| 1 |
1
나노입자 제조부에 일단이 연결되며, 상기 나노입자 제조부에서 급냉 및 이송되는 실리콘 또는 실리콘 산화물 나노입자가 이송되도록 유로를 형성하는 연결관;상기 연결관의 타단이 상단에 연결되며, 안내된 상기 실리콘 또는 실리콘 산화물 나노입자가 내부로 유입 및 수용되는 수용부; 및상기 수용부의 하단에 결합되며, 유입되는 상기 실리콘 또는 실리콘 산화물 나노입자가 하방으로 집중되도록 하부를 따라 점진적으로 좁아지게 원추형으로 형성되는 경사부;를 포함하고,상기 경사부의 하단에는, 순환부가 더 연결되며,상기 경사부는, 하단에 별도의 보조공간이 형성되며,상기 순환부는, 상기 보조 공간으로 이동된 미 반응 가스를 상기 가스 공급부로 재투입시키고,상기 보조공간의 측면에는, 상기 순환부가 연결되는 것을 특징으로 하는 나노입자 포집장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 연결관 및 상기 수용부의 두께 내에는,외부로부터 공급되는 냉각 유체가 삽입되며, 상기 냉각 유체에 의해 상기 실리콘(Si) 또는 실리콘 산화물(SiOx) 나노입자가 냉각될 수 있도록 하는 유로 및,상기 유로에 상기 냉각 유체를 공급하기 위한 냉각수 공급부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 나노입자 포집장치
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 연결관 및 상기 수용부의 내부 또는 외부에는,상기 실리콘(Si) 또는 실리콘 산화물(SiOx) 나노입자를 냉각하기 위한 냉각부가 더 설치되는 것을 특징으로 하는 나노입자 포집장치
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 연결관에는,나노입자 순환기가 더 구비되며,상기 나노입자 순환기는,상기 나노입자 제조부로부터 상기 실리콘(Si) 또는 실리콘 산화물(SiOx) 나노입자를 상기 수용부로 이동시키기는 것을 특징으로 하는 나노입자 포집장치
|
| 5 |
5
제4항에 있어서,상기 나노입자 순환기는,순환팬 및 진공펌프 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 나노입자 포집장치
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 나노입자 제조부는,상기 연결관의 일단이 연결되는 진공 챔버와,상기 챔버의 내부에 설치되며, 상방이 개방된 수용부에 실리콘이 투입되는 용융 도가니와,상기 수용부에 투입된 상기 실리콘을 용융하여 실리콘 나노입자 상태로 제조시키는 유도 용융부 및,상기 용융 도가니에서 제조되는 상기 실리콘(Si) 또는 실리콘 산화물(SiOx) 나노입자를 급냉 및 이송하기 위한 가스 공급부가 구비되는 것을 특징으로 하는 나노입자 포집장치
|
| 7 |
7
삭제
|
| 8 |
8
삭제
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 순환부는,상기 경사부의 하단과 상기 가스 공급부에 양단이 각각 연결되어, 미 반응 가스를 상기 가스 공급부로 재투입시키는 순환관 및,상기 순환관에 설치되며, 상기 미 반응 가스를 강제 이동시키는 가스 순환기가 구비는 것을 특징으로 하는 나노입자 포집장치
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,상기 가스 순환기는,순환팬 및 진공펌프 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 나노입자 포집장치
|
| 11 |
11
제1항에 있어서,상기 경사부의 내부에는,상기 실리콘 또는 실리콘 산화물 나노입자를 필터링하는 필터부가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 나노입자 포집장치
|
