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급속 열처리 공정을 사용한 CIGS 박막의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015153362
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 Se 성분이 포함된 Cu-In-Ga-Se 전구체 박막을 형성한 후 급속 열처리 공정을 수행함으로써 급속 열처리 공정 중 추가적인 Se 공급이 필요하지 않은 CIGS 박막의 제조방법에 관한 것이다. 구체적으로는, 기판에 셀레늄 성분이 포함된 Cu-In-Ga-Se 전구체 박막을 형성하는 단계(단계 a); 상기 단계 a에서 형성된 전구체 박막에 400℃ 초과 600℃ 미만의 온도 및 1∼760 torr의 압력에서 1∼30분 동안 급속 열처리 공정(RTP)을 처리하는 단계(단계 b)를 포함한다. 본 발명에 따르면, CIGS 전구체 박막을 제조하는 과정에서 충분한 양의 Se가 전구체 박막 자체에 포함되게 함으로써 급속 열처리 공정 중 추가적으로 Se를 공급하여야 할 필요가 없으며, 급속 열처리 공정 조건의 제어를 통해 Se 손실을 최소화하여 고결정성의 CIGS 박막을 제공할 수 있다.
Int. CL H01L 31/042 (2014.01) H01L 31/18 (2006.01) H01L 31/0749 (2012.01)
CPC H01L 31/1864(2013.01) H01L 31/1864(2013.01) H01L 31/1864(2013.01) H01L 31/1864(2013.01)
출원번호/일자 1020120091874 (2012.08.22)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1388458-0000 (2014.04.17)
공개번호/일자 10-2014-0026678 (2014.03.06) 문서열기
공고번호/일자 (20140424) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.08.22)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안세진 대한민국 대전광역시 유성구
2 윤재호 대한민국 대전광역시 중구
3 곽지혜 대한민국 대전 서구
4 윤경훈 대한민국 대전광역시 유성구
5 신기식 대한민국 대전 유성구
6 안승규 대한민국 대전광역시 유성구
7 조아라 대한민국 서울특별시 관악구
8 조준식 대한민국 대전광역시 유성구
9 박상현 대한민국 대전 유성구
10 어영주 대한민국 대전광역시 유성구
11 유진수 대한민국 서울특별시 노원구
12 박주형 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다울 대한민국 서울 강남구 봉은사로 ***, ***호(역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.08.22 수리 (Accepted) 1-1-2012-0675004-32
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.10.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.11.14 수리 (Accepted) 9-1-2013-0095898-61
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.11.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0805087-53
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.01.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0046754-49
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2014-0046748-75
8 등록결정서
Decision to grant
2014.04.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0258036-94
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판에 셀레늄 성분이 포함된 Cu-In-Ga-Se 전구체 박막을 형성하는 단계(단계 a);상기 단계 a에서 형성된 전구체 박막에 400℃ 초과 600℃ 미만의 온도 및 1∼760 torr의 압력에서 1∼30분 동안 급속 열처리 공정(RTP)을 처리하는 단계(단계 b)를 포함하되,상기 단계 a는 셀레늄을 적어도 하나 포함하는 타겟을 스퍼터링법에 의해 증착하여 전구체 박막을 형성하는 것이고,상기 셀레늄(Se)을 적어도 하나 포함하는 타겟은, Cu, In, Ga 및 2 이상의 이의 합금으로 이루어지는 군으로 선택되는 순수 금속/합금 타겟과 Se 타겟의 조합;Cu, In, Ga 및 2 이상의 이의 합금으로 이루어지는 군으로 선택되는 순수 금속/합금 타겟과 Cu, In 및 Ga 중 하나 이상과 Se로 구성되는 셀레나이드 타겟의 조합; 및Cu, In 및 Ga 중 하나 이상과 Se로 구성되는 셀레나이드 타겟의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나의 조합인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막의 제조방법
2 2
삭제
3 3
청구항 1에 있어서, 상기 스퍼터링법은 타겟을 동시 스퍼터링(co-sputtering) 또는 시간차를 두고 차례로 수행하는 것을 특징으로 하는 CIGS 박막의 제조방법
4 4
삭제
5 5
청구항 1에 있어서, 상기 Cu, In, Ga 및 2 이상의 이의 합금으로 이루어지는 군으로 선택되는 순수 금속/합금 타겟과 Se 타겟의 조합은, (Cu, In, CuGa, Se), (CuIn, CuGa, Se) 및 (CuInGa, Se)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나의 조합인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막의 제조방법
6 6
청구항 1에 있어서, 상기 Cu, In, Ga 및 2 이상의 이의 합금으로 이루어지는 군으로 선택되는 순수 금속/합금 타겟과 Cu, In 및 Ga 중 하나 이상과 Se로 구성되는 셀레나이드 타겟의 조합은, (Cu, InSe, GaSe), (CuGa, InSe, CuSe) 및 (In, CuSe, GaSe)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나의 조합인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막의 제조방법
7 7
청구항 1에 있어서, 상기 Cu, In 및 Ga 중 하나 이상과 Se로 구성되는 셀레나이드 타겟의 조합은, (CuSe, InSe, GaSe), (CuSe, InGaSe) 및 (CuInSe, GaSe)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나의 조합인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막의 제조방법
8 8
청구항 1에 있어서, 상기 단계 b에서 급속 열처리 공정은 560℃의 온도 및 1 torr의 압력에서 15분 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 CIGS 박막의 제조방법
9 9
셀레늄을 적어도 하나 포함하는 타겟을 스퍼터링법으로 증착하여 셀레늄 성분이 포함된 Cu-In-Ga-Se 전구체 박막을 기판에 형성한 후, 형성된 전구체 박막을 400℃ 초과 600℃ 미만의 온도 및 1∼760 torr의 압력에서 1∼30분 동안 급속 열처리 공정(RTP)으로 처리하여 제조되고,상기 셀레늄(Se)을 적어도 하나 포함하는 타겟은, Cu, In, Ga 및 2 이상의 이의 합금으로 이루어지는 군으로 선택되는 순수 금속/합금 타겟과 Se 타겟의 조합;Cu, In, Ga 및 2 이상의 이의 합금으로 이루어지는 군으로 선택되는 순수 금속/합금 타겟과 Cu, In 및 Ga 중 하나 이상과 Se로 구성되는 셀레나이드 타겟의 조합; 및Cu, In 및 Ga 중 하나 이상과 Se로 구성되는 셀레나이드 타겟의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나의 조합인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막을 광흡수층으로 포함하는 CIGS 박막 태양전지
10 10
CIGS 박막을 광흡수층으로서 포함하는 박막 태양전지의 제조방법으로서, 셀레늄을 적어도 하나 포함하는 타겟을 스퍼터링법으로 증착하여 셀레늄 성분이 포함된 Cu-In-Ga-Se 전구체 박막을 기판에 형성한 후, 형성된 전구체 박막을 400℃ 초과 600℃ 미만의 온도 및 1∼760 torr의 압력에서 1∼30분 동안 급속 열처리 공정(RTP)으로 처리하는 단계를 포함하고,상기 셀레늄(Se)을 적어도 하나 포함하는 타겟은,Cu, In, Ga 및 2 이상의 이의 합금으로 이루어지는 군으로 선택되는 순수 금속/합금 타겟과 Se 타겟의 조합;Cu, In, Ga 및 2 이상의 이의 합금으로 이루어지는 군으로 선택되는 순수 금속/합금 타겟과 Cu, In 및 Ga 중 하나 이상과 Se로 구성되는 셀레나이드 타겟의 조합; 및Cu, In 및 Ga 중 하나 이상과 Se로 구성되는 셀레나이드 타겟의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나의 조합인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 태양전지의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국에너지기술연구원 기관 주요사업 플렉서블 박막태양전지 고효율화 기술개발
2 지식경제부 한국에너지기술연구원 협동연구사업 용액화학기반형 저가/고효율 CIGS 박막 태양전지 기술개발