맞춤기술찾기

이전대상기술

실리콘의 정련 장치

  • 기술번호 : KST2015153252
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 실리콘의 정련 장치가 개시된다.본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘의 정련 장치는 진공 분위기를 유지하는 진공 챔버, 상기 진공 챔버에 구비되어 전자빔을 조사하는 적어도 하나 이상의 전자총(Electron-gun), 상기 전자빔이 조사되는 영역 내에 배치되며, 실리콘 원료물질이 장입되어 상기 전자빔에 의해 상기 실리콘 원료물질이 용융되어 실리콘 용탕이 형성되는 실리콘 용융부, 상기 실리콘 용융부로부터 공급되는 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부 및 상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고, 상기 연결탕로부는 하면부와 상기 하면부의 양 끝단에서 실질적으로 수직방향으로 연장된 한쌍의 측면부를 포함하고, 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 상기 하면부의 단면적이 작아질 수 있다.
Int. CL H01L 31/04 (2014.01) C01B 33/037 (2006.01)
CPC C01B 33/037(2013.01) C01B 33/037(2013.01)
출원번호/일자 1020120075043 (2012.07.10)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1397979-0000 (2014.05.15)
공개번호/일자 10-2014-0008485 (2014.01.21) 문서열기
공고번호/일자 (20140530) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.07.10)
심사청구항수 17

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이진석 대한민국 대전 유성구
2 안영수 대한민국 대전 유성구
3 장보윤 대한민국 대전 유성구
4 김준수 대한민국 대전 유성구
5 이준규 대한민국 대전 서구
6 노종진 대한민국 충북 청주시 흥덕구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 임상엽 대한민국 서울특별시 성동구 광나루로 ***, *층 ***호 (성수동*가, 서울숲IT캐슬)(지반특허법률사무소)
2 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.07.10 수리 (Accepted) 1-1-2012-0550819-83
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.05.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.05.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0038599-44
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.11.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0785592-39
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.01.15 수리 (Accepted) 1-1-2014-0042705-29
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.01.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0042731-17
8 등록결정서
Decision to grant
2014.04.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0255262-81
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공 분위기를 유지하는 진공 챔버;상기 진공 챔버에 구비되어 전자빔을 조사하는 적어도 하나 이상의 전자총(Electron-gun);상기 전자빔이 조사되는 영역 내에 배치되며, 실리콘 원료물질이 장입되어 상기 전자빔에 의해 상기 실리콘 원료물질이 용융되어 실리콘 용탕이 형성되는 실리콘 용융부;상기 실리콘 용융부로부터 공급되는 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부; 및상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고,상기 연결탕로부는 하면부와 상기 하면부의 양 끝단에서 상 방향으로 연장된 한쌍의 측면부를 포함하고, 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 상기 하면부의 단면적이 작아지는 실리콘의 정련 장치
2 2
제 1항에 있어서,상기 연결탕로부는 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 각각 마주보는 상기 측면부 간의 거리는 좁아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
3 3
제 1항에 있어서,상기 연결탕로부는상기 하면부에서부터 상부 방향으로 각각 마주보는 상기 측면부 간의 거리가 넓어지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
4 4
제 1항에 있어서,상기 연결탕로부의 하면부는 소정의 곡률을 갖는 곡면을 갖는 끝단부를 갖는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
5 5
제 1항에 있어서,상기 실리콘 용융부 또는 상기 일방향 응고부는구리 재질을 가지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
6 6
제 1항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 외측에 배치되며, 유체가 흐르는 유로부를 포함하고,상기 유로부는 복수 개의 슬릿에 의해 형성된 복수의 유로를 포함하는 제 1 유로부와 상기 제 1 유로부에 연장되고, 상기 복수의 유로가 서로 연결되어 하나의 유로를 형성하는 제 2 유로부를 포함하는 실리콘의 정련 장치
7 7
제 1항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 각 외측에 배치된 각각의 유로부를 포함하고,인접한 상기 유로부들은 상기 실리콘 용융부의 내부를 관통하여 서로 공간적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
8 8
제 1항에 있어서,상기 일방향 응고부는 외측에 배치된 복수의 냉각유로부를 갖고,상기 복수의 냉각유로부 중 적어도 어느 하나의 냉각유로부의 유로 폭은 나머지 유로 폭보다 큰 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
9 9
제 1항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 제 1 실리콘 용융부와 제 2 실리콘 용융부를 포함하고,상기 제 1 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 제 2 실리콘 용융부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 제 1 연결탕로부 및상기 제 2 실리콘 용융부의 제 3 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 4 채널부가 서로 접하여 이루어진 제 2 연결탕로부를 포함하고,상기 제 1 연결탕로부와 상기 제 2 연결탕로부는 각각 하면부와 상기 하면부의 양 끝단에서 실질적으로 수직방향으로 연장된 한 쌍의 측면부를 포함하고,상기 제 1 연결탕로부와 상기 제 2 연결탕로부 중 적어도 하나는 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 상기 하면부의 단면적이 작아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
10 10
실리콘 원료물질이 용융되어 저장된 실리콘 용융부;상기 실리콘 용융부로부터 공급되는 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부; 및상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고,상기 연결탕로부의 채널의 폭은 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 좁아지는 실리콘의 정련 장치
11 11
제 10항에 있어서,상기 연결탕로부는 상기 제 1 채널부와 상기 제 2 채널부로 이루어진 채널의 폭이 상측으로 넓어지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
12 12
제 10항에 있어서,상기 실리콘 용융부 또는 상기 일방향 응고부는구리 재질을 가지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련장치
13 13
제 10항에 있어서,상기 실리콘 용융부에 실리콘 원료물질을 공급하는 원료 공급부를 포함하고,상기 연결탕로부의 중심축은 상기 원료 공급부의 투입구의 중심축과 다른 위치에 있는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
14 14
제 10항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 제 1 실리콘 용융부와 제 2 실리콘 용융부를 포함하고,상기 제 1 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 제 2 실리콘 용융부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 제 1 연결탕로부 및상기 제 2 실리콘 용융부의 제 3 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 4 채널부가 서로 접하여 이루어진 제 2 연결탕로부를 포함하고,상기 제 1 연결탕로부는 상기 제 1 채널부와 상기 제 2 채널부로 이루어진 채널 또는 상기 제 2 연결탕로부는 상기 제 3 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 4채널부로 이루어진 채널의 폭이 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 좁아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
15 15
삭제
16 16
삭제
17 17
삭제
18 18
삭제
19 19
실리콘 용탕이 형성되는 실리콘 용융부; 및상기 실리콘 용융부로부터 공급되는 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부를 포함하고,상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고,상기 연결탕로부는 하면부와 상기 하면부의 양 끝단에서 상 방향으로 연장된 한쌍의 측면부를 포함하고, 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 상기 하면부 일면의 기울기가 수평방향을 기준으로 증가하는 실리콘의 정련 장치
20 20
제 19항에 있어서,상기 연결탕로부는 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 각각 마주보는 상기 측면부 간의 거리는 좁아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
21 21
제 19항에 있어서,상기 연결탕로부는상기 하면부에서부터 상부 방향으로 각각 마주보는 상기 측면부 간의 거리가 넓어지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.