8 8
제 1항에 있어서, 상기 이송단계에서 상기 실리콘계 나노입자는 감소하는 압력 프로파일을 갖는 복수 개의 압력 영역을 연속하여 통과하는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
9 9
제 8항에 있어서, 상기 복수 개의 압력 영역을 통과하면서 상기 실리콘계 나노입자는 속도 구배가 발생하는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
10 10
제 1항에 있어서, 상기 합성단계에서 실리콘계 나노입자는 또 다른 반응가스를 플라즈마 또는 레이저에 의하여 분해시켜 합성되는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
11 11
제 1항에 있어서, 상기 방법은이송단계 후 증착단계 전, 상기 실리콘계 나노입자를 분산시키는 분산 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
12 12
제 1항 또는 제 3 내지 제 11항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조된 실리콘계 나노입자 박막
13 13
삭제
14 14
실리콘계 나노입자 박막 증착장치로서, 상기 장치는 제 1 반응가스로부터 실리콘계 나노입자가 합성되는 합성부;상기 합성부와 연결되어, 합성된 상기 실리콘계 나노입자가 연속적으로 통과할 수 있는 하나 이상의 노즐을 포함하며, 상기 노즐을 통하여 실리콘계 나노입자가 이동되는 이송부; 및 상기 이송부와 연결되어, 상기 이송부를 통하여 이동된 실리콘계 나노입자를 기판에 증착시키는 증착부를 포함하며, 상기 합성부, 이송부 및 증착부에서의 압력은 순차적으로 감소하며, 상기 이송부는 순차적으로 감소하는 압력 프로파일을 갖도록 하는 압력 감소수단이 각각 구비된 복수 개의 단위 영역을 포함하고, 상기 노즐은 상기 단위 영역 사이에 구비된 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착장치
15 15
삭제
16 16
삭제
17 17
삭제
18 18
제 14항에 있어서, 상기 이송부와 증착부 사이에는 이동하는 상기 실리콘계 나노입자를 균일하게 분포시키는 분산수단이 더 구비된 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착장치
19 19
제 14항에 있어서, 상기 증착부는 실리콘계 박막 증착을 위한 제 2 반응가스가 유입되는 반응가스 유입부; 및 상기 유입된 제 2 반응가스를 분해하여, 상기 기판에 실리콘계 박막을 증착시키기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착장치
20 20
제 19항에 있어서, 상기 실리콘계 나노입자 증착 및 실리콘계 박막 증착은 동시에 또는 순차적으로 진행되는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착장치
21 21
제 19항에 있어서, 상기 수단은 상기 증착부 내에 플라즈마를 발생시키기 위한 플라즈마 발생부를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착장치
22 22
제 14항에 있어서, 상기 증착부는상기 기판이 적치되는 플레이트; 및 상기 플레이트에 구비되어 상기 기판의 온도를 조절하는 온도 조절 수단을 포함하며, 여기에서 상기 플레이트의 높이는 조절가능한 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착장치
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1 WO2012036346 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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1 지식경제부 한국에너지기술연구원 신재생에너지기술개발사업 고효율 고안정성 실리콘계 나노입자 박막 태양전지 원천기술 개발