1 |
1
산소이온 전도체를 포함하는 제 1상; 및전자전도성 또는 혼합전도성 전도체로 표면이 코팅된 탄소섬유의 형태로 구성된 제 2 상을 포함하는 이중상 산소분리막
|
2 |
2
제 1항에 있어서,상기 산소이온 전도체는 형석 구조 산화물 또는 페롭스카이트 구조 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막
|
3 |
3
제 1항에 있어서,상기 전자전도성 또는 혼합전도성 전도체는 페롭스카이트 구조 산화물 또는 스피넬 구조 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막
|
4 |
4
제 2항에 있어서, 상기 형석 구조 산화물은 이트리아 안정화 지르코니아(yttria-stabilized zirconia, YSZ), 스칸디아 안정화 지르코니아(Scandia-stabilized zirconia, ScSZ), 희토류로 안정화된 비스무트 산화물(Stabilized Bismuth oxide), 사마륨 주입된 세리아(samarium-doped ceria, SDC), 란타늄 주입된 세리아 (lanthanum-doped ceria, LDC) 및 가돌리늄 주입된 세리아(gadolinium-doped ceria, GDC)로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상인 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막
|
5 |
5
제 2 항에 있어서, 상기 페롭스카이트 구조 산화물은 LaGaO3 인 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막
|
6 |
6
제 3 항에 있어서, 상기 페롭스카이트 구조 산화물은 란타늄 스트론튬 코발타이트(Lanthanum strontium cobaltite, LSC), 란타늄 스트론튬 페라이트(Lanthanum strontium ferrite, LSF), 란타늄 스트론튬 망가나이트(Lanthanum strontium Manganite, LSM), 란타늄 스트론튬 크로마이트(Lanthanum strontium chromite, LSCr), 칼슘 티타네이트 페라이트(Calcium Titanate Ferrite, CTF, CaTiFeO3), 바륨 스트론튬 코발트 페라이트(Barium Strontium Cobalt Ferrite, BSCF), 스트론튬 티타네이트 페라이트(Strontium Titanate Ferrite, STF) 및 란타늄 스트론튬 코발트 페라이트(Lanthanum strontium cobalt ferrite, LSCF)로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상인 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막
|
7 |
7
제 3 항에 있어서, 상기 스피넬 구조 산화물은 망간 페라이트(MnFe2O4), 니켈 페라이트(NiFe2O4) 및 코발트 페라이트(CoFe2O4)로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상인 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막
|
8 |
8
(a) 산소이온 전도체 분말을 제조하는 단계; (b) 전자전도성 또는 혼합전도성 전도체를 탄소섬유 표면에 코팅하는 단계; (c) 상기 산소이온 전도체 분말과 상기 표면이 코팅된 탄소섬유를 혼합하는 단계; 및(d) 상기 혼합물을 소결하는 단계를 포함하는 이중상 산소분리막 제조방법
|
9 |
9
제 8 항에 있어서, 상기 (a) 단계는 산소이온 전도체의 원료가 되는 금속 산화물 분말을 기계적으로 혼합한 후 열처리 반응에 의해 제조하는 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막 제조방법
|
10 |
10
제 8 항에 있어서, 상기 (a) 단계는 산소이온 전도체의 원료가 되는 금속 나이트레이트 또는 금속 클로라이드를 물에 용해한 후, 킬레이트제로 킬레이트 시켜 전구체 용액을 제조하는 단계; 및 상기 전구체 용액의 침전반응 또는 용액 내 유기물의 열분해 반응에 의해 제조하는 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막 제조방법
|
11 |
11
제 8 항에 있어서, 상기 (a) 단계는 산소이온 전도체의 원료가 되는 금속 나이트레이트 또는 금속 클로라이드를 중합 가능한 유기용매와 혼합하여 전구체 용액을 제조하는 단계; 및 상기 전구체 용액의 열분해 반응에 의해 제조하는 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막 제조방법
|
12 |
12
제 8 항에 있어서, 상기 (b) 단계는 전자전도성 또는 혼합전도성 전도체의 원료가 되는 금속 나이트레이트 또는 금속 클로라이드를 중합 가능한 유기용매와 혼합하여 전구체 용액을 제조하는 단계; 탄소섬유 또는 표면이 무기산으로 산화된 탄소섬유를 상기 전구체 용액에 분산시키는 단계; 및 분산 후 상기 전구체 용액의 열분해 반응에 의해 전자전도성 또는 혼합전도성 전도체를 탄소섬유 표면에 코팅하는 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막 제조방법
|
13 |
13
제 8 항에 있어서, 상기 (b) 단계는 전자전도성 또는 혼합전도성 전도체의 원료가 되는 금속 나이트레이트 또는 금속 클로라이드를 물에 용해한 후, 킬레이트제로 킬레이트 시켜 전구체 용액을 제조하는 단계; 탄소섬유 또는 표면이 무기산으로 산화된 탄소섬유를 상기 전구체 용액에 분산시키는 단계; 및 분산 후 상기 전구체 용액 내의 유기물 열분해 반응에 의해 전자전도성 또는 혼합전도성 전도체를 탄소섬유 표면에 코팅하는 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막 제조방법
|
14 |
14
제 8 항에 있어서, 상기 (b) 단계는 전자전도성 또는 혼합전도성 전도체의 원료가 되는 금속 나이트레이트 또는 금속 클로라이드를 물에 용해한 후, 킬레이트제로 킬레이트 시켜 전구체 용액을 제조하는 단계; 탄소섬유 또는 표면이 무기산으로 산화된 탄소섬유를 상기 전구체 용액에 분산 시키는 단계; 분산 후 60~100℃ 에서 전자전도성 또는 혼합전도성 전도체를 탄소섬유 표면에 코팅하는 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막 제조방법
|
15 |
15
제 10 항, 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서, 상기 킬레이트제는 구연산, EDTA, 아세트산 및 글리신으로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막 제조방법
|
16 |
16
제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, 중합 가능한 유기용매는 에틸렌 글리콜, 폴리올 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막 제조방법
|
17 |
17
제 12 항, 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서, 상기 무기산은 황산, 염산 및 질산으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이중상 산소분리막 제조방법
|