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진공 분위기를 유지하는 진공 챔버;상기 진공 챔버에 구비되어 전자빔을 조사하는 적어도 하나 이상의 전자총(Electron-gun);상기 전자빔이 조사되는 영역 내에 배치되며, 실리콘 원료물질이 장입되어 상기 전자빔에 의해 상기 실리콘 원료물질이 용융되어 실리콘 용탕이 형성되는 실리콘 용융부;상기 실리콘 용융부로부터 공급되는 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부; 및상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고,상기 연결탕로부는 하면부와 상기 하면부의 양 끝단에서 상 방향으로 연장된 한쌍의 측면부를 포함하고, 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 상기 하면부의 단면적이 작아지는 실리콘의 정련 장치
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제 1항에 있어서,상기 연결탕로부는 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 각각 마주보는 상기 측면부 간의 거리는 좁아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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제 1항에 있어서,상기 연결탕로부는상기 하면부에서부터 상부 방향으로 각각 마주보는 상기 측면부 간의 거리가 넓어지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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제 1항에 있어서,상기 연결탕로부의 하면부는 소정의 곡률을 갖는 곡면을 갖는 끝단부를 갖는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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제 1항에 있어서,상기 실리콘 용융부 또는 상기 일방향 응고부는구리 재질을 가지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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제 1항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 외측에 배치되며, 유체가 흐르는 유로부를 포함하고,상기 유로부는 복수 개의 슬릿에 의해 형성된 복수의 유로를 포함하는 제 1 유로부와 상기 제 1 유로부에 연장되고, 상기 복수의 유로가 서로 연결되어 하나의 유로를 형성하는 제 2 유로부를 포함하는 실리콘의 정련 장치
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제 1항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 각 외측에 배치된 각각의 유로부를 포함하고,인접한 상기 유로부들은 상기 실리콘 용융부의 내부를 관통하여 서로 공간적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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8
제 1항에 있어서,상기 일방향 응고부는 외측에 배치된 복수의 냉각유로부를 갖고,상기 복수의 냉각유로부 중 적어도 어느 하나의 냉각유로부의 유로 폭은 나머지 유로 폭보다 큰 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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제 1항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 제 1 실리콘 용융부와 제 2 실리콘 용융부를 포함하고,상기 제 1 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 제 2 실리콘 용융부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 제 1 연결탕로부 및상기 제 2 실리콘 용융부의 제 3 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 4 채널부가 서로 접하여 이루어진 제 2 연결탕로부를 포함하고,상기 제 1 연결탕로부와 상기 제 2 연결탕로부는 각각 하면부와 상기 하면부의 양 끝단에서 실질적으로 수직방향으로 연장된 한 쌍의 측면부를 포함하고,상기 제 1 연결탕로부와 상기 제 2 연결탕로부 중 적어도 하나는 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 상기 하면부의 단면적이 작아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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실리콘 원료물질이 용융되어 저장된 실리콘 용융부;상기 실리콘 용융부로부터 공급되는 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부; 및상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고,상기 연결탕로부의 채널의 폭은 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 좁아지는 실리콘의 정련 장치
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제 10항에 있어서,상기 연결탕로부는 상기 제 1 채널부와 상기 제 2 채널부로 이루어진 채널의 폭이 상측으로 넓어지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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제 10항에 있어서,상기 실리콘 용융부 또는 상기 일방향 응고부는구리 재질을 가지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련장치
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제 10항에 있어서,상기 실리콘 용융부에 실리콘 원료물질을 공급하는 원료 공급부를 포함하고,상기 연결탕로부의 중심축은 상기 원료 공급부의 투입구의 중심축과 다른 위치에 있는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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제 10항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 제 1 실리콘 용융부와 제 2 실리콘 용융부를 포함하고,상기 제 1 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 제 2 실리콘 용융부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 제 1 연결탕로부 및상기 제 2 실리콘 용융부의 제 3 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 4 채널부가 서로 접하여 이루어진 제 2 연결탕로부를 포함하고,상기 제 1 연결탕로부는 상기 제 1 채널부와 상기 제 2 채널부로 이루어진 채널 또는 상기 제 2 연결탕로부는 상기 제 3 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 4채널부로 이루어진 채널의 폭이 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 좁아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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실리콘 용탕이 형성되는 실리콘 용융부; 및상기 실리콘 용융부로부터 공급되는 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부를 포함하고,상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고,상기 연결탕로부는 하면부와 상기 하면부의 양 끝단에서 상 방향으로 연장된 한쌍의 측면부를 포함하고, 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 상기 하면부 일면의 기울기가 수평방향을 기준으로 증가하는 실리콘의 정련 장치
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제 19항에 있어서,상기 연결탕로부는 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 각각 마주보는 상기 측면부 간의 거리는 좁아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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제 19항에 있어서,상기 연결탕로부는상기 하면부에서부터 상부 방향으로 각각 마주보는 상기 측면부 간의 거리가 넓어지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
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