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실리콘 기판 제조 장치

  • 기술번호 : KST2015153179
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 실리콘 기판 제조 장치가 개시된다.본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘 기판 제조 장치는 하면부와 평행한 방향으로 일측에 관통된 토출부를 갖는 도가니부, 상기 도가니부의 토출부와 평행한 방향으로 상기 토출부로부터 연장되며, 실리콘 기판이 형성되는 주조 공간을 갖는 주조부, 상기 주조부의 일측에서 상기 주조 공간으로 삽입되는 더미바 및 상기 주조부의 일측에 설치된 냉각부를 포함한다.
Int. CL H01L 31/042 (2014.01) H01L 31/18 (2006.01) C01B 33/021 (2006.01)
CPC H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01)
출원번호/일자 1020120035469 (2012.04.05)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1406784-0000 (2014.06.05)
공개번호/일자 10-2013-0113131 (2013.10.15) 문서열기
공고번호/일자 (20140618) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.04.05)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이진석 대한민국 대전 유성구
2 장보윤 대한민국 대전 유성구
3 김준수 대한민국 대전 유성구
4 안영수 대한민국 대전 유성구
5 위성민 대한민국 대전 중구
6 이예능 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 임상엽 대한민국 서울특별시 성동구 광나루로 ***, *층 ***호 (성수동*가, 서울숲IT캐슬)(지반특허법률사무소)
2 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.04.05 수리 (Accepted) 1-1-2012-0273145-43
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.05.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-0361832-99
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.02.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.03.08 수리 (Accepted) 9-1-2013-0015256-16
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.07.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0454300-51
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.07.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0669916-05
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2013-0669872-84
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2013.11.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0824231-22
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.12.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-1111505-91
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2013.12.04 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2013-1111543-15
11 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2013.12.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0889151-24
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.01.17 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0050897-19
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2014-0050859-84
15 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2014.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0376108-17
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하면부와 평행한 방향으로 일측에 관통된 토출부를 갖는 도가니부;상기 도가니부의 토출부와 평행한 방향으로 상기 토출부로부터 연장되며, 실리콘 기판이 형성되는 주조 공간을 갖는 주조부; 상기 주조부의 일측에서 상기 주조 공간으로 삽입되는 더미바; 및상기 주조부의 일측에 설치된 냉각부를 포함하고,상기 주조부는 상기 도가니부의 경사부를 마주하는 측면부에 수직 방향으로 연장된 제 1 주조부 및상기 경사부와 결합되며 상기 제 1 주조부와 평행하게 연장된 제 2 주조부를 포함하고,상기 제 1 주조부는 상기 토출부를 기준으로 상기 제 2 주조부보다 길이가 작고,상기 냉각부는 이송되는 상기 실리콘 기판이 제 1 주조부에서 벗어나는 영역에 배치되며,상기 도가니부는 상기 도가니부의 상부를 관통하는 주입구를 갖는 주입부를 포함하고,상기 주입부에 실리콘 원료를 공급하는 원료 공급부; 및상기 주입부에 가스를 공급하는 가스 공급부를 더 포함하고,상기 주입부에 상기 실리콘 원료와 상기 가스가 선택적으로 공급되는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
2 2
제 1항에 있어서,상기 도가니부는 상면부, 상기 상면부에서 하 방향으로 연장된 측면부 및 상기 측면부 중 어느 하나의 일면에 대해 예각의 기울기를 갖는 경사부를 갖는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 냉각부는 가스를 블로윙(Blowing)하기 위한 가스 분사부를 포함하는 실리콘 기판 제조 장치
6 6
제 5항에 있어서,상기 가스는 비활성 가스인 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
7 7
제 6항에 있어서,상기 비활성 가스는 헬륨, 아르곤 및 질소 중 어느 하나 또는 혼합되는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
8 8
제 1항에 있어서,상기 주조부의 일측에서 상기 주조 공간으로 삽입되는 더미바를 포함하고,상기 더미바의 재질은 단결정 물질인 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
9 9
제 1항에 있어서,상기 도가니부는 제 1 도가니부와 제 2 도가니부를 포함하고,상기 제 1 도가니부는 상면부, 상기 상면부에서 하 방향으로 연장된 측면부, 상기 측면부에 수직방향으로 연장된 하면부 및 상기 하면부와 평행한 방향으로 일측에 관통된 토출부를 갖고, 상기 제 2 도가니부는 상기 제 1 도가니부의 내측에 끼움 결합되며, 상기 제 1 도가니부의 상면부의 상면에 대해 예각의 기울기를 갖고 상기 하면부에 연결된 제 2 경사부를 갖는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
10 10
삭제
11 11
하면부와 평행한 방향으로 일측에 관통된 토출부를 갖는 도가니부;상기 도가니부의 토출부와 평행한 방향으로 상기 토출부로부터 연장되며, 실리콘 기판이 형성되는 주조 공간을 갖는 주조부; 및상기 주조부의 일측에서 상기 주조 공간으로 삽입되는 더미바를 포함하고,상기 주조부는 상기 도가니부의 경사부를 마주하는 측면부에 수직 방향으로 연장된 제 1 주조부 및 상기 경사부와 결합되며 상기 제 1 주조부와 평행하게 연장된 제 2 주조부를 포함하고,상기 제 1 주조부는 상기 토출부를 기준으로 상기 제 2 주조부보다 길이가 작고,이송되는 상기 실리콘 기판이 제 1 주조부에서 벗어나는 영역에서 상기 더미바 또는 상기 실리콘 기판을 냉각시키며,밀폐된 공간을 제공하는 메인 챔버를 더 포함하고,상기 도가니부는 상기 메인 챔버 내에 설치되며, 상측을 관통하는 원료 주입구를 갖는 원료 주입부 및 상기 원료 주입구와 소정 간격으로 이격되며 상측을 관통하는 가스 주입구를 갖는 가스 주입부를 포함하고,상기 메인 챔버 상측에 배치되며 실리콘 원료물질이 저장되는 원료 공급몸체부, 상기 원료 공급몸체부와 상기 원료 주입부를 연결하는 원료 공급관 및 상기 원료 공급관의 개폐를 제어하는 제 1 밸브를 포함하는 원료 공급부; 및비활성 가스를 상기 도가니부 내에 공급하는 가스 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
12 12
제 11항에 있어서,상기 더미바 또는 상기 실리콘 기판에 가스를 불로윙하여 냉각시키는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
13 13
제 11항에 있어서,상기 도가니부 내부의 단면적은 하 방향으로 작아지는 실리콘 기판 제조 장치
14 14
제 11항에 있어서,상기 주조 공간에서 액상의 실리콘 용탕이 외부의 대기가 접촉하는 것을 방지하도록 상기 더미바 및 상기 더미바 체결부의 외측을 밀폐시키는 차폐부를 더 포함하는 실리콘 기판 제조 장치
15 15
제 11항에 있어서,상기 도가니부는 제 1 도가니부와 제 2 도가니부를 포함하고,상기 제 1 도가니부는 실리콘 원료가 장입되는 원료 주입부 및 상기 하면부와 평행한 방향으로 일측에 관통된 토출부를 갖고,상기 제 2 도가니부는 상기 제 1 도가니부와 대응되는 형상을 갖고, 상기 제 1 도가니부의 내측에 끼움 결합되며,상기 제 2 도가니부 내부의 단면적은 하 방향으로 작아지는 것을 특징으로 하는 실리콘 하는 기판 제조 장치
16 16
삭제
17 17
제 11항에 있어서,상기 가스 공급부에서 비활성 가스를 공급하여 상기 메인 챔버와 상기 도가니부를 동시에 가압하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조 장치
18 18
제 11항에 있어서,상기 가스 공급부는상기 비활성 가스를 발생시키거나 비활성 가스를 저장하는 공간을 제공하는 가스 발생부;상기 가스 발생부 및 상기 가스 주입부와 연결하는 가스 공급관; 및상기 가스 발생부와 상기 가스 공급관 사이에 배치되는 제 2 밸브를 포함하는 실리콘 기판 제조 장치
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국에너지기술연구원 신재생에너지기술개발사업 태양전지용 실리콘 기판 직접제조기술 개발