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실리콘의 정련 장치

  • 기술번호 : KST2015153288
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 실리콘의 정련 장치가 개시된다.진공 분위기를 유지하는 진공 챔버, 상기 진공 챔버에 구비되어 전자빔을 조사하는 적어도 하나 이상의 전자총(Electron-gun), 상기 진공챔버 내에 실리콘 원료물질을 공급하는 원료 공급부, 상기 전자빔이 조사되는 영역 내에 배치되며, 상기 실리콘 원료물질이 장입되어 상기 전자빔에 의해 상기 실리콘 원료물질이 용융되어 실리콘 용탕이 형성되는 실리콘 용융부, 상기 실리콘 용융부로부터 공급되는 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부 및 상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고, 상기 연결탕로부의 중심축은 상기 원료 공급부의 투입구의 중심축과 다른 위치에 있는 휘발성 불순물 제거를 위한 실리콘의 정련 장치가 제공될 수 있다. 이에 따라, 실리콘 용탕의 이동경로를 길게 하여 내부에 존재하는 휘발성 불순물이 제거되는 시간과 공간을 충분히 확보하여 진공 정련의 효율을 향상시킬 수 있다.
Int. CL C01B 33/04 (2006.01) C01B 33/021 (2006.01) B01J 19/12 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020120075044 (2012.07.10)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1441856-0000 (2014.09.12)
공개번호/일자 10-2014-0008066 (2014.01.21) 문서열기
공고번호/일자 (20140919) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.07.10)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이진석 대한민국 대전 유성구
2 안영수 대한민국 대전 유성구
3 장보윤 대한민국 대전 유성구
4 김준수 대한민국 대전 유성구
5 이준규 대한민국 대전 서구
6 노종진 대한민국 충북 청주시 흥덕구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 임상엽 대한민국 서울특별시 성동구 광나루로 ***, *층 ***호 (성수동*가, 서울숲IT캐슬)(지반특허법률사무소)
2 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.07.10 수리 (Accepted) 1-1-2012-0550834-68
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.05.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.05.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0038666-16
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.11.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0785590-48
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.01.15 수리 (Accepted) 1-1-2014-0041876-49
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.01.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0086548-77
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2014-0086531-02
9 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2014.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0292708-54
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-0610960-78
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-0711094-34
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.07.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0711122-25
13 등록결정서
Decision to grant		 2014.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0614263-03
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공 분위기를 유지하는 진공 챔버;상기 진공 챔버에 구비되어 전자빔을 조사하는 적어도 하나 이상의 전자총(Electron-gun);상기 진공챔버 내에 실리콘 원료물질을 공급하는 원료 공급부;상기 전자빔이 조사되는 영역 내에 배치되며, 상기 실리콘 원료물질이 장입되어 상기 전자빔에 의해 상기 실리콘 원료물질이 용융되어 실리콘용탕이 형성되는 실리콘 용융부; 상기 실리콘 용융부로부터 공급되는 실리콘용탕을 응고시키는 일방향 응고부; 및상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고,상기 연결탕로부의 중심축이 연장된 제 1 가상선은 상기 원료 공급부의 투입구의 중심축이 연장된 제 2 가상선과 평행한 실리콘의 정련 장치
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서,상기 제 1 가상선과 상기 제 2 가상선은 상기 제 1 실리콘 용융부 내에서 최대로 이격되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
제 1항에 있어서,상기 연결탕로부는 하면부와 상기 하면부의 양 끝단에서 수직방향으로 연장된 한쌍의 측면부를 포함하고, 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 상기 하면부의 단면적이 작아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
7 7
일단에 제 1 채널부를 갖는 실리콘 용융부;상기 제 1 채널부와 접하여 연결탕로부를 형성하는 제 2 채널부를 갖는 일방향 응고부; 및상기 실리콘 용융부에 실리콘 원료물질을 이송하는 원료 공급부를 포함하고,상기 연결탕로부의 중심축이 연장된 제 1 가상선은 상기 원료공급부의 중심축이 연장된 제 2 가상선과 수직한 실리콘의 정련 장치
8 8
제 7항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 직육면체 형상을 갖고,상기 제 1 가상선과 상기 제 2 가상선의 수직점이 상기 실리콘 용융부의 모서리부에 최대로 인접되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
9 9
제 7항에 있어서,상기 원료 공급부의 투입구는 상기 제 1 채널부와 상기 원료 공급부의 투입구를 연결하는 직선이 가장 최대가 되도록 상기 실리콘 용융부 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
10 10
제 7항에 있어서,상기 연결탕로부는 상기 제 1 채널부와 상기 제 2 채널부로 이루어진 채널의 폭이 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 좁아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
11 11
제 7항에 있어서,상기 실리콘 용융부 또는 상기 일방향 응고부는구리 재질을 가지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
12 12
제 7항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 외측에 배치되며, 유체가 흐르는 유로부를 포함하고,상기 유로부는 복수 개의 슬릿에 의해 형성된 복수의 유로를 포함하는 제 1 유로부와 상기 제 1 유로부에 연장되고, 상기 복수의 유로가 서로 연결되어 하나의 유로를 형성하는 제 2 유로부를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
13 13
삭제
14 14
실리콘 용탕이 저장되는 제 1 실리콘 용융부;상기 제 1 실리콘 용융부는 제 1 채널부를 갖고, 상기 제 1 채널부와 접하여 제 1 연결탕로부를 형성하는 제 2 채널부를 갖는 제 2 실리콘 용융부; 및상기 제 2 실리콘 용융부는 제 3 채널부를 갖고, 상기 제 3 채널부와 접하여 제 2 연결탕로부를 형성하는 제 4 채널부를 갖는 일방향 응고부;상기 제 1 연결탕로부의 중심축이 연장된 연장선은 상기 제2 연결탕로부의 중심축이 연장된 연장선과 평행하거나 수직한 실리콘의 정련 장치
15 15
제 14항에 있어서,상기 제 2 실리콘 용융부는 직육면체 형상을 갖고,상기 제 3 채널부는 상기 제 2 실리콘 용융부의 모서리부에 위치하는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
16 16
제 14항에 있어서,상기 제 2 채널부는 상기 제 2 채널부와 상기 제 3 채널부를 연결하는 직선이 가장 최대가 되도록 상기 제 2 실리콘 용융부 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
17 17
제 14항에 있어서,상기 실리콘 용융부에 실리콘 원료물질을 이송하는 원료 공급부를 포함하고,상기 원료 공급부의 투입구는 상기 제 1 실리콘 용융부에 실리콘 원료물질이 공급되는 위치에서 용융되어 상기 제 1 연결탕로부로 이동하는 경로가 최대로 되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
18 18
제 17항에 있어서,상기 제 1 실리콘 용융부는 직육면체 형상을 갖고,상기 제 1 채널부는 상기 제 1 실리콘 용융부의 모서리부에 위치하는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
19 19
제 18항에 있어서,상기 원료 공급부의 투입구는 상기 제 1 채널부와 상기 원료 공급부의 투입구를 연결하는 직선이 가장 최대가 되도록 상기 실리콘 용융부 상부에 배치되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
20 20
제 14항에 있어서,상기 제 1 연결탕로부는 상기 제 1 채널부와 상기 제 2 채널부로 이루어진 채널 또는 상기 제 2 연결탕로부는 상기 제 3 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 4채널부로 이루어진 채널의 폭이 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 좁아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
21 21
제 14항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 각 외측에 배치된 각각의 유로부를 포함하고,인접한 상기 유로부들은 상기 실리콘 용융부의 내부를 관통하여 서로 공간적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련장치
22 22
제 14항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 외측에 배치된 복수의 유로부를 갖고,상기 복수의 유로부 중 적어도 어느 하나의 유로부의 유로 폭은 나머지 유로부의 유로 폭보다 큰 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
23 23
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