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태양전지의 전면 반사 방지막이나 전면전극 또는 후면 반사막으로 사용되는 투명전도막으로서, 광투과층(100)과;일면은 상기 광투과층(100)에 접하고, 타면에는 표면 텍스처 구조가 형성된 광포획층(200)으로 구성되며,상기 광투과층(100)의 전기전도도 A와 상기 광포획층(200)의 전기전도도 a는 A003e#a의 관계가 있고, 상기 광투과층(100)의 에칭성 B와 상기 광포획층(200)의 에칭성 b는 B003c#b의 관계가 있는 것에 있어서,상기 광투과층(100)은 두께가 50-200nm인 산화인듐주석(ITO : Indium Tin Oxide)층인 것을 특징으로 하는 이중구조 투명전도막
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청구항 1에 있어서, 상기 산화인듐주석(ITO)층의 비저항이 10Ω/sq 이하인 것을 특징으로 하는 이중구조 투명전도막
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제 1항에 있어서, 상기 광포획층(200)의 표면 텍스처 구조가 형성된 면의 표면거칠기가 10nm 이상인 것을 특징으로 하는 이중구조 투명전도막
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제 4항에 있어서, 상기 광포획층(200)은 알루미늄, 갈륨 또는 붕소가 도핑된 산화아연(Al Doped ZnO : AZO, Ga Doped ZnO : GZO, B Doped ZnO : BZO), 플루오르가 도핑된 산화주석(F-doped SnO2), 탄소나노튜브(CNT) 필름, 그래핀 중 하나를 선택하여 형성시킨 것임을 특징으로 하는 이중구조 투명전도막
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제 4항에 있어서, 상기 광포획층(200)의 두께는 500-1000nm인 것을 특징으로 하는 이중구조 투명전도막
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태양전지의 전면 반사 방지막이나 전면전극 또는 후면 반사막으로 사용되는 투명전도막을 제조하는 방법으로서,기판에 50-200nm의 증착 두께로 산화인듐주석(ITO : Indium Tin Oxide)의 광투과층을 형성하는 단계(s100);상기 광투과층 위에 광포획층을 형성하는 단계(s200); 및 상기 광포획층의 표면을 에칭하여 표면 텍스처 구조를 형성하는 단계(s300)를 포함하며,상기 광투과층의 전기전도도 A와 상기 광포획층의 전기전도도 a는 A003e#a의 관계가 있고, 상기 광투과층의 에칭성 B와 상기 광포획층의 에칭성 b는 B003c#b의 관계가 있는 것을 특징으로 하는 이중구조 투명전도막의 제조방법
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제 7항에 있어서, 기판에 산화인듐주석(ITO : Indium Tin Oxide)의 광투과층을 형성하는 단계(s100)는 RF 마그네트론 스퍼터링, DC 마그네트론 스퍼터링, MF 마그네트론 스퍼터링, 열증발법, 전자빔증발법, 열분무법 중 하나의 방법을 선택하여 증착시켜 수행되는 것을 특징으로 하는 이중구조 투명전도막의 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 기판에 산화인듐주석(ITO : Indium Tin Oxide)의 광투과층을 형성하는 단계(s100)의 광투과층의 도핑농도가 0
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제 8항에 있어서, 상기 기판에 산화인듐주석(ITO : Indium Tin Oxide)의 광투과층을 형성하는 단계(s100)의 상기 증착시 증착압력이 0
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제 8항에 있어서, 상기 기판에 산화인듐주석(ITO : Indium Tin Oxide)의 광투과층을 형성하는 단계(s100)는 증착시 증착파워밀도가 0
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제 7항에 있어서, 상기 광투과층 위에 광포획층을 형성하는 단계(s200)의 광포획층은 광투과층 위에, 알루미늄, 갈륨 또는 붕소가 도핑된 산화아연(Al Doped ZnO : AZO, Ga Doped ZnO : GZO, B Doped ZnO : BZO), 플루오르가 도핑된 산화주석(F-doped SnO2), 탄소나노튜브(CNT) 필름, 그래핀 중 하나를 선택하여 증착시키는 것을 특징으로 하는 이중구조 투명전도막의 제조방법
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제 13항에 있어서, 상기 광투과층 위에 광포획층을 형성하는 단계(s200)의 광포획층은 증착압력 0
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제 13항에 있어서, 상기 광투과층 위에 광포획층을 형성하는 단계(s200)의 광포획층은 150℃ 이하의 온도로 증착되어 형성되는 것을 특징으로 하는 이중구조 투명전도막의 제조방법
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제 13항에 있어서, 상기 광투과층 위에 광포획층을 형성하는 단계(s200)의 광포획층의 증착시 증착파워밀도는 0
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제 13항에 있어서, 상기 광투과층 위에 광포획층을 형성하는 단계(s200)의 광포획층의 증착시 증착두께는 500-1000nm인 것을 특징으로 하는 이중구조 투명전도막의 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 광포획층의 표면을 에칭하여 표면 텍스처 구조를 형성하는 단계(s300)는 농도 0
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제 18항에 있어서, 상기 광포획층의 표면을 에칭하여 표면 텍스처 구조를 형성하는 단계(s300)는 10-90초 동안 에칭하는 것임을 특징으로 하는 이중구조 투명전도막의 제조방법
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태양전지를 제조하는 방법에 있어서, 상기 제7항 내지 제11항, 제13항 내지 제19항 중 어느 한 항의 이중구조 투명전도막의 제조방법을 포함하여 제조하는 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조방법
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기판과, 상기 기판 상의 후면전극층과, 광흡수층 상의 버퍼층과, 상기 버퍼층 상의 투명전도층을 포함하는 태양전지에 있어서, 상기 투명전도층은 제 1항, 제3항 내지 제6항 중 어느 한 항의 이중구조 투명전도막인 것을 특징으로 하는 태양전지
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