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실리콘계 나노입자 박막 증착장치로서, 상기 장치는캐리어 가스에 의하여 실리콘계 나노입자가 유입된 후 포집된 나노입자 용기; 및 상기 나노입자 용기챔버로부터 나노입자가 주입된 후, 내부에 적치된 기판 상에 상기 나노입자가 제 1 증착되는 증착 챔버를 포함하며, 상기 나노입자 주입은 상기 나노입자 용기와 증착 챔버 사이의 압력차에 의하여 수행되는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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제 1항에 있어서, 상기 장치는상기 나노입자 용기와 상기 증착 챔버 사이에는 유량제어 컨트롤러가 구비된 제 1 유입라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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박막 증착장치로서, 상기 장치는캐리어 가스 및 실리콘계 나노입자가 포집된 나노입자 용기; 상기 나노입자 용기로부터 나노입자가 주입된 후, 내부에 적치된 기판 상에 상기 나노입자가 제 1 증착되는 증착챔버;상기 나노입자 용기 및 증착챔버 사이에 구비되어 실리콘계 나노입자 및 캐리어 가스를 나노입자 용기로 유입시키기 위한 제 1 유입라인; 상기 증착 챔버와 연결되어, 상기 증착 챔버 내의 기판 상에 실리콘계 박막을 제 2 증착하기 위한 반응가스가 유입되는 제 2 유입라인; 및상기 증착 챔버에 구비되며, 상기 제 2 유입라인을 통하여 유입되는 반응가스를 분해하기 위한 분해수단을 포함하며, 여기에서 상기 제 1 증착과 제 2 증착은 상기 기판 상에서 동시에 진행되고, 상기 나노입자 용기로부터의 나노입자 주입은 상기 나노입자 용기와 증착챔버 사이의 압력차에 의하여 수행되는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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제 3항에 있어서, 상기 반응가스 분해수단은 플라즈마 발생장치인 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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제 4항에 있어서, 상기 증착챔버로 유입되는 나노입자는 상기 플라즈마 발생장치에 의하여 증착 챔버 내부에 형성된 플라즈마 영역을 지나 상기 기판 상에 증착되는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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제 5항에 있어서, 상기 플라즈마 발생장치는 RF 방식 또는 열선 방식의 플라즈마 발생장치인 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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제 4항에 있어서, 상기 제 1 유입라인 및 제 2 유입라인에는 각각 유량제어 컨트롤러가 구비되는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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제 5항에 있어서,상기 제 1 유입라인 및 제 2 유입라인은 상기 증착챔버 상부에 구비된 샤워헤드에 연결된 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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제 8항에 있어서, 상기 샤워헤드는 복수 개의 홀이 형성된 하나의 이상의 플레이트를 포함하는 구조인 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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제 9항에 있어서, 상기 샤워헤드는 복수 개의 홀이 형성된 플레이트가 둘 이상 적층된 구조이며, 상기 플레이트 사이에는 상기 유입되는 나노입자가 수평으로 이동할 수 있는 이격 공간이 형성된 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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제 10항에 있어서, 상기 플레이트는 증착챔버 방향으로 홀 사이의 간격이 좁아지는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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제 11항에 있어서, 상기 나노입자 용기는 상기 제 1 유입라인으로부터 선택적으로 분리될 수 있는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치
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캐리어 가스에 의하여 실리콘계 나노입자가 유입된 후 포집된 나노입자 용기; 상기 나노입자 용기로부터 나노입자가 주입된 후, 내부에 적치된 기판 상에 상기 나노입자가 제 1 증착되는 증착 챔버; 상기 나노입자 용기에 구비되어 실리콘계 나노입자 및 캐리어 가스를 나노입자 용기로 유입시키기 위한 제 1 유입라인; 및상기 증착 챔버에 연결되어 실리콘계 박막의 제 2 증착을 위한 반응가스가 유입되는 제 2 유입라인을 포함하며, 여기에서 상기 나노입자 주입은 상기 나노입자 용기와 증착 챔버 사이의 압력차에 의하여 수행되는 박막 증착장치를 이용한 실리콘계 나노입자 박막 증착방법으로, 상기 방법은제 1 유입라인으로부터 유입되는 캐리어 가스 및 실리콘계 나노입자와 제 2 유입라인을 통하여 반응가스를 상기 증착챔버로 유입시키는 단계; 상기 반응가스를 상기 증착 챔버 내에서 분해시키는 단계; 상기 주입된 실리콘계 나노입자의 제 1 증착과 상기 분해된 반응가스의 제 2 증착을 상기 기판 상에서 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
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제 13항에 있어서,상기 반응가스는 RF 플라즈마 또는 열에 의하여 분해되는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
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제 13항에 있어서, 상기 방법은상기 제 1 유입라인을 통하여 유입된 나노입자를 확산시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
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제 13항에 있어서, 상기 제 1 증착과 제 2 증착은 동시에 진행되는 것을 특징으로 하는 실리콘계 나노입자 박막 증착방법
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제 13항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 증착된 실리콘계 나노입자 박막
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