맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

산화소스투입부 또는 플라즈마투입부를 가지는 폴리실리콘 제조장치 및 이를 이용한 폴리실리콘 제조방법

  • 기술번호 : KST2015153178
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 폴리실리콘 제조장치에 관한 것으로서, 별도의 진공펌프를 가지며, 상기 진공펌프를 통해 내부의 진공상태를 조절하는 진공챔버, 상기 진공챔버에 구비되어 전자빔을 조사하는 전자빔조사부, 입자형태의 실리콘원료물질이 장입되며, 상기 전자빔이 조사되는 영역 내에 배치되어 상기 전자빔에 의해 실리콘원료물질이 용융되어 실리콘용탕이 만들어지는 실리콘용융부, 하부에 냉각채널이 형성되어 상기 실리콘용융부로부터 공급되는 실리콘용탕을 응고시키는 일방향응고부 및 상기 진공챔버 내부에 구비된 실리콘원료에 산화제 및 반응가스를 투입하여 불순물을 제거하는 산화소스투입부를 포함하여 구성된다.
Int. CL C01B 33/021 (2006.01) B01J 3/03 (2006.01) B01J 19/12 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020120035428 (2012.04.05)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0113104 (2013.10.15) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 취하
심사진행상태 취하
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.04.05)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이진석 대한민국 대전 유성구
2 안영수 대한민국 대전 유성구
3 장보윤 대한민국 대전 유성구
4 김준수 대한민국 대전 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 임상엽 대한민국 서울특별시 성동구 광나루로 ***, *층 ***호 (성수동*가, 서울숲IT캐슬)(지반특허법률사무소)
2 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.04.05 취하 (Withdrawal) 1-1-2012-0272954-95
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.05.02 수리 (Accepted) 1-1-2012-0348823-27
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.03.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.04.08 수리 (Accepted) 9-1-2013-0024328-16
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0626020-17
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.11.05 수리 (Accepted) 1-1-2013-1007160-70
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.12.05 수리 (Accepted) 1-1-2013-1114563-43
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.12.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1114580-19
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2014.04.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0290648-66
11 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2014.05.28 수리 (Accepted) 7-1-2014-0019602-81
12 [특허 등 절차 취하]취하(포기)서
[Withdrawal of Procedure such as Patent, etc.] Request for Withdrawal (Abandonment)		 2014.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-0609755-90
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공분위기를 유지하는 진공챔버;상기 진공챔버에 구비되어 전자빔을 조사하는 전자빔조사부;입자형태의 실리콘원료물질이 장입되며, 상기 전자빔조사부로부터 전자빔이 조사되는 영역 내에 배치되어 전자빔에 의해 실리콘원료물질이 용융되어 실리콘용탕이 만들어지는 실리콘용융부;하부에 냉각채널이 형성되어 상기 실리콘용융부로부터 공급되는 실리콘용탕을 응고시키는 일방향응고부; 및상기 진공챔버 내부에 구비된 실리콘원료에 산화제 및 반응가스를 투입하여 불순물을 제거하는 산화소스투입부; 를 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조장치
2 2
제 1항에 있어서,상기 전자빔조사부 및 상기 산화소스투입부는 동시에 구동되지 않는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
3 3
제 1항에 있어서, 상기 진공챔버는,일측에 구비되어 상기 진공챔버 내부의 진공상태를 조절하는 진공펌프를 더 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조장치
4 4
제 3항에 있어서,상기 전자빔조사부에서 상기 실리콘용융부에 전자빔을 조사할 때, 상기 진공챔버는 상기 진공펌프에 의해 고진공 상태가 되는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
5 5
제 3항에 있어서,상기 산화소스투입부에서 상기 실리콘용융부에 산화소스를 투입할 때, 상기 진공챔버는 상기 진공펌프에 의해 저진공 상태가 되는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
6 6
제 1항에 있어서,상기 일방향응고부의 상부 및 상기 실리콘용융부를 가열하는 보조가열부를 더 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조장치
7 7
제1항에 있어서,상기 실리콘용융부는,하부에 냉각 채널이 형성된 구리 재질의 주조 용기를 구비하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
8 8
제1항에 있어서,상기 일방향응고부는,하부에 냉각 채널이 형성된 구리 재질의 주조 용기를 구비하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
9 9
제 1항에 있어서,상기 실리콘용융부는 복수 개로 구성되는 폴리실리콘 제조장치
10 10
제 1항에 있어서,상기 전자빔조사부는,상기 일방향응고부의 상부에 전자빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
11 11
제 1항에 있어서,상기 전자빔조사부는,복수 개로 구성되어 상기 실리콘용융부 및 일방향응고부에 전자빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
12 12
진공챔버 내부에 구비된 실리콘용융부에 실리콘원료를 투입하는 단계;상기 진공챔버에 구비된 진공펌프를 이용해 내부를 고진공으로 만드는 단계;전자빔조사부를 통해 전자빔을 상기 실리콘용융부에 조사하여 상기 실리콘원료를 용융시켜 실리콘용탕으로 만드는 단계;상기 진공펌프를 이용해 진공챔버 내부를 저진공으로 만드는 단계;상기 실리콘용융부에 산화소스투입부를 통해 산화제 및 반응가스를 투입하여 상기 실리콘용탕을 정련하는 단계;상기 실리콘용융부에 수용된 상기 실리콘용탕을 일방향응고부로 이동시키는 단계; 및상기 일방향응고부를 통해 실리콘용탕을 응고시켜 실리콘을 제조하는 단계;를 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조방법
13 13
제 12항에 있어서,상기 진공펌프를 이용해 진공챔버 내부를 저진공으로 만드는 단계는,별도로 구비된 보조가열부에 의해서 상기 실리콘용융부를 가열하는 단계를 더 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조방법
14 14
제 12항에 있어서,상기 진공펌프를 이용해 진공챔버 내부를 다시 고진공으로 만드는 단계; 및상기 전자빔조사부를 통해 상기 실리콘용융부에 수용된 상기 실리콘용탕을 재가열하는 단계;를 더 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조방법
15 15
진공분위기를 유지하는 진공챔버;상기 진공챔버에 구비되어 전자빔을 조사하는 전자빔조사부;입자형태의 실리콘원료물질이 장입되며, 상기 전자빔조사부로부터 전자빔이 조사되는 영역 내에 배치되어 전자빔에 의해 실리콘원료물질이 용융되어 실리콘용탕이 만들어지는 실리콘용융부;하부에 냉각채널이 형성되어 상기 실리콘용융부로부터 공급되는 실리콘용탕을 응고시키는 일방향응고부; 및상기 진공챔버 내부에 구비된 실리콘원료에 플라즈마를 투입하여 불순물을 제거하는 플라즈마투입부; 를 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조장치
16 16
제 15항에 있어서,상기 전자빔조사부 및 상기 플라즈마투입부는 동시에 구동되지 않는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
17 17
제 15항에 있어서, 상기 진공챔버는,일측에 구비되어 상기 진공챔버 내부의 진공상태를 조절하는 진공펌프를 더 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조장치
18 18
제 17항에 있어서,상기 전자빔조사부에서 상기 실리콘용융부에 전자빔을 조사할 때, 상기 진공챔버는 상기 진공펌프에 의해 고진공 상태가 되는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
19 19
제 17항에 있어서,상기 플라즈마투입부에서 상기 실리콘용융부에 플라즈마를 투입할 때, 상기 진공챔버는 상기 진공펌프에 의해 저진공 상태가 되는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
20 20
제 15항에 있어서,상기 실리콘용융부 및 상기 일방향응고부를 가열하는 보조가열부를 더 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조장치
21 21
제15항에 있어서,상기 실리콘용융부는,하부에 냉각 채널이 형성된 구리 재질의 주조 용기를 구비하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
22 22
제15항에 있어서,상기 일방향응고부는,하부에 냉각 채널이 형성된 구리 재질의 주조 용기를 구비하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
23 23
제 15항에 있어서,상기 실리콘용융부는,복수 개로 구성되는 폴리실리콘 제조장치
24 24
제 15항에 있어서,상기 전자빔조사부는,상기 일방향응고부의 상부에 전자빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
25 25
제 15항에 있어서,상기 전자빔조사부는,복수 개로 구성되어 상기 실리콘용융부 및 일방향응고부에 전자빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조장치
26 26
진공챔버 내부에 구비된 실리콘용융부에 실리콘원료를 투입하는 단계;상기 진공챔버에 구비된 진공펌프를 이용해 내부를 고진공으로 만드는 단계;전자빔조사부를 통해 전자빔을 상기 실리콘용융부에 조사하여 상기 실리콘원료를 용융시켜 실리콘용탕으로 만드는 단계;상기 진공펌프를 이용해 진공챔버 내부를 저진공으로 만드는 단계;상기 실리콘용융부에 플라즈마투입부를 통해 플라즈마를 투입하여 상기 실리콘용탕을 정련하는 단계;상기 실리콘용융부에 수용된 상기 실리콘용탕을 일방향응고부로 이동시키는 단계; 및상기 일방향응고부를 통해 실리콘용탕을 응고시켜 실리콘을 제조하는 단계;를 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조방법
27 27
제 26항에 있어서,상기 진공펌프를 이용해 진공챔버 내부를 저진공으로 만드는 단계는,별도로 구비된 보조가열부에 의해서 상기 실리콘용융부를 가열하는 단계를 더 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조방법
28 28
제 26항에 있어서,상기 진공펌프를 이용해 진공챔버 내부를 다시 고진공으로 만드는 단계; 및상기 전자빔조사부를 통해 상기 실리콘용융부에 수용된 상기 실리콘용탕을 재가열하는 단계;를 더 포함하여 구성되는 폴리실리콘 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.