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관통형 금속촉매가 내장된 마이크로채널 ＷＧＳ 반응장치

  • 기술번호 : KST2015153066
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 석탄가스화로부터 연소전 이산화탄소 포집(CCS) 및 수소생산을 위한 수성가스전환반응(Water-gas Shift, WGS)에 있어서 고농도의 CO를 고온 구간에서 1단 처리(single-stage WGS reactor)하면서 발생되는 열을 급속히 제거할수 있는 관통형 금속촉매 및 미세유로 가열기를 이용한 마이크로채널 WGS 반응장치에 관한 것이다.
Int. CL C01B 3/16 (2006.01) B01J 19/00 (2006.01) C01B 3/14 (2006.01) C01B 3/48 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020110080183 (2011.08.11)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1256816-0000 (2013.04.16)
공개번호/일자 10-2013-0017625 (2013.02.20) 문서열기
공고번호/일자 (20130422) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.08.11)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 황경란 대한민국 대전광역시 서구
2 박종수 대한민국 대전광역시 서구
3 이신근 대한민국 대전광역시 서구
4 이진석 대한민국 대전광역시 유성구
5 이춘부 대한민국 대전광역시 유성구
6 이성욱 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.08.11 수리 (Accepted) 1-1-2011-0622322-81
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.01.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5001923-88
3 등록결정서
Decision to grant		 2013.04.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0220046-82
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
열전달가스공급원과 연결되어 열전달가스가 공급되는 열전달가스공급관과, 반응가스를 배출하는 반응가스배출관이 형성되는 상부플레이트;원료가스공급원과 연결되어 원료가스를 공급하는 원료가스공급관과, 열전달가스를 배출하는 열전달가스배출관이 형성되는 하부플레이트;상기 상부플레이트의 하부에 배치되고, 상기 열전달가스공급관과 연결되어 열전달가스가 이동하는 상부열전달가스유로와, 상기 상부열전달가스유로와 열전달되도록 접촉형성되는 것과 동시에 상기 반응가스배출관과 연결된 상부반응가스유로를 가지는 상부열전달부;상기 하부플레이트의 상부에 배치되고, 상기 열전달가스배출관과 연결되어 열전달가스가 이동하는 하부열전달가스유로와, 상기 하부열전달가스유로와 열전달되도록 접촉형성되는 상기 원료가스공급관과 연결되는 하부반응가스유로를 가지는 하부열전달부; 및상기 상부열전달부와 상기 하부열전달부 사이에 하나 이상이 적층되는 반응부를 포함하고,상기 반응부는 1개 이상이 적층가능하도록,상기 하부반응가스유로에만 연통되는 가스공급채널이 설치되는 가스공급플레이트;상기 가스공급플레이트의 상측에 적층되고, 하나 이상의 금속촉매와 상기 금속촉매의 하측에는 다공성의 금속촉매누름판이 하나 이상 배치되는 금속촉매플레이트;상기 금속촉매플레이트의 상측에 적층되고 금속촉매에 의해 반응된 가스를 상기 상부반응가스유로에 전달시키는 가스전달부; 및상기 가스공급플레이트의 하측 또는 상기 가스전달부의 상측에 배치돼서 상기 상부열전달가스유로와 상기 하부열전달가스유로를 연통시키는 흡열채널을 가지는 흡열플레이트를 가지며,상기 가스공급플레이트, 상기 금속촉매플레이트, 상기 가스전달부, 및 상기 흡열플레이트에는 각각 상기 상부반응가스유로에 연통되는 제1반응관통홀, 상기 상부열전달가스유로에 연통되는 제2반응관통홀, 상기 하부반응가스유로에 연통되는 제3반응관통홀, 및 상기 하부열전달가스유로에 연통되는 제4반응관통홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 WGS 반응장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 금속촉매플레이트에서 상기 금속촉매와 상기 금속촉매누름판이 각각 복수개가 설치되는 경우에는, 상기 금속촉매와 상기 금속촉매누름판이 서로 교호적으로 적층되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 WGS 반응장치
3 3
제1항에 있어서,상기 상부열전달부는,상기 열전달가스공급관과 연통되는 상부열전달채널을 가지며 상부열전달가스유로를 형성하는 하나 이상의 상부열전달플레이트와,상기 반응가스배출관과 연통되는 상부반응채널을 가지며 상부반응가스유로를 형성하는 것과 동시에 상기 상부열전달플레이트와 교대로 적층되는 하나 이상의 상부반응플레이트를 포함하고,상기 상부열전달플레이트 및 상기 상부반응플레이트에는 상기 반응부의 제1반응관통홀 내지 제4반응관통홀에 대응되는 위치에, 제1상부관통홀 내지 제4상부관통홀이 형성되며,상기 상부열전달부의 최하측에는 상기 제1상부관통홀 및 상기 제2상부관통홀만 형성된 상부차단플레이트가 배치되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 WGS 반응장치
4 4
제1항에 있어서,상기 하부열전달부는,상기 열전달가스배출관과 연통되는 하부열전달채널을 가지며 하부열전달가스유로를 형성하는 하나 이상의 하부열전달플레이트와,상기 원료가스공급관과 연통되는 하부반응채널을 가지며 하부반응가스유로를 형성하는 것과 동시에 상기 하부열전달플레이트와 교대로 적층되는 하나 이상의 하부원료가스플레이트를 포함하고,상기 하부열전달플레이트 및 상기 하부원료가스플레이트에는 상기 반응부의 제1반응관통홀 내지 제4반응관통홀에 대응되는 위치에, 제1하부관통홀 내지 제4하부관통홀이 형성되며,상기 하부열전달부의 최상측에는 상기 제3하부관통홀 및 상기 제4하부관통홀만 형성된 하부차단플레이트가 배치되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 WGS 반응장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 가스전달부는,상기 금속촉매플레이트의 상측에 배치되고 상기 제1반응관통홀 내지 상기 제4반응관통홀에 대하여 격리되는 다공성 포집홀이 형성되는 가스포집플레이트와,상기 가스포집플레이트의 상측에 배치되며, 상기 제1반응관통홀에만 연통되는 가스전달채널이 형성되는 가스전달플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 WGS 반응장치
6 6
제1항에 있어서, 상기 가스전달부는,상기 금속촉매플레이트의 상측에 배치되고 상기 제2반응관통홀 내지 상기 제4반응관통홀에 대하여 격리되는 다공성 포집홀이 형성되며, 상기 다공성포집홀은 연결채널에 의해 상기 제1반응관통홀에 연통되는 포집전달플레이트인 것을 특징으로 하는 마이크로채널 WGS 반응장치
7 7
제1항에 있어서, 상기 금속촉매플레이트의 하측에는 오링이 배치되고, 상기 오링의 상측으로 상기 금속촉매누름판이 배치되는 것을 특징으로 하는 마이크로채널 WGS 반응장치
8 8
제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 다공성 포집홀의 단면적은 상기 금속촉매의 단면적보다 작은 것을 특징으로 하는 마이크로채널 WGS 반응장치
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1 CN103813976 CN 중국 FAMILY
2 US09180421 US 미국 FAMILY
3 US20140178259 US 미국 FAMILY
4 WO2013022271 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
5 WO2013022271 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN103813976 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN103813976 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 US2014178259 US 미국 DOCDBFAMILY
4 US9180421 US 미국 DOCDBFAMILY
5 WO2013022271 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
6 WO2013022271 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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