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실리콘 원료가 공급되는 실리콘 원료 투입부;상기 공급된 실리콘을 용융하여 실리콘 용탕을 형성하는 실리콘 용융부;상기 실리콘 용탕을 공급받아 저장하며, 상기 실리콘 용탕을 일정한 두께의 용융물로 토출하는 토출구를 가지는 실리콘 용탕 저장부;상기 실리콘 용탕 저장부 하부에 배치되며, 상기 실리콘 용융물을 상기 실리콘 용탕 저장부의 외측으로 이송하는 이송기판; 및상기 실리콘 용탕 저장부의 외측에서 상기 실리콘 용융물의 이동경로 상에 구비되며, 상기 토출구를 통해 토출된 실리콘 용융물에 가압하여 표면 처리하는 표면 처리수단을 포함하는 실리콘 기판 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 표면 처리수단과 인접하여 배치되고, 상기 토출된 실리콘 용융물에 열을 가하기 위한 가열수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 표면 처리수단은 상기 실리콘 용융점 이하의 온도로 상기 실리콘 용융물을 가열하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조장치
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제 2항에 있어서,상기 가열수단은 상기 실리콘 용융점 이하의 온도로 상기 실리콘 용융물이 고화된 기판 표면을 가열하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 실리콘 용탕 저장부의 외벽을 둘러싸 상기 실리콘 용탕 저장부를 가열하는 실리콘 용탕 가열부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조장치
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제 5항에 있어서,상기 실리콘 용탕 가열부는 가열 온도조절을 통해 상기 실리콘 용탕의 응고속도를 제어하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 표면 처리수단은 상기 토출된 실리콘 용융물 표면에 대해 상하 수직방향 혹은 좌우 수평방향으로 동작하여 상기 실리콘 용융물에 가압하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 이송기판 하부에 배치되어 상기 실리콘 용융물과 상기 이송기판 사이의 온도차를 줄이기 위한 예비 가열부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조장치
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제 1항에 있어서,상기 이송기판의 재질은 상기 실리콘의 열팽창계수와 다른 것을 특징으로 하는 실리콘 박판 제조장치
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제 9항에 있어서,상기 이송기판의 재질은 금속, 세라믹, 실리콘카바이트(SiC), 실리콘나이트라이드(Si3N4), 그라파이트(Graphite), 알루미늄옥사이드(Al2O3), 몰리브덴(Mo) 물질 그룹 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 실리콘 박판 제조장치
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실리콘 용융물이 저장된 실리콘 용탕 저장부; 및상기 실리콘 용탕 저장부로부터 토출된 상기 실리콘 용융물을 이송하면서 응고시키는 이송기판을 포함하고,상기 실리콘 용탕 저장부로부터 토출된 실리콘 용융물의 표면은 물리적인 힘에 의해 가압되는 실리콘 기판 제조장치
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연속주조법을 이용하여 실리콘 기판을 제조하는 방법에 있어서, 실리콘 원료를 용융시키는 단계; 상기 실리콘 용융물을 이송시키는 단계; 및상기 실리콘 용융물의 표면에 물리적인 압력을 가하는 단계를포함하는 실리콘 기판 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 실리콘 용융물의 표면에 물리적인 압력 가압시, 동시에 열처리 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 실리콘 용융물의 표면 열처리는 상기 실리콘 용융점 이하로 열처리하는 것을 특징으로 하는 실리콘 기판 제조방법
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