| 1 |
1
실리콘 용탕이 저장되며, 상부가 개방된 실리콘 용융부; 및상기 실리콘 용융부 내측에서 연장되어 내부에 유로를 형성하는 복수 개의 격벽;을 포함하고,상기 복수 개의 격벽 중 어느 하나는 원료가 투입되는 투입구과 인접한 실리콘 용융부 내측에서 연장되고,상기 복수 개의 격벽 중 어느 하나는 용융된 실리콘이 배출되는 연결탕로부에 인접한 실리콘 용융부 내측에서 연장되는 실리콘의 정련 장치
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서,상기 격벽은 복수 개로 이루어지고,상기 복수 개의 격벽은 서로 평행한 방향을 향하는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
| 3 |
3
진공 분위기를 유지하는 진공 챔버;상기 진공 챔버에 구비되며, 전자빔을 조사하는 적어도 하나 이상의 전자총(Electron-gun);상기 진공 챔버 내에 구비되며, 실리콘 원료물질을 공급하는 원료 공급부;상기 전자빔에 의해 상기 실리콘 원료물질이 용융되어 실리콘 용탕이 형성되는 실리콘 용융부;상기 실리콘 용융부로부터 공급되는 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부; 상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부; 및상기 실리콘 용융부 내에서 상기 실리콘 용탕의 이동경로를 변경시키는 하나 이상의 격벽을 포함하는 실리콘의 정련 장치
|
| 4 |
4
제 3항에 있어서,상기 연결탕로부는 하면부와 상기 하면부의 양 끝 단에서 수직방향으로 연장된 한쌍의 측면부를 포함하고, 상기 실리콘 용탕이 이송되는 방향에 따라 상기 하면부의 단면적이 작아지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
| 5 |
5
제 3항에 있어서,상기 연결탕로부의 하면부는 상기 실리콘 용탕이 상기 일방향 응고부로 공급되는 동안 상기 실리콘 용탕으로 덮어져 유지되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
| 6 |
6
제 3항에 있어서,상기 실리콘 용융부, 상기 일방향 응고부 또는 격벽부는 구리 재질을 가지는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
| 7 |
7
제 3항에 있어서,상기 격벽의 재질은 세라믹스인 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
| 8 |
8
제 3항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 외측에 배치되며, 유체가 흐르는 유로부를 포함하고,상기 유로부는 복수 개의 슬릿에 의해 형성된 복수의 유로를 포함하는 제 1 유로부와 상기 제 1 유로부에 연장되고, 상기 복수의 유로가 서로 연결되어 하나의 유로를 형성하는 제 2 유로부를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
| 9 |
9
제 3항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 각 외측에 배치된 각각의 유로부를 포함하고,상기 인접한 외측에 배치된 유로부들은 상기 실리콘 용융부의 내부를 관통하여 서로 공간적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련장치
|
| 10 |
10
제 3항에 있어서,상기 실리콘 용융부는 외측에 배치된 복수의 유로부를 갖고,상기 복수의 유로부 중 적어도 어느 하나의 유로부의 유로 폭은 나머지 유로부의 유로 폭보다 큰 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
| 11 |
11
제 10항에 있어서,상기 유로부는 상기 격벽 내부와 공간적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 실리콘의 정련 장치
|
